CN201567372U - 一种等离子体化学气相沉积设备中的进气控制装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种太阳能电池生产设备中的进气控制装置,具体的说是一种等离子体化学气相沉积设备的进气控制装置。该进气控制装置包括通气管路、温度探棒、加热探棒、电磁阀、PLC控制器,所述的温度探棒、加热探捧和电磁阀设置在进气管内,温度探棒、加热探捧和电磁阀与PLC控制器电连接。本实用新型由于采用上述结构和独特的控制方法,使控制气体的进气量能够更加精确,控制方便,便于对工艺参数的调节。达到了对生产线对进气控制的目的。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种太阳能电池生产设备中的进气控制装置,具体的说是一种等离子体化学气相沉积设备的进气控制装置。
背景技术
在太阳能电池生产中,等离子体化学气相沉积设备在透明导电玻璃上沉积PIN层作为电池的主要结构。阳光照射到太阳能电池PIN层时,通过光生伏达效应进行发电。
太阳能电池质量和等级评定的一个很重要的参数是PIN膜层的均匀性。为了保证PIN膜层的均匀性,就要求等离子体化学气相沉积设备均匀的进气,所以等离子体化学气相沉积设备进气的均匀性在生产过程中就显的尤为重要。并且在等离子体化学气相沉积设备的每个仓室内,有两种或两种以上的气体进所以气体进入设备时,进气量的准确控制就十分重要。
而现有等离子体化学气相沉积设备的进气结构为手动调节阀,进气调节只能通过手动调节来控制进气量。如此控制进气量的方式结果只能造成进气量控制精度不够,并且手动调节阀容易损坏,导致漏气。需要对等离子体化学气相沉积设备的进气方式进行改进,使设备的进气量稳定,进而保证沉积的均匀性。
发明内容
本实用新型的目的是要提供一种结构简单合理,能够精确控制气体进气量,使等离子体化学气相沉积设备对PIN层均匀沉积的等离子体化学气相沉积设备的进气控制装置。
本实用新型的目的是这样实现的:该进气控制装置包括通气管路、温度探棒、加热探棒、电磁阀、PLC控制器,所述的温度探棒、加热探捧和电磁阀设置在进气管内,温度探棒、加热探捧和电磁阀与PLC控制器电连接。
本实用新型由于采用上述结构和独特的控制方法,使控制气体的进气量能够更加精确,控制方便,便于对工艺参数的调节。达到了对生产线对进气控制的目的。
附图说明
图1为等离子体化学气相沉积设备进气控制装置整体结构示意图。
具体实施方式
由图1所示:该进气控制装置包括通气管路1、温度探棒2、加热探棒3、电磁阀4、PLC控制器5,所述的温度探棒2、加热探捧3和电磁阀4设置在进气管内,温度探棒2、加热探捧3和电磁阀4与PLC控制器5电连接。
温度探棒2主要用来监控管道内的温度,当气体有流动时,温度就会发生变化。温度探棒2反溃给PLC信号,进行控制,加热探棒3加热来维持与温度探棒2之间的温度。PLC控制器5就会根据加热棒消耗的电能计算出气体的流量,来控制电磁阀4的开关。以达到控制气体流量的精确控制。
本PLC控制器5程序控制原理采用独特的PID算法控制,PID控制原理是由比例单元(P)、积分单元(I)和微分单元(D)组成。比例(P)调节作用:是按比例反应系统的偏差,系统一旦出现了偏差,比例调节立即产生调节作用,用以减少偏差。积分(I)调节作用:是使系统消除稳态误差,提高无差度。因为有误差,积分调节就进行,直至无差,积分调节停止,积分调节输出一常值。微分(D)调节作用:微分作用反映系统偏差信号的变化率,具有预见性,能预见偏差变化的趋势,因此能产生超前的控制作用,在偏差还没有形成之前,已被微分调节作用消除。
工作时,当两种气体进入到通气管路1时,温度探棒2和加热探棒3之间有一个恒定的温差需要维持。当气体流量变化时,会带走温度探棒2传感器上的热量,传感器温度会降低。为维持这个恒定的温差,需要补充能量。当温差越大时,需要补充的热量越大。电路通过计算将流量大小转换成电信号输出。信号传送到PLC控制器5中进行处理,PLC通过PID作用来控制电磁阀4,以改变进气量的多少。通过PLC控制器5可以做到适时监测,精确控制。使后面的电离均匀,进一步保证镀膜的均匀性。
Claims (1)
1.一种等离子体化学气相沉积设备中的进气控制装置,其特征在于:该进气控制装置包括通气管路(1)、温度探棒(2)、加热探棒(3)、电磁阀(4)、PLC控制器(5),所述的温度探棒(2)、加热探捧(3)和电磁阀(4)设置在进气管内,温度探棒(2)、加热探捧(3)和电磁阀(4)与PLC控制器(5)电连接。
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CN103590004A (zh) * | 2012-08-15 | 2014-02-19 | 苏州宏久航空防热材料科技有限公司 | 一种等离子物理和化学共沉积装置及沉积方法 |
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