CN201243008Y - 一种喷淋防污染装置 - Google Patents

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CN201243008Y CNU2008200949295U CN200820094929U CN201243008Y CN 201243008 Y CN201243008 Y CN 201243008Y CN U2008200949295 U CNU2008200949295 U CN U2008200949295U CN 200820094929 U CN200820094929 U CN 200820094929U CN 201243008 Y CN201243008 Y CN 201243008Y
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CNU2008200949295U
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Inventor
余仲
黄进权
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Shenzhen S. C New Energy Equipment Co., Ltd.
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SHENZHEN SC EXACT EQUIPMENT CO Ltd
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Abstract

本实用新型公开了一种用于硅材料进行酸或碱处理设备中的喷淋防污染装置，公司装置设置在酸碱处理的设备内，其包括过渡槽(1)、设于过度槽(1)中部的上方的喷淋机构(9)、设于该喷淋机构周边的隔板(5)，所述的隔板及过渡槽均与所述的设备内壁连接。本实用新型通过喷淋机构所喷淋形成的水帘，把左右两工作区的空气有效地隔断，左右两工作区的气流就大大的减少互通，起到隔离效果，从而减少酸或碱气流对后处理工作区的污染。

Description

一种喷淋防污染装置
技术领域
本实用新型涉及硅材料的酸或碱处理的设备，尤其涉及一种用于硅材料酸或碱处理设备中的喷淋防污染装置。
背景技术
在硅片、硅料与硅芯的处理中，由于涉及酸或碱处理工序，故需要把酸或碱处理工作区与其它处理(水洗/干燥)工作区分开，以避免酸或碱对后处理工作区的污染。现有避免酸或碱对后处理工作区的污染的做法有：1、通过酸碱工段的抽排风系统来避免酸碱气的漂移。这样做要求抽风效果要好，且抽风系统必须连续工作。2、把设备分成两部分来做，酸洗做一台设备，碱洗做一台设备；这样做由于两台设备工艺要连着做，就需人为周转，会带来工艺的二次污染。
实用新型内容
本实用新型为了克服现有避免酸或碱对后处理工作区污染的方法的处理难度大、工艺难控制的缺陷，提供一种用于硅材料酸或碱处理设备中的喷淋防污染装置。
为解决上述技术问题，本实用新型采用如下技术方案：一种设置在酸碱处理的设备内的喷淋防污染装置，其包括过渡槽、设于过度槽中部上方的喷淋机构、设于该喷淋机构周边的隔板，所述的隔板及过渡槽均与所述的设备内壁连接，所述过渡槽内部设有传送机构。
其中，所述传送机构为带传动机构，其传送起点与终点分别位于过渡槽内两端。
所述传送机构上设置有工件篮，传送机构与喷淋机构下端的距离大于工件篮高度。
所述设备内部的空间被所述的隔板及过渡槽划分成左、右两个独立的工作区，而过渡槽横跨这两个工作区。
本实用新型在硅材料进行酸或碱处理的设备中，设置一带有传送机构的过渡槽，通过设于分区处(左、右工作区交界处)上方的喷淋机构所喷淋形成的水帘，把左右两工作区的空气有效地隔断，工件篮的传送由传送机构实现，这样左右两区的气流就大大的减少互通，起到隔离效果，从而减少酸或碱气流对后处理工作区的污染。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型做进一步的说明：
图1为本实用新型结构示意图。
具体实施方式
如图1所示一种硅材料的酸或碱处理设备中的喷淋防污染装置，其设置在硅材料的酸或碱处理设备内部需要隔离的区域处。本实用新型的优选实施例包括：横向设置的过渡槽1、纵向设于过度槽中部上方的喷淋机构9、设于该喷淋机构周边的隔板5，所述的隔板及过渡槽均与所述的设备内壁6紧密连接。过渡槽内部设有一带传送机构2，其传送起点与终点分别位于过渡槽内左右两端。传送机构上设置有工件篮3，传送机构与喷淋机构9下端的距离大于工件篮高度。所述设备是四方框架结构，其内部的空间被所述的隔板5及过渡槽1划分成两个独立的工作区7、8。过渡槽1前后侧面的尺寸，若与设备内腔侧壁尺寸正好相匹配，则可将设备内腔侧壁部分直接与过渡槽1连接；若过渡槽1侧面尺寸比设备内腔侧壁小，那么其空隙部分设置隔板5隔离。总之确保设备内部空间被隔板及过渡槽1隔离成为相互独立的左工作区7和右工作区8，而过渡槽1横跨两个工作区。
工作时，首先开启喷淋机构9喷淋形成水帘4，然后将工件放入位于传送带上的工件篮3中，再启动传送机构2将工件篮从一个工作区传送到另一个工作区。
本实用新型通过喷淋机构所喷淋形成的水帘，把左右两工作区的空气有效地隔断，工件篮的传送由传送机构实现，这样左右两工作区的气流就大大的减少互通，起到隔离效果，从而减少酸或碱气流对后处理工作区的污染。
上述为本实用新型优选实施例，凡在此原理上改进，均落入本实用新型的保护范围。

Claims (5)

1、一种喷淋防污染装置，设置在酸碱处理的设备内，其特征在于：包括过渡槽(1)、设于过度槽(1)中部的上方的喷淋机构(9)、设于该喷淋机构周边的隔板(5)，所述的隔板及过渡槽均与所述的设备内壁连接。
2、根据权利要求1所述的喷淋防污染装置，其特征在于：所述过渡槽内部设有传送机构(2)。
3、根据权利要求2所述的喷淋防污染装置，其特征在于：所述传送机构为带传动机构，其传送起点与终点分别位于过渡槽内两端。
4、根据权利要求3所述的喷淋防污染装置，其特征在于：所述传送机构上设置有工件篮(3)，传送机构与喷淋机构(9)下端的距离大于工件篮高度。
5、根据权利要求1所述的喷淋防污染装置，其特征在于：所述设备内部的空间被所述的隔板(5)及过渡槽(1)划分的两个独立的工作区(7、8)，而过渡槽(1)横跨这两个工作区。
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Legal Events

Date Code Title Description
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
ASS Succession or assignment of patent right

Owner name: SHENZHEN JIEJIA WEICHUANG MICROELECTRONICS EQUIPME

Free format text: FORMER OWNER: SHENZHEN SC EXACT EQUIPMENT CO., LTD.

Effective date: 20110329

C41 Transfer of patent application or patent right or utility model
COR Change of bibliographic data

Free format text: CORRECT: ADDRESS; FROM: 518000 BUILDING A13, LINPOKENG INDUSTRIAL ZONE, HAOSI, SHAJING TOWN, BAO'AN DISTRICT, SHENZHEN CITY, GUANGDONG PROVINCE TO: 518000 1/F, BUILDING A4, LINPOKENG INDUSTRIAL ZONE, HAOSI, SHAJING SUBDISTRICT, BAO'AN DISTRICT, SHENZHEN CITY

TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20110329

Address after: 518000, Shenzhen Baoan District manhole Street oyster four Lin slope pit Industrial Zone, A4 building, first floor

Patentee after: Shenzhen Jiejiachuang Microelectronic Equipment Co., Ltd.

Address before: 518000, Guangdong, Shenzhen province Baoan District manhole town consumption four Lin Keng Hang industrial zone A13

Patentee before: Shenzhen SC Exact Equipment Co., Ltd.

C56 Change in the name or address of the patentee

Owner name: SHENZHEN S.C NEW ENERGY TECHNOLOGY CORPORATION

Free format text: FORMER NAME: SHENZHEN JIEJIA WEICHUANG MICROELECTRONICS EQUIPMENT CO., LTD.

CP03 Change of name, title or address

Address after: 518000, Guangdong, Shenzhen province Baoan District manhole Street oyster four Lin slope pit Industrial Zone A4 and No. A6 workshop

Patentee after: Shenzhen S. C New Energy Equipment Co., Ltd.

Address before: 518000, Shenzhen Baoan District manhole Street oyster four Lin slope pit Industrial Zone, A4 building, first floor

Patentee before: Shenzhen Jiejiachuang Microelectronic Equipment Co., Ltd.

CX01 Expiry of patent term

Granted publication date: 20090520

CX01 Expiry of patent term