CN201140189Y - 一种刷子间距调节工具 - Google Patents

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CN201140189Y CNU2007200753088U CN200720075308U CN201140189Y CN 201140189 Y CN201140189 Y CN 201140189Y CN U2007200753088 U CNU2007200753088 U CN U2007200753088U CN 200720075308 U CN200720075308 U CN 200720075308U CN 201140189 Y CN201140189 Y CN 201140189Y
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陈肖科
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Semiconductor Manufacturing International Beijing Corp
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Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp
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Abstract

本实用新型提供一种刷子间距调节工具,其用于调节清洗装置中两个刷子之间的间距,清洗装置可以控制两个刷子闭合和打开,晶圆置于两个刷子的中间;两个刷子均有液体流出端和液体流入端;其中,刷子间距调节工具包括一个干端调节工具和一个湿端调节工具,分别用于测量两个刷子的液体流出端之间的间距和液体流入端之间的间距;其中干端调节工具和湿端调节工具均设有一个测量部,干端调节工具的测量部的宽度等于两个刷子液体流出端之间的理想间距,湿端调节工具的测量部的宽度等于两个刷子液体流入端之间的理想间距。本实用新型可以有效避免每次清洗晶圆之前,由于操作人员视觉误差,造成的两个刷子之间的间距不够精确的缺点。

Description

一种刷子间距调节工具
技术领域
本实用新型涉及化学机械研磨中的清洗装置,尤其涉及一种刷子间距调节工具。
背景技术
化学机械研磨工艺中存在的化学反应以及在表面的研磨颗粒造成晶圆表面存在颗粒和污染,只有有效地去除这些表面污染物才能充分利用化学机械抛光来实现晶圆表面的整体平坦化。
化学机械研磨清洗的重点是去除研磨过程中带来的所有污染物。在研磨过程中晶圆会接触到腐蚀性化学品并承受较大的外界压力,导致其表面或次表面区域发生变形或破坏,将影响到器件的稳定性,所以化学机械研磨清洗的主要目的是去除研磨剂残留、金属污染物以及游离态离子。去除晶圆表面的污染物,首先要通过机械方法克服范德华力或者用化学腐蚀污染物表面减小与基底的接触。然后通过改变表面电荷性能以避免颗粒重新粘附到晶圆表面。
目前清洗装置主要采用双面机械刷洗(Brush Scrubbering),其能够同时提供物理清洗和化学清洗,选材一般是聚乙烯醇(PVA)。清洗过程中多孔海绵状呈挤压状态,可同时与pH值2-12的化学溶液使用。憎水性表面,如HF清洗过的Si以及部分介质晶圆,由于润湿角较大,很容易从刷子上粘附污染颗粒,而这些污染颗粒是从亲水性的晶圆表面吸附到刷子上的。憎水性的容易吸附表面颗粒是因为刷洗过程中憎水的界面存在多重的固-液界面。如果刷子被轻度污染,可以跑一些纯晶圆来吸附刷子表面的颗粒,降低刷子的污染度。清洗过程中,晶圆置于两个刷子中间,通过控制两个刷子中心轴,带动两个刷子旋转,清洗晶圆表面。在清洗的过程中,化学液体从两个刷子一端流入协助清洗。两个刷子的清洗部完全接触到晶圆的表面是达到最佳清洗效果的前提,然而,目前的操作是每次清洗晶圆之前都要调节一下刷子的间距,而且是操作人员的视觉观察,两个刷子是否基本平行。这样的观察本身就存在误差,因为现在刷子在液体流入的一端之间的间距略微大于两个刷子在液体流出一端之间的间距,而且肉眼观察也存在误差,所以会产生由于两个刷子的间距没有调节合适,而导致后续的清洗效果不佳,从而降低了晶圆的良率。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种刷子间距调节工具,采用该工具可以精确调节刷子之间的间距,以达到最佳的清洗效果。
为实现上述目的,本实用新型提供一种刷子间距调节工具,其用于调节清洗装置中两个刷子之间的间距,清洗装置可以控制两个刷子闭合和打开,晶圆置于两个刷子的中间;两个刷子均有液体流出端和液体流入端;其中,刷子间距调节工具包括一个干端调节工具和一个湿端调节工具,分别用于测量两个刷子的液体流出端之间的间距和液体流入端之间的间距;其中干端调节工具和湿端调节工具均设有一个测量部,干端调节工具的测量部的宽度等于两个刷子液体流出端之间的理想间距,湿端调节工具的测量部的宽度等于两个刷子液体流入端之间的理想间距。
干端调节工具包括水平设置的支撑部,便于操作人员控制的手持部,其中支撑部与测量部垂直设置,可以支撑在两个刷子之上。
湿端调节工具包括水平设置的支撑部,便于操作人员控制的手持部,其中支撑部为与测量部垂直,可以支撑在两个刷子之上。
与现有技术相比,本实用新型可以有效避免每次清洗晶圆之前,由于操作人员视觉误差,造成的两个刷子之间的间距不够精确的缺点。只需要每次将干端调节工具和湿端调节工具分别置于两个刷子的液体流出端和液体流入端之间即可方便且准确完成调节,以达到更好地清洗效果。
附图说明
通过以下对本实用新型的一实施例结合其附图的描述,可以进一步理解其实用新型的目的、具体结构特征和优点。其中,附图为:
图1为清洗装置中两个刷子的结构示意图。
图2为刷子间距调节工具中干端调节工具的结构示意图。
图3为刷子间距调节工具中湿端调节工具的结构示意图。
具体实施方式
参见图1,清洗装置(未图示)可以控制两个刷子3和5的中心轴31和51,以实现两个刷子3和5闭合和打开。在清洗过程中,晶圆(未图示)置于两个刷子3和5中间,两个刷子3和5闭合以接触到晶圆表面,然后通过控制两个刷子3和5旋转,清洗晶圆表面。清洗液体分别从两个中心轴31和51的一端311和511流入,另一端313和513流出。两个刷子3和5的液体流入端311和511和液体流出端313和513设置在同一个方向并相互对应。
刷子间距调节工具分为用于测量两个刷子3和5的液体流出端313和513之间间距的干端调节工具11和用于测量两个刷子3和5的液体流入端311和511之间间距的湿端调节工具13,干端调节工具11和湿端调节工具13均为十子结构。
干端调节工具11分为水平设置的支撑部111、与支撑部111垂直设置的测量部113和便于操作人员控制的手持部115,测量部113和手持部115设置在支撑部111的中轴线。湿端调节工具13也包括支撑部131、测量部133以及手持部135,其结构与干端调节工具11相同,此处不再重复叙述。干端调节工具11的测量部113的宽度等于两个刷子3和5液体流出端313和513之间的理想间距,湿端调节13工具的测量部133的宽度等于两个刷子3和5液体流入端311和511之间的理想间距。
测量部113和133可以是长方体结构,其分别垂直放置在两个刷子3和5的液体流出端313和513之间和液体流入端311和511之间,横向宽度分别对应等于两个刷子3和5液体流出端313和513之间的理想间距和液体流入端311和511之间的理想间距。
测量部113和133可以是圆柱体结构,其分别垂直放置在两个刷子3和5的液体流出端313和513之间和液体流入端311和511之间,横向直径对应等于两个刷子3和5液体流出端313和513之间的理想间距和液体流入端311和511之间的理想间距。
当两个刷子3和5的毛刷部分刚好接触的时候,两个刷子3和5的液体流出端313和513中心轴31和51之间的间距和刷子3和5液体流入端311和511的中心轴31和51之间的间距分别为液体流出端313和513之间的理想间距和液体流入端311和511之间的理想间距。
在使用过程中,先控制两个刷子3和5打开,保证两个刷子3和5的表面不接触;然后对应液体流出端313和513和液体流入端311和511,将干端调节工具11和湿端调节工具13分别置于两个刷子3和5两端的中心轴31和51之间,干端调节工具11的支撑部111支撑在两个刷子3和5的中心轴31和51之上,此时,测量部113位于刷子3和5的中心轴31和51的中间,操作人员可以通过手持部115确保干端调节工具11的稳定;同样地,湿端调节工具13的支撑部131支撑在两个刷子3和5液体流入端311和511的两个中心轴31和51上方,此时,测量部133位于液体流入端311和511的中心轴31和51的中间,操作人员可以通过手持部135确保湿端调节工具13的稳定;最后,控制两个刷子3和5闭合,当两个刷子3和5的中心轴31和51均接触到测量部113和测量部133时停止,再取出两个调节工具11和13,至此,完成了两个刷子3和5之间间距的调节。
通过本实用新型提供的调节工具11和13可以有效避免每次清洗晶圆之前,由于操作人员视觉误差,造成的刷子3和5之间的间距都不够精确的缺点。通过采用辅助的调节工具11和13,只需要每次将干端调节工具11和湿端调节工具13分别置于两个刷子3和5的中心轴31和51之间即可方便且准确完成调节。

Claims (5)

1、一种刷子间距调节工具,其用于调节清洗装置中两个刷子之间的间距,清洗装置可以控制两个刷子闭合和打开,晶圆置于两个刷子的中间;两个刷子均有液体流出端和液体流入端;其特征在于,刷子间距调节工具包括一个干端调节工具和一个湿端调节工具,分别用于测量两个刷子的液体流出端之间的间距和液体流入端之间的间距;其中干端调节工具和湿端调节工具均设有一个测量部,干端调节工具的测量部的宽度等于两个刷子液体流出端之间的理想间距,湿端调节工具的测量部的宽度等于两个刷子液体流入端之间的理想间距;所述液体流出端之间的理想间距是在确保两个刷子恰好接触时,两个刷子的液体流出端之间的间距;所述液体流入端之间的理想间距是在确保两个刷子恰好接触时,两个刷子的液体流入端之间的间距。
2、如权利要求1所述的一种刷子间距调节工具,其特征在于,干端调节工具包括水平设置的支撑部,便于操作人员控制的手持部,其中支撑部与测量部垂直设置,可以支撑在两个刷子之上。
3、如权利要求1所述的一种刷子间距调节工具,其特征在于,湿端调节工具包括水平设置的支撑部,便于操作人员控制的手持部,其中支撑部为与测量部垂直,可以支撑在两个刷子之上。
4、如权利要求1所述的一种刷子间距调节工具,其特征在于,干端调节工具的测量部和湿端调节工具的测量部可以是长方体结构,其分别垂直放置在两个刷子的液体流出端之间和液体流入端之间,横向宽度对应等于两个刷子液体流出端之间的理想间距和液体流入端之间的理想间距。
5、如权利要求1所述的一种刷子间距调节工具,其特征在于,干端调节工具的测量部和湿端调节工具的测量部可以是圆柱体结构,其分别垂直放置在两个刷子的液体流出端之间和液体流入端之间,横向直径对应等于两个刷子液体流出端之间的理想间距和液体流入端之间的理想间距。
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TWI547344B (zh) * 2014-05-09 2016-09-01 旺宏電子股份有限公司 定位治具與製程機台

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI547344B (zh) * 2014-05-09 2016-09-01 旺宏電子股份有限公司 定位治具與製程機台
CN105097628A (zh) * 2014-05-19 2015-11-25 旺宏电子股份有限公司 定位治具与制作工艺机台
CN105097628B (zh) * 2014-05-19 2018-04-24 旺宏电子股份有限公司 定位治具与制作工艺机台

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