CN201199268Y - 镀制楔形膜用补正板 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开一种镀制楔形膜用补正板，有基片(1)，在基片(1)上设有角形切口(2)。使用时将其固定于基板支架前，蒸镀的膜厚与旋转基板透过角形切口而面对蒸镀源的时间成正比，因此基板只要平放(而无需倾斜)于基板支架上即可。克服了现有技术所存在的缺点，具有可有效利用基板支架面积、增加单次蒸镀镜片装载数量、减少蒸镀时间、削弱膜层柱状结构化倾向、取消膜厚梯度最大值限制等优点。

Description

镀制楔形膜用补正板

技术领域：

本实用新型涉及一种光学镜片镀膜用辅助装置，尤其是一种可有效利用基板支架面积、增加单次蒸镀镜片装载数量、减少蒸镀时间、削弱膜层柱状结构化倾向、取消膜厚梯度最大值限制的镀制楔形膜用补正板。

背景技术：

液晶投影仪光学系统中的蓝光反射分光镜片和绿光反射分光膜均因光路设计的需要而要求镀制楔形膜，楔形膜即薄膜厚度随镜片的不同位置而按照一定的梯度发生变化的薄膜。目前，在真空蒸发镀膜工艺中镀制楔形膜都是利用膜厚与镜片(基板)与蒸发源的距离平方成反比的规律，而将光学基板倾斜放置在沿水平方向旋转的基板支架上，存在着下述缺点：

1.基板装载数量少

为避免基板倾斜而产生的阴影效应，在基板支架圆周方向和径向上的基板间距必须加大，导致基板支架的面积利用率只有20％～30％，基板装载数量少，工作效率低。

2.镀膜时间加长

相对于基板平放时的膜厚增长速率，基板倾斜放置时膜厚增长速率减小到sinα倍(α：基板倾斜放置的倾斜角)。

3.膜层柱状结构化倾向明显，膜强度变弱。

4.膜厚梯度存在最大值限制(45°倾斜放置时的膜厚梯度为最大值)。

发明内容：

本实用新型是为了解决现有技术所存在的上述技术问题，而提供一种有效利用基板支架面积、增加单次蒸镀镜片装载数量、减少蒸镀时间、削弱膜层柱状结构化倾向、取消膜厚梯度最大值限制的镀制楔形膜用补正板。

本实用新型的技术解决方案是：一种镀制楔形膜用补正板，其特征在于：有基片1，在基片1上设有角形切口2。

所述的基片1为弧面板。

所述角形切口2的至少一角边为弧形。

本实用新型固定于基板支架前，蒸镀的膜厚与旋转基板透过角形切口而面对蒸镀源的时间成正比，因此基板只要平放(而无需倾斜)于基板支架上即可。克服了现有技术所存在的缺点，具有可有效利用基板支架面积、增加单次蒸镀镜片装载数量、减少蒸镀时间、削弱膜层柱状结构化倾向、取消膜厚梯度最大值限制等优点。

附图说明：

图1是本实用新型实施例的结构示意图。

图2是图1的俯视图。

图3是本实用新型实施例的使用状态示意图。

具体实施方式：

下面将结合附图说明本实用新型的具体实施方式。如图1、2所示：一种镀制楔形膜用补正板，有基片1，在基片1上设有角形切口2，角形切口的数量根据基板支架上径向上的光学基板数量而定，使每一个角形切口与旋转基板支架3上每个同心圆上的光学基板4相对应，角形切口的两角边可以是直线或至少一角边为弧形，曲率可根据楔形膜倾斜量要求而定。基板1的面形基本与基板支架面形相同，可为平面板或弧面。

使用时将本实用新型实施例固定在基板支架的前面而不随基板支架旋转，角形切口位于距离蒸发源相对较近的一侧，蒸镀在基板上的膜厚将随旋转基板透过角形切口而面对蒸镀源的时间不同呈梯度变化，形成符合要求的楔形膜。

Claims (3)

1.一种镀制楔形膜用补正板，其特征在于：有基片(1)，在基片(1)上设有角形切口(2)。

2.根据权利要求1所述的镀制楔形膜用补正板，其特征在于：所述的基片(1)为弧面。

3.根据权利要求1或2所述的镀制楔形膜用补正板，其特征在于：所述角形切口(2)的至少一角边为弧形。

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