CN201070601Y - 一种流体连续除铁装置 - Google Patents
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Abstract
一种流体连续除铁装置，其特征在于由流体供应槽、流体接受槽、位于流体供应槽和流体接受槽间的流体除铁机构构成，流体除铁机构由两个竖向设置的通道、位于通道内的软磁介质、位于通道两侧的南北极相对的永磁体构成，在两个竖向设置的通道上或者永磁体上设置有前后移动机构，两通道底部相连通，其中一通道上方的流体供应槽设置有带有阀门的流体出口，另一通道上部设置对着流体接受槽的流体溢出口，流体溢出口位于通道的流体液位的下面，在通道的底部设置有余浆排泄口，在永磁体外侧的通道上面设置有冲洗装置，在永磁体外侧的通道下面设置有废料槽。本实用新型与已有技术相比，具有流体的流动不会影响除铁效果、除铁效果好、能连续对流体进行除铁的优点。
Description
技术领域：
本实用新型涉及一种流体除铁装置。
背景技术：
现有的流体除铁装置，流体一般是由上往下利用其自身重力流过除铁装置来实现除铁目的的，而除铁装置采用的是永磁体除铁装置，由于流体是从上往下流动的，流动的速度较快，其冲刷力容易将已被磁力所吸取在除铁装置上的铁物质重新冲刷进流体内，从而影响流体除铁装置的除铁效果。
发明内容：
本实用新型的发明目的在于提供一种流体的流动不会影响除铁效果的、除铁效果好的、能连续对流体进行除铁的流体连续除铁装置。
本实用新型是这样实现的，由流体供应槽、流体接受槽、位于流体供应槽和流体接受槽间的流体除铁机构构成，流体除铁机构由两个竖向设置的通道、位于通道内的软磁介质、位于通道两侧的南北极相对的永磁体构成，在两个竖向设置的通道上或者永磁体上设置有前后移动机构，两通道底部相连通，其中一通道上方的流体供应槽设置有带有阀门的流体出口，另一通道上部设置对着流体接受槽的流体溢出口，流体溢出口位于通道的流体液位的下面，在通道的底部设置有余浆排泄口，在永磁体外侧的通道上面设置有冲洗装置，在永磁体外侧的通道下面设置有废料槽。工作时，从流体供应槽出来的流体进入第一个通道，然后通过相连通的底部，流体又进入第二个通道，最后从第二个通道上部的流体溢出口溢出到流体接受槽内；流体中的铁物质被通道内的已磁化的软磁介质所吸取、清除出来；当软磁介质吸满了铁物质后，关闭流体供应槽上的流体出口阀门，打开通道下面的余浆排泄口，将通道内的余浆排入到流体接受槽，然后，将通道从永磁体移开，使软磁介质的磁力消失，然后用清洗装置对通道内的软磁介质进行冲洗，以便将软磁介质上的铁物质清洗出来，并通过余浆排泄口将铁物质排入到废料槽上。
这里，为了连续地对流体进行除铁工作，流体除铁机构在通道运动方向设置另两个设置有软磁介质的通道，该两通道底部相连通，其中一通道上方的流体供应槽设置有带有阀门的流体出口，另一通道上部设置有流体溢出口，在通道的底部设置有余浆排泄口，对应流体溢出口的通道下面设置有流体接受槽，在永磁体外侧的通道上面设置有冲洗装置，在永磁体外侧的通道下面设置有废料槽。工作时，当其中两通道需要进行清洗时，移出该两通道，然后，将另两通道推进到流体供应槽下面的永磁体间继续对流体进行除铁工作。
为了增大处理流体的量，在流体供应槽下面设置两套或两套以上由带有软磁介质的通道、永磁体、冲洗装置构成的流体除铁机构，对应每个流体除铁机构的流体供应槽设置有带有阀门的流体出口。
本实用新型与已有技术相比，具有流体的流动不会影响除铁效果的、除铁效果好的、能连续对流体进行除铁的优点。
附图说明：
图1为本实用新型实施例1的结构示意图；
图2为图1的前侧视图；
图3为图1的左侧视图；
图4为本实用新型实施例2的结构示意图；
图5为本实用新型实施例3的结构示意图。
具体实施方式：
现结合附图和实施例对本实用新型作进一步详细描述：
实施例1：如图1、2、3所示，本实用新型由流体供应槽1、流体接受槽2、位于流体供应槽1和流体接受槽2间的流体除铁机构3构成，流体除铁机构3由可前后移动的两个竖向设置的通道3a、位于通道3a内的软磁介质3b、位于通道3a两侧的南北极相对的永磁体3c构成，通道3a由前后移动机构5带动，两通道3a底部相连通，其中一通道3a1上方的流体供应槽1设置有带有阀门1a的流体出口1b，另一通道3a2上部设置有对着流体接受槽2的流体溢出口3a21，在通道3a的底部设置有带有阀门3d1的余浆排泄口3d，在永磁体3c外侧的通道3a上面设置有冲洗装置3e，在永磁体3c外侧的通道3a下面设置有废料槽4。在流体供应槽1下面设置两套或两套以上由带有软磁介质3b的通道3a、永磁体3c、冲洗装置3e构成的流体除铁机构3，对应每个流体除铁机构3的流体供应槽1设置有带有阀门1a的流体出口1b。为了防止流体溢出通道3a1外，对着流体供应槽1的流体出口1b的通道3a1比另一通道3a2高，而且其上部设置有直达另一通道3a2上方的流体溢出口3a11。
实施例2：如图4所示，本实施例是在实施例1的基础上，流体除铁机构3在通道3a运动方向设置另两个设置有软磁介质的通道3A，该两通道3A底部相连通，其中一通道3A1上方的流体供应槽1设置有带有阀门1a的流体出口1b，另一通道3A2上部设置有流体溢出口3A21，在通道3A的底部设置有余浆排泄口3D，对应流体溢出口3A21的通道3A下面设置有流体接受槽2a，在永磁体3c外侧的通道3A上面设置有冲洗装置3E，在永磁体3c外侧的通道3A下面设置有废料槽4a。
实施例3：如图5所示，本实施例是在实施例2的基础上，在流体供应槽1下面设置两套或两套以上流体除铁机构3，对应每个流体除铁机构3的流体供应槽1设置有带有阀门1a的流体出口1b。
Claims (5)
1.一种流体连续除铁装置，其特征在于由流体供应槽、流体接受槽、位于流体供应槽和流体接受槽间的流体除铁机构构成，流体除铁机构由两个竖向设置的通道、位于通道内的软磁介质、位于通道两侧的南北极相对的永磁体构成，在两个竖向设置的通道上或者永磁体上设置有前后移动机构，两通道底部相连通，其中一通道上方的流体供应槽设置有带有阀门的流体出口，另一通道上部设置对着流体接受槽的流体溢出口，流体溢出口位于通道的流体液位的下面，在通道的底部设置有余浆排泄口，在永磁体外侧的通道上面设置有冲洗装置，在永磁体外侧的通道下面设置有废料槽。
2.根据权利要求1所述的流体连续除铁装置，其特征在于流体除铁机构在通道运动方向设置另两个设置有软磁介质的通道，该两通道底部相连通，其中一通道上方的流体供应槽设置有带有阀门的流体出口，另一通道上部设置有流体溢出口，在通道的底部设置有余浆排泄口，对应流体溢出口的通道下面设置有流体接受槽，在永磁体外侧的通道上面设置有冲洗装置，在永磁体外侧的通道下面设置有废料槽。
3.根据权利要求1或2所述的流体连续除铁装置，其特征在于在流体供应槽下面设置两套或两套以上由带有软磁介质的通道、永磁体、冲洗装置构成的流体除铁机构，对应每个流体除铁机构的流体供应槽设置有带有阀门的流体出口。
4.根据权利要求1或2所述的流体连续除铁装置，其特征在于对着流体供应槽的流体出口的通道比另一通道高，而且其上部设置有直达另一通道上方的流体溢出口。
5.根据权利要求3所述的流体连续除铁装置，其特征在于对着流体供应槽的流体出口的通道比另一通道高，而且其上部设置有直达另一通道上方的流体溢出口。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CNU2007201249394U CN201070601Y (zh) | 2007-08-01 | 2007-08-01 | 一种流体连续除铁装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CNU2007201249394U CN201070601Y (zh) | 2007-08-01 | 2007-08-01 | 一种流体连续除铁装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN201070601Y true CN201070601Y (zh) | 2008-06-11 |
Family
ID=39549158
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CNU2007201249394U Expired - Lifetime CN201070601Y (zh) | 2007-08-01 | 2007-08-01 | 一种流体连续除铁装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN201070601Y (zh) |
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2007
- 2007-08-01 CN CNU2007201249394U patent/CN201070601Y/zh not_active Expired - Lifetime
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| AV01 | Patent right actively abandoned |
Effective date of abandoning: 20070801 |
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| C25 | Abandonment of patent right or utility model to avoid double patenting |