CN201729900U - 微电子元件框架高速电镀用电镀槽 - Google Patents

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沈磊
刘同华
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Abstract

本实用新型公开了一种微电子元件框架高速电镀用电镀槽,包括外槽,外槽内设置有内槽,其特征在于,所述内槽的槽壁上设置有开口,所述开口处设置有两块成八字形设置的第一导流板。本实用新型中的微电子元件框架高速电镀用电镀槽,当微电子框架经过电镀槽时,由于导流板的引导,所以不会发生微电子框架被卡住、易掉落的现象;且由于导流板的作用,溶液的流动更加平稳、有序,更有利于产品镀层厚度的均匀性。提高了产品质量。

Description

微电子元件框架高速电镀用电镀槽
技术领域
本实用新型涉及一种微电子元件框架高速电镀用电镀槽。
背景技术
半导体行业中,微电子元件在生产过程中都是集中在框架上的,在最终成品时需要对微电子框架表面进行电镀处理。微电子框架的总体形状为长方形薄片状,如图1所示为一种微电子框架1的结构示意图,其包括环氧封装体11,每个环氧塑封体11上安装有多个引脚12。多个环氧塑封体11通过固定框13固定,成为微电子框架1。
为适应工业化需要,微电子框架的电镀是大规模同时在高速电镀线进行电镀。因此,在电镀时,需要用钢带把一条条微电子框架夹在上面,然后随着钢带通过依次排列的多个电镀槽,微电子框架浸在电镀液中进行电镀。现有技术中使用的电镀槽如图2所示,其包括外槽5,外槽5内设置有内槽3。外槽5和内槽3均为长方形槽,外槽5内可沿钢带4的运动方向依次设置多个内槽3,图中仅示出一个内槽3。内槽3的槽壁上设置有沿电镀液深度方向延伸的开口,以便钢带4穿过时能够将微电子框架浸入电镀液内。由于设置开口,电镀液容易从开口处溢出。现有技术中,为阻挡电镀液从开口处溢出,在开口处设置两个销子(31A,31B),两个销子(31A,31B)上分别套装一个挡液圈(32A,32B),挡液圈(32A,32B)直径大于销子(31A,31B),因此,挡液圈(32A,32B)可活动地套设在销子(31A,31B)上,用于阻挡电镀液溢出,以保证内槽里存有足够的电镀液。但在实际电镀过程中,微电子框架在液流的冲击下会发生前后摇摆,所以微电子框架经过挡水圈时常常被卡住、导致微电子框架从钢带上掉落,给生产带来了麻烦和使生产不能连续,且会使微电子框架报废,影响合格率。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了克服现有技术中的不足,提供一种既能保证电镀槽内的电镀液足够多,又能不损害微电子框架的微电子元件框架高速电镀用电镀槽。
为实现以上目的,本实用新型通过以下技术方案实现:
微电子元件框架高速电镀用电镀槽,包括外槽,外槽内设置有内槽,其特征在于,所述内槽的槽壁上设置有开口,所述开口处设置有两块成八字形设置的第一导流板。
优选地是,所述的两块第一导流板夹角为70°~80°。
优选地是,两块第一导流板不相交,两块第一导流板最近处的距离为引线框架厚度的2~3倍。
优选地是,所述内槽的槽壁上还设置有溢流口
优选地是,所述开口处,设置有与第一导流板镜像设置的第二导流板,第一导流板与第二导流板相接。
原活动挡水圈的自动调节溶液液位高度的作用,完全可以通过以下方法实现:当抽液泵的抽液速度大于、等于其电镀内槽的导流缝隙所外泄的溶液速度,一部分多余的溶液会通过内槽的溢流口外溢至外槽,从而使电镀溶液液位的稳定。
本实用新型中的微电子元件框架高速电镀用电镀槽,当微电子框架经过电镀槽时,由于导流板的引导,所以不会发生微电子框架被卡住、易掉落的现象;且由于导流板的作用,溶液的流动更加平稳、有序,更有利于产品镀层厚度的均匀性。提高了产品质量。
附图说明
图1为现有技术中使用的微电子框架结构示意图。
图2为现有技术中使用的电镀槽俯视图。
图3本实用新型俯视图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型进行详细的描述:
如图3所示,微电子元件框架高速电镀用电镀槽2,包括外槽21,外槽21内设置有内槽22。外槽21和内槽22均为长方形槽,并具有一定的深度,以容纳电镀液。
内槽22的槽壁23上设置有开口231,开口231沿电镀液深度方向延伸一定的长度,以使钢带4可从开口处穿过,且能够使微电子框架浸入电镀液内。开口231处设置有两块成八字形设置的第一导流板(25A,25B)。如图4所示,两块第一导流板(25A,25B)夹角A为70°~80°。两块第一导流板(25A,25B)不相交,其最近处的距离L为微电子框架厚度的2-3倍,以免导流板碰撞微电子框架。
开口231处还设置有与第一导流板(25A,25B)镜像设置的第二导流板(26A,26B),第一导流板(25A,25B)与第二导流板(26A,26B)相接。第一导流板(25A,25B)与第二导流板(26A,26B)组成一个两端开口宽,中间窄的钢带通道。
内槽22的槽壁24上设置有开口241,开口241处设置有第一导流板(27A,27B)与第二导流板(28A,28B),第一导流板(27A,27B)与第二导流板(28A,28B)组成一个两端开口宽,中间窄的钢带通道。
内槽21的槽壁上还设置有溢流口221。
使用时,钢带4携带微电子框架(图中未示出)从左向右运动,及钢带4从槽壁23向槽壁24运动,依次穿过开口231和开口241。在钢带穿过开口231和开口241时,第一导流板和第二导流板既可以起导向作用,又可以维持内槽里的电镀液液面稳定,可避免电镀液过少而影响电镀效果。
本实用新型中的实施例仅用于对本实用新型进行说明,并不构成对权利要求范围的限制,本领域内技术人员可以想到的其他实质上等同的替代,均在本实用新型保护范围内。

Claims (5)

1.微电子元件框架高速电镀用电镀槽,包括外槽,外槽内设置有内槽,其特征在于,所述内槽的槽壁上设置有开口,所述开口处设置有两块成八字形设置的第一导流板。
2.根据权利要求1所述的微电子元件框架高速电镀用电镀槽,其特征在于,所述的两块第一导流板夹角为70°~80°。
3.根据权利要求2所述的微电子元件框架高速电镀用电镀槽,其特征在于,两块第一导流板不相交,两块第一导流板最近处的距离为引线框架厚度的2~3倍。
4.根据权利要求1所述的微电子元件框架高速电镀用电镀槽,其特征在于,所述内槽的槽壁上还设置有溢流口。
5.根据权利要求1至4任一权利要求所述的微电子元件框架高速电镀用电镀槽,其特征在于,所述开口处,设置有与第一导流板镜像设置的第二导流板,第一导流板与第二导流板相接。
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104313668A (zh) * 2014-09-30 2015-01-28 苏州芯航元电子科技有限公司 电子产线用电化学处理槽
CN104862767A (zh) * 2015-05-29 2015-08-26 东莞市开美电路板设备有限公司 镀铜槽
CN105434173A (zh) * 2015-08-11 2016-03-30 新昌县恒泰隆机械设备有限公司 一种螺旋桨上胶式蘸胶槽及胶囊生产线
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CN106610677A (zh) * 2015-11-30 2017-05-03 深圳市今明机械有限公司 一种工业截流水槽和截流方法
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CN108070894A (zh) * 2016-11-16 2018-05-25 昆山科比精工设备有限公司 一种新型电镀铜槽进出口段的挡水缓冲装置
CN112495926A (zh) * 2020-12-02 2021-03-16 盛青永致半导体设备(苏州)有限公司 一种用于化学镀或清洗的装置及方法

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104313668A (zh) * 2014-09-30 2015-01-28 苏州芯航元电子科技有限公司 电子产线用电化学处理槽
CN104862767A (zh) * 2015-05-29 2015-08-26 东莞市开美电路板设备有限公司 镀铜槽
CN105434173A (zh) * 2015-08-11 2016-03-30 新昌县恒泰隆机械设备有限公司 一种螺旋桨上胶式蘸胶槽及胶囊生产线
CN105434174A (zh) * 2015-08-11 2016-03-30 新昌县恒泰隆机械设备有限公司 一种蘸胶槽及胶囊生产线
CN106610677A (zh) * 2015-11-30 2017-05-03 深圳市今明机械有限公司 一种工业截流水槽和截流方法
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CN108070894B (zh) * 2016-11-16 2023-11-10 昆山科比精工设备有限公司 一种电镀铜槽进出口段的挡水缓冲装置
CN107233212A (zh) * 2017-06-30 2017-10-10 浙江大之医药胶囊有限公司 一种蘸胶槽
CN112495926A (zh) * 2020-12-02 2021-03-16 盛青永致半导体设备(苏州)有限公司 一种用于化学镀或清洗的装置及方法
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