CN201834972U - 一种含铜离子酸性蚀刻液再生系统 - Google Patents

一种含铜离子酸性蚀刻液再生系统 Download PDF

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Abstract

本实用新型适用于蚀刻领域，提供了一种含铜离子酸性蚀刻液再生系统，该再生系统包括蚀刻缸、蚀刻废液中转槽、离子膜电解槽、再生蚀刻液槽，该离子膜电解槽通过离子交换膜分为阳极室和阴极室，该蚀刻废液中转槽将蚀刻缸和阳极室相连通，该蚀刻废液中转槽储存来自于蚀刻缸中并用于供给至阳极室的蚀刻废液，该再生蚀刻液槽将阳极室和蚀刻缸相连通，该再生蚀刻液槽储存阳极室中再生蚀刻液并用于提供至蚀刻缸。本实用新型再生系统，利用氯离子电解产生强氧化剂氯气，来氧化蚀刻废液中的亚铜离子，解决了现有技术需要额外添加氧化剂来氧化亚铜离子的技术问题，降低了生成成本，而且不添加杂质到再生蚀刻液中，保证了再生蚀刻液和新鲜蚀刻液的一致性。

Description

一种含铜离子酸性蚀刻液再生系统
技术领域
本实用新型属于蚀刻技术领域，尤其涉及一种含铜离子酸性蚀刻液再生系统。
背景技术
全球PCB产业产值占电子元件产业总产值的四分之一以上，是各个电子元件细分产业中比重最大的产业，产业规模达400亿美元。同时，由于其在电子基础产业中的独特地位，已经成为当代电子元件业中最活跃的产业。
蚀刻作为PCB制程中的重要工艺，酸性蚀刻液因为具有侧蚀小、速率易于控制和易再生等特点，被广泛应用。在蚀刻过程中，Cu2+与Cu作用生成Cu+，随着蚀刻反应的进行，Cu+数量越来越多，Cu2+减少，蚀刻液蚀刻能力很快下降，为保持稳定蚀刻能力，需加入氧化剂使Cu+尽快转化为Cu2+。
目前，酸性蚀刻液一般为添加H2O2或NaClO3药剂进行再生，但相对成本较高，且不符合清洁生产要求。
实用新型内容
有鉴于此，本实用新型提供一种含铜离子酸性蚀刻液再生系统，解决现有技术酸性蚀刻液再生需要额外添加氧化剂的技术问题。
本实用新型是这样实现的，
一种含铜离子酸性蚀刻液再生系统，该再生系统包括蚀刻缸、蚀刻废液中转槽、离子膜电解槽、再生蚀刻液槽，该离子膜电解槽通过离子交换膜分为阳极室和阴极室，该蚀刻废液中转槽将蚀刻缸和阳极室相连通，该蚀刻废液中转槽储存来自于蚀刻缸中并用于供给至阳极室的蚀刻废液，该再生蚀刻液槽将阳极室和蚀刻缸相连通，该再生蚀刻液槽储存阳极室中再生蚀刻液并用于提供至蚀刻缸。
进一步，本实用新型再生系统还包括将阳极室和蚀刻缸相连通，并用于将阳极室中的氯气导入至蚀刻缸中的射流装置。
进一步，本实用新型再生系统还包括废气处理装置，该废气处理装置分别和阴极室、再生蚀刻液槽、蚀刻液中转槽相连通。
进一步，本实用新型再生系统还包括与阴极室相连通并提供给阴极室氯离子的氯化物储存槽。
进一步，本实用新型再生系统中的废气处理装置还包括碱液喷淋装置。
本实用新型再生系统，利用氯离子电解原理产生强氧化剂氯气，氧化蚀刻废液中的亚铜离子，解决了现有技术中额外地添加氧化剂来氧化亚铜离子的技术问题，降低了生成成本，而且不添加杂质到再生的蚀刻液中，保证了再生的蚀刻液和新鲜的蚀刻液的一致性。
附图说明
图1是本实用新型实施例一再生系统示意图；
图2是本实用新型实施例离子膜电解槽结构示意图；
图3是本实用新型实施例阴极室和氯化物储存槽结构示意图；
图4是本实用新型实施例二再生系统示意图；
图5是本实用新型实施例三再生系统示意图。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
请参阅图1，本实用新型实施例一的再生系统，包括蚀刻缸1、蚀刻废液中转槽2、离子膜电解槽3、再生蚀刻液槽4，该离子膜电解槽3分为阳极室31和阴极室32，该蚀刻废液中转槽2将蚀刻缸1和阳极室相连通31，该蚀刻废液中转槽2储存蚀刻缸1中的蚀刻废液并提供至阳极室31，该再生蚀刻液槽4将阳极室31和蚀刻缸1相连通，该再生蚀刻液槽4储存阳极室31中的再生蚀刻液并提供至蚀刻缸1。
本实用新型实施例提供的含铜离子蚀刻液再生系统，蚀刻废液中转槽2和蚀刻缸1、阳极室31相连通，储存蚀刻缸1中的蚀刻废液，并且将该蚀刻废液提供至阳极室31中，在阳极室31发生氧化反应，将蚀刻废液再生。阳极室31得到的再生蚀刻液储存至再生蚀刻液槽4中并且通过再生蚀刻液槽4提供至蚀刻缸1中。
本实用新型实施例中蚀刻液含有铜离子，并且铜离子对蚀刻起主要作用；蚀刻废液中含有少量的铜离子和大量的亚铜离子，这使得蚀刻液的蚀刻能力大大降低。
请参阅图2，显示本实用新型实施例离子膜电解槽的结构。离子膜电解槽3中有一离子交换膜5，将离子膜电解槽3分为阳极室31和阴极室32，在阳极室31内设置有阳极板33，该阳极板33是钛涂层板；在阴极室32内设置有阴极板34，该阴极板34是不锈钢板；阳极板33、阴极板34分别和相应的电流装置连接。
进一步，请参阅3，阴极室32和氯化物储存槽6相连通，该氯化物储存槽中的氯化物能够溶于水，电离出氯离子，为阴极室提供氯离子，使得阴极室32中含有大量的氯离子，氯离子在离子交换膜5和电场作用下，迁移至阳极室32中从而维持阳极室32的氯离子浓度，阳极室31中，在电解作用下，氯离子失去电子，生成氯气，具体反应式表示为：2Cl--2e＝Cl2，但是由于离子交换膜5的作用，能够使阳极室31中的氯离子得到补充。由于氯气的强氧化作用，将阳极室中的亚铜离子氧化为铜离子，具体反应式表示为：Cl2+2Cu+＝2Cu2++2Cl-。阳极室31中，由于氧化反应，亚铜离子被氧化为铜离子，从而实现了含铜离子酸性蚀刻液的再生。
请参阅图4，和本实用新型实施例一的再生系统相比，实施例二的再生系统，还包括射流装置7，该射流装置7将阳极室31、蚀刻缸1相连接，其作用是将阳极室31中未发生反应的氯气导入至蚀刻缸1中。如前面实施例一中所述，在阳极室31中会有氯气产生，虽然氯气会和亚铜离子进行进一步反应，但是不能保证所有的氯气都参与至氧化反应中。射流装置7将这部分没有参加氧化反应而溢出的氯气导入至蚀刻缸1中，在蚀刻缸1中，氯气将其中的亚铜离子氧化生成铜离子，反应式表示为CL2+2Cu+＝2Cu2++2CL-，这样一方面能够增加蚀刻缸1中铜离子的浓度，还能够防止氯气作为废气排出而污染环境。
请参阅图5，和本实用新型实施例二的再生系统相比，实施例三的再生系统还包括一个废气处理装置8，该废气处理装置8分别和阴极室32、再生蚀刻液槽4、蚀刻液中转槽2相连通，收集阴极室32、再生蚀刻液槽4、蚀刻液中转槽2中的废气(氯气和氯化氢)，在废气处理装置8中，包括一个强碱液供应装置9，该强碱液供应装置提供强碱溶液，利用强碱溶液和上述废气进行中和反应，从而实现废气的零排放。在一个具体实施例中，该强碱液供应装置为强碱液喷淋装置。该强碱溶液没有限制，可以为氢氧化钠、氢氧化钾等。
本实用新型再生系统，利用氯离子电解原理产生强氧化剂氯气，来氧化蚀刻废液中的亚铜离子，解决了现有技术中额外地添加氧化剂来氧化亚铜离子的技术问题，降低了生成成本，而且不添加杂质到再生的蚀刻液中，保证了再生的蚀刻液和新鲜的蚀刻液的一致性。
本实用新型再生系统的射流装置保证电解产生的氯气不直接排放而是返回至蚀刻缸中，一方面提高了氯气的利用率，另一方面也减少了废气的排放量，减少环境污染。
本实用新型再生系统的废气处理装置，对本再生系统产生的废气如氯气、氯化氢气体进行中和处理，保证了废气的零排放，实现了环保的要求。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (5)

1.一种含铜离子酸性蚀刻液再生系统，其特征在于，所述再生系统包括蚀刻缸、蚀刻废液中转槽、离子膜电解槽、再生蚀刻液槽，所述离子膜电解槽通过离子交换膜分为阳极室和阴极室，所述蚀刻废液中转槽将蚀刻缸和阳极室相连通，所述蚀刻废液中转槽储存来自于蚀刻缸中并用于供给至阳极室的蚀刻废液，所述再生蚀刻液槽将阳极室和蚀刻缸相连通，所述再生蚀刻液槽储存阳极室中再生蚀刻液并用于提供至蚀刻缸。
2.如权利要求1所述的含铜离子酸性蚀刻液再生系统，其特征在于：所述再生系统还包括将阳极室和蚀刻缸相连通，并用于将阳极室中的氯气导入至蚀刻缸中的射流装置。
3.如权利要求1或2所述的含铜离子酸性蚀刻液再生系统，其特征在于：所述再生系统还包括废气处理装置，所述废气处理装置分别和阴极室、再生蚀刻液槽、蚀刻液中转槽相连通。
4.如权利要求3所述的含铜离子酸性蚀刻液再生系统，其特征在于：所述再生系统还包括与阴极室相连通并提供给阴极室氯离子的氯化物储存槽。
5.如权利要求3所述的含铜离子酸性蚀刻液再生系统，其特征在于，所述废气处理装置还包括碱液喷淋装置。
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Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102321908A (zh) * 2011-09-02 2012-01-18 广州市天承化工有限公司 酸性氯化物蚀刻液的循环再生工艺方法及金属铜回收系统
CN102560499A (zh) * 2012-02-03 2012-07-11 昆山市洁驰环保科技发展有限公司 一种印制线路板酸性蚀刻液循环再生装置
CN103451676A (zh) * 2012-06-01 2013-12-18 库特勒自动化系统(苏州)有限公司 印刷板蚀刻废液处理系统和方法
CN103523977A (zh) * 2012-07-03 2014-01-22 库特勒自动化系统(苏州)有限公司 印刷板蚀刻废液处理系统和方法
CN103628071A (zh) * 2012-08-24 2014-03-12 成都虹华环保科技有限公司 酸性蚀刻液循环再生设备
CN104630825A (zh) * 2015-01-20 2015-05-20 昆山美源达环保科技有限公司 一种酸性蚀刻液电解提铜装置及其工艺
CN104711636A (zh) * 2015-02-11 2015-06-17 昆山市益民环保技术开发有限公司 印刷电路板酸性蚀刻废液处理方法
CN104911597A (zh) * 2015-07-02 2015-09-16 深圳市洁驰科技有限公司 一种印刷电路板酸性蚀刻液废气吸收装置
CN105039989A (zh) * 2015-06-26 2015-11-11 无锡市瑞思科环保科技有限公司 一种酸性氯化体系含铜蚀刻废液电积脱铜及再生的方法
CN105177581A (zh) * 2015-09-09 2015-12-23 成都虹华环保科技股份有限公司 一种具有尾气处理功能的酸性蚀刻废液循环再生系统
CN105177582A (zh) * 2015-09-09 2015-12-23 成都虹华环保科技股份有限公司 一种再生液再循环的酸性蚀刻废液循环再生系统
WO2017041470A1 (zh) * 2015-09-09 2017-03-16 成都虹华环保科技股份有限公司 一种具有尾气处理功能的酸性蚀刻废液循环再生系统
CN108411304A (zh) * 2018-03-19 2018-08-17 华南理工大学 利用氧气阴极还原生成的过氧化氢与阳极氧化生成的氯气协同氧化再生酸性蚀刻废液的方法
CN109485210A (zh) * 2019-01-12 2019-03-19 深圳市泓达环境科技有限公司 污泥处理方法及其设备

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102321908A (zh) * 2011-09-02 2012-01-18 广州市天承化工有限公司 酸性氯化物蚀刻液的循环再生工艺方法及金属铜回收系统
CN102560499A (zh) * 2012-02-03 2012-07-11 昆山市洁驰环保科技发展有限公司 一种印制线路板酸性蚀刻液循环再生装置
CN103451676A (zh) * 2012-06-01 2013-12-18 库特勒自动化系统(苏州)有限公司 印刷板蚀刻废液处理系统和方法
CN103451676B (zh) * 2012-06-01 2016-03-02 陶克（苏州）机械设备有限公司 印刷板蚀刻废液处理系统和方法
CN103523977A (zh) * 2012-07-03 2014-01-22 库特勒自动化系统(苏州)有限公司 印刷板蚀刻废液处理系统和方法
CN103628071A (zh) * 2012-08-24 2014-03-12 成都虹华环保科技有限公司 酸性蚀刻液循环再生设备
CN104630825A (zh) * 2015-01-20 2015-05-20 昆山美源达环保科技有限公司 一种酸性蚀刻液电解提铜装置及其工艺
CN104711636A (zh) * 2015-02-11 2015-06-17 昆山市益民环保技术开发有限公司 印刷电路板酸性蚀刻废液处理方法
CN105039989A (zh) * 2015-06-26 2015-11-11 无锡市瑞思科环保科技有限公司 一种酸性氯化体系含铜蚀刻废液电积脱铜及再生的方法
CN105039989B (zh) * 2015-06-26 2017-10-17 无锡市瑞思科环保科技有限公司 一种酸性氯化体系含铜蚀刻废液电积脱铜及再生的方法
CN104911597A (zh) * 2015-07-02 2015-09-16 深圳市洁驰科技有限公司 一种印刷电路板酸性蚀刻液废气吸收装置
CN105177581A (zh) * 2015-09-09 2015-12-23 成都虹华环保科技股份有限公司 一种具有尾气处理功能的酸性蚀刻废液循环再生系统
CN105177582A (zh) * 2015-09-09 2015-12-23 成都虹华环保科技股份有限公司 一种再生液再循环的酸性蚀刻废液循环再生系统
WO2017041470A1 (zh) * 2015-09-09 2017-03-16 成都虹华环保科技股份有限公司 一种具有尾气处理功能的酸性蚀刻废液循环再生系统
CN108411304A (zh) * 2018-03-19 2018-08-17 华南理工大学 利用氧气阴极还原生成的过氧化氢与阳极氧化生成的氯气协同氧化再生酸性蚀刻废液的方法
CN109485210A (zh) * 2019-01-12 2019-03-19 深圳市泓达环境科技有限公司 污泥处理方法及其设备

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