CN201305651Y - 多晶硅生产中的氯硅烷、氢气混合的装置 - Google Patents

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CN201305651Y CNU2008202228385U CN200820222838U CN201305651Y CN 201305651 Y CN201305651 Y CN 201305651Y CN U2008202228385 U CNU2008202228385 U CN U2008202228385U CN 200820222838 U CN200820222838 U CN 200820222838U CN 201305651 Y CN201305651 Y CN 201305651Y
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戴自忠
易忠海
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Abstract

本实用新型公开了多晶硅生产中的氯硅烷、氢气混合的装置，其特征在于：包括产品汽化器和静态混合器，产品汽化器和静态混合器之间设置有流量计一，所述产品汽化器、流量计一和静态混合器之间均通过管道连接；所述静态混合器还设置有单独的氢气进口；本实用新型通过调节阀、切断阀和流量计，可以将H2和氯硅烷的比例准确、快速控制；混合气的流量可以准确控制；控制直观、简单，主控人员容易驾驭。

Description

多晶硅生产中的氯硅烷、氢气混合的装置
技术领域
本实用新型涉及多晶硅生产工艺领域，特别是多晶硅生产中的氯硅烷、氢气混合的装置。
背景技术
在多晶硅生产中，原料为精馏系统产品液态氯硅烷和回收系统产品气态氢气，作为原料的液态氯硅烷和气态H2在进入氢还原炉前，需要将其混合。
传统的混合工艺是在鼓泡器内进行混合，混合过程为：在鼓泡器中有一定液位的氯硅烷，然后往鼓泡器内通入H2，使H2和气相饱和氯硅烷混合，然后由出口管道将其气相混合物送入氢还原炉。在混合的过程中，通过控制鼓泡器内氯硅烷的温度来控制它们的比例；控制H2的流量来控制混合原料的体积。
而这种传统的工艺，存在以下缺点：
1、H2和氯硅烷的比例很难控制，而且比例值不准确；
2、需要控制的参数较多，而且不直观，一般操作人员很难驾驭。
对于现在的多晶硅生产，这种使用鼓泡器的传统设备已经无法满足生产要求，所以必须要一种新的原料混合装置来实现氯硅烷和氢气的混合。
发明内容
本实用新型为解决上述问题提供了多晶硅生产中的氯硅烷、氢气混合的装置，非常方便控制原料的混合比例，而且控制简单。
本实用新型的技术方案如下：
多晶硅生产中的氯硅烷、氢气混合的装置，其特征在于：包括产品汽化器和静态混合器，产品汽化器和静态混合器之间设置有流量计一，所述产品汽化器、流量计一和静态混合器之间均通过管道连接；所述静态混合器还设置有单独的氢气进口。
所述产品汽化器和流量计一之间还设置有切断阀，也通过管道连接。
所述装置的具体连接结构为：
所述产品汽化器的下端为液态氯硅烷的进口，产品汽化器的上端为气态氯硅烷的出口，出口与切断阀的进口连接，切断阀的出口与流量计一的进口连接，流量计一的出口与静态混合器的氯硅烷进口连接；所述静态混合器的氢气进口通过管道依次连接有流量计二和调节阀；静态混合器的出口与氢还原炉的进口连接。
所述流量计一和调节阀之间通过管道连接。
所述产品汽化器设置有蒸汽调节阀。
本实用新型的工作原理如下：
回收系统产品气态H2通过调节阀和流量计二静态混合器，进行H2循环(H2压力：0.5～0.65Mpa，温度：15～35℃)；液态氯硅烷进入产品汽化器被蒸汽加热，产品汽化器内的饱和蒸汽(压力：0.47～0.52Mpa，温度：150～160℃)将液态氯硅烷加热成气态氯硅烷(温度：100～110℃，压力：0.55～0.65Mpa)，然后打开切断阀，调节流量计一使气态氯硅烷进入静态混合器与H2混合，混合气由静态混合器的出口进入还原炉，进行反应。
本实用新型的有益效果如下：
1、通过调节阀、切断阀和流量计，可以将H2和氯硅烷的比例准确、快速控制。
2、混合气的流量可以准确控制；
3、控制直观、简单，主控人员容易驾驭。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图
具体实施方式
多晶硅生产中的氯硅烷、氢气混合的装置，包括产品汽化器1和静态混合器2，产品汽化器1和静态混合器2之间设置有流量计一3，所述产品汽化器1、流量计一3和静态混合器2之间均通过管道连接；所述静态混合器2还设置有单独的氢气进口4。
所述产品汽化器1和流量计一3之间还设置有切断阀5，也通过管道连接。
所述装置的具体连接结构为：
所述产品汽化器1的下端为液态氯硅烷的进口6，产品汽化器1的上端为气态氯硅烷的出口7，出口6与切断阀5的进口连接，切断阀5的出口与流量计一3的进口连接，流量计一3的出口与静态混合器2的氯硅烷进口8连接；所述静态混合器的氢气进口4通过管道依次连接有流量计二9和调节阀10；静态混合器2的出口11与氢还原炉的进口连接。
所述流量计一3和调节阀10之间通过管道连接。
所述产品汽化器1设置有蒸汽调节阀12。
本实用新型的工作原理如下：
回收系统产品气态H2通过调节阀和流量计二静态混合器，进行H2循环(H2压力：0.5～0.65Mpa，温度：15～35℃)；液态氯硅烷进入产品汽化器被蒸汽加热，产品汽化器内的饱和蒸汽(压力：0.47～0.52Mpa，温度：150～160℃)将液态氯硅烷加热成气态氯硅烷(温度：100～110℃，压力：0.55～0.65Mpa)，然后打开切断阀，调节流量计一使气态氯硅烷进入静态混合器与H2混合，混合气由静态混合器的出口进入还原炉，进行反应。

Claims (5)

1、多晶硅生产中的氯硅烷、氢气混合的装置，其特征在于：包括产品汽化器(1)和静态混合器(2)，产品汽化器(1)和静态混合器(2)之间设置有流量计一(3)，所述产品汽化器(1)、流量计一(3)和静态混合器(2)之间均通过管道连接；所述静态混合器(2)还设置有单独的氢气进口(4)。
2、根据权利要求1所述多晶硅生产中的氯硅烷、氢气混合的装置，其特征在于具体连接结构为：所述产品汽化器(1)和流量计一(3)之间还设置有切断阀(5)，也通过管道连接。
3、根据权利要求2所述多晶硅生产中的氯硅烷、氢气混合的装置，其特征在于具体连接结构为：所述产品汽化器(1)的下端为液态氯硅烷的进口(6)，产品汽化器(1)的上端为气态氯硅烷的出口(7)，出口(6)与切断阀(5)的进口连接，切断阀(5)的出口与流量计一(3)的进口连接，流量计一(3)的出口与静态混合器(2)的氯硅烷进口(8)连接；所述静态混合器(2)的氢气进口(4)通过管道依次连接有流量计二(9)和调节阀(10)；静态混合器(2)的出口(11)与氢还原炉的进口连接。
4、根据权利要求1或2所述多晶硅生产中的氯硅烷、氢气混合的装置，其特征在于具体连接结构为：所述流量计一(3)和调节阀(10)之间通过管道连接。
5、根据权利要求1或2所述多晶硅生产中的氯硅烷、氢气混合的装置，其特征在于具体连接结构为：所述产品汽化器(1)设置有蒸汽调节阀(12)。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN105204452A (zh) * 2014-06-26 2015-12-30 新特能源股份有限公司 一种多晶硅还原炉联锁系统

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