CN201717331U - 一种新型锂离子电池 - Google Patents

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吴合年
梁锋
孙嘉遥
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Shenzhen China Hualian Technology Co., Ltd.
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Abstract

本实用新型公开了一种新型锂离子电池，包括电池壳、盖板和设置在电池壳内的电芯，所述电芯上设有正极耳和负极耳，所述正极耳和负极耳分别与盖板的正负极连接，其特征在于：在所述正极耳和负极耳上分别套有一个绝缘隔离片。本实用新型的锂离子电池由于分别在正极耳和负极耳上套有一绝缘隔离片，避免极耳弯曲时与正极片或负极片接触，提高电池的安全性能。

Description

一种新型锂离子电池
技术领域
[0001] 本实用新型涉及锂离子电池领域，特别涉及一种高安全的锂离子电池。 背景技术
[0002] 一般金属壳锂离子电池电芯上分别设有正极耳和负极耳，正极耳和负极耳和电池 盖板的正负极连接，但正极耳和负极耳和盖板焊接后，会在电池壳内弯曲，这样导致容易与 电芯上的正、负极片连接，造成短路。
发明内容
[0003] 为克服上述技术缺陷，本实用新型公开了一种高安全的新型锂离子电池。
[0004] 本实用新型的技术方案如下所述：一种新型锂离子电池，包括电池壳、盖板和设置 在电池壳内的电芯，所述电芯上设有正极耳和负极耳，所述正极耳和负极耳分别与盖板的 正负极连接，其特征在于：在所述正极耳和负极耳上分别套有一个绝缘隔离片。
[0005] 优选地，所述绝缘隔离片上设有多个通孔。
[0006] 优选地，所述绝缘隔离片是椭圆形。
[0007] 优选地，所述绝缘隔离片是方形。
[0008] 本实用新型的锂离子电池由于分别在正极耳和负极耳上套有一绝缘隔离片，避免 极耳弯曲时与正极片或负极片接触，提高电池的安全性能；在绝缘隔离片上设有多个通孔， 避免绝缘隔离片上会保留一些电解液，提高了电池的容量。
附图说明
[0009] 图1是本实用新型的新型锂离子电池内部结构示意图；
[0010] 图2是本实用新型的绝缘隔离片结构示意图。
具体实施方案
[0011] 下面将通过具体实施例对本实用新型进行详细说明。
[0012] 图1是本实用新型的新型锂离子电池内部结构示意图，图2是本实用新型的绝缘 隔离片结构示意图。
[0013] 如图1所示，本实用新型的新型锂离子电池绝包括电池壳、盖板和设置在电池壳 内的电芯11，所述电芯11上设有正极耳12和负极耳13，所述正极耳12和负极耳13分别 与盖板的正负极连接，在所述正极耳12和负极耳13上分别套有一个绝缘隔离片14。优选 地，所述绝缘隔离片14上设有多个通孔。如图2所示，所述绝缘隔离片14是椭圆形或方形， 在绝缘隔离片中央设有方形孔15便于正极耳或负极耳通过。
[0014] 本实用新型的锂离子电池由于分别在正极耳和负极耳上套有一绝缘隔离片，避免 极耳弯曲时与正极片或负极片接触，提高电池的安全性能；在绝缘隔离片上设有多个通孔， 避免绝缘隔离片上会保留一些电解液，提高了电池的容量。[0015] 综上所述，尽管本实用新型通过具体实施例对本实用新型结构进行了详细描述， 但本领域一般技术人员应该明白的是，上述实施例仅仅是对本实用新型的优选实施例的描 述，而非对本实用新型保护范围的限制，本领域一般技术人员在本实用新型所揭露的技术 范围内，可轻易想到的变化，均在本实用新型的保护范围之内。

Claims (4)

  1. 一种新型锂离子电池，包括电池壳、盖板和设置在电池壳内的电芯，所述电芯上设有正极耳和负极耳，所述正极耳和负极耳分别与盖板的正负极连接，其特征在于：在所述正极耳和负极耳上分别套有一个绝缘隔离片。
  2. 2.如权利要求1所述的新型锂离子电池，其特征在于：所述绝缘隔离片上设有多个通孔。
  3. 3.如权利要求1所述的新型锂离子电池，其特征在于：所述绝缘隔离片是椭圆形。
  4. 4.如权利要求1所述的新型锂离子电池，其特征在于：所述绝缘隔离片是方形。
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TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20141027

Address after: Baoan District Songgang Tangxia street Shenzhen city Guangdong province 518000 Bay community Second Industrial Road No. 33 building 1-3 building

Patentee after: Shenzhen China Hualian Technology Co., Ltd.

Address before: Baoan District Songgang Tangxia town Shenzhen city Guangdong province 518105 Industrial Zone Chung Second Industrial Road No. 33

Patentee before: Shenzhen Dong Fang Hua Lian Technology Co., Ltd.

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