CN201056085Y - 制程设备气流多段循环系统 - Google Patents

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CN201056085Y CNU2007201462164U CN200720146216U CN201056085Y CN 201056085 Y CN201056085 Y CN 201056085Y CN U2007201462164 U CNU2007201462164 U CN U2007201462164U CN 200720146216 U CN200720146216 U CN 200720146216U CN 201056085 Y CN201056085 Y CN 201056085Y
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CNU2007201462164U
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许海津
邱千瑞
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ZHISHENG INDUSTRY Co Ltd
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ZHISHENG INDUSTRY Co Ltd
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Abstract

本实用新型提供一种制程设备气流多段循环系统,其内设有一处理区;其中,所述处理区内设有至少一出气部及至少一吸气部,所述出气部延伸有多个出气支部分布在处理区内,而吸气部延伸有多个吸气支部分布在处理区内;所述出气支部上设有多个出气孔,而所述吸气支部上设有多个吸气孔,且出气部的出气支部与吸气部的吸气支部相互间隔设置。本实用新型制程设备气流多段循环系统内每一出气部由出气支部出气孔所喷出的气体,由吸气部吸气支部的吸气孔吸入,形成一行程小但密集的气流循环系统,可确保处理区内各处的气流流量均匀,且气流的降温效果相同,可均匀有效散热,降温散热及制程效果较好。

Description

制程设备气流多段循环系统
【技术领域】
本实用新型涉及一种气流多段循环系统,尤其涉及一种制程设备气流多段循环系统。
【背景技术】
以特定频率的光源照射相对应能隙的物体,可令原本位于价带的电子跳跃至传导带,以产生较大的活性与特定的反应,此种利用特定光源照射的处理方式,被广泛的运用在各式制程设备中。
操作高频率光源,例如紫外线等高频率光源时,不可避免的会伴随产生相当多的热量,这些热量往往不是制程中所需要的,甚至是制程中必须避免的,否则容易引起产品质量的变化。因此制程设备中便需要搭配各式降温设计,其中较常见的为气冷系统,通过由压缩机或鼓风机等设备将低温气体导入制程设备中,令受光照的基板等产品,可由气流带走多余的热量,使得基板等物体可保持在一定的温度下,以维持产品质量,增进制程效果。
常用的制程设备装置如美国专利第US3994073号及第US4646446号,均简单的以一压缩机或鼓风机,将低温气体由一出气端吹入制程设备的处理区;再由吸气端将温度升高后的气体排出。此种方式若使用在具有较大处理区的制程设备上,则该处理区前段与后段之间保持有一段距离,当低温气体经由前段流到后段时,气体温度已升高不少。因此对后段而言,气冷效果不佳,进而使处理区内受光照的基板等物体散热效果不一,部分基板无法有效散热,质量不佳良率下降,制程效果较差。
【实用新型内容】
本实用新型所要解决的技术问题在于提供一种制程设备气流多段循环系统,其可均匀有效散热,降温散热及制程效果较好。
为解决上述技术问题,本实用新型的技术方案是:提供一种制程设备气流多段循环系统,其内设有一处理区;其中,所述处理区内设有至少一出气部及至少一吸气部,所述出气部延伸有多个出气支部分布在处理区内,而吸气部延伸有多个吸气支部分布在处理区内;所述出气支部上设有多个出气孔,而所述吸气支部上设有多个吸气孔,且出气部的出气支部与吸气部的吸气支部相互间隔设置。
与现有技术相比较,本实用新型制程设备气流多段循环系统除原本便有的冷却气流之外,更于处理区各处理板内设置出气部与吸气部,每一出气部由出气支部出气孔所喷出的气体,由吸气部吸气支部的吸气孔吸入,形成一行程小但密集的气流循环系统,如此可确保处理区内各处的气流流量均匀,且气流的降温效果相同,可均匀有效散热,降温散热及制程效果较好。
【附图说明】
图1是本实用新型一较佳实施例的立体示意图。
图2是图1所示实施例中出气部与吸气部的示意图。
【具体实施方式】
为了使本实用新型所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。
请参阅图1及图2,是本实用新型制程设备气流多段循环系统的一较佳实施例,其上设有处理区10,所述处理区10内容置一个或多个处理板101,制程设备内设有鼓风机,以提供处理区10低温气流来降温。本实施例的制程设备以常用的紫外线多层炉为例,所述处理区10在各处理板101上设有紫外线灯体,并可承载玻璃基板,通过灯体的紫外光照射基板达到制程的目的。
所述处理区10的处理板101内设置有至少一组出气部11与吸气部12。
所述出气部11具有一入气口111,入气口111可接设在制程装置的鼓风机等装置上来获得冷却气流,而所述出气部11延伸出多个出气支部112。所述出气支部112分布在处理区10的处理板101内,且出气支部112上设有多个出气孔113,通过所述出气孔113喷出冷却气流在处理板101内。所述出气支部112可旋动调整,来改变出气孔113的方向。
该吸气部12系具有一排气口121以排除处理区10内之气流,而该吸气部12并延伸出有复数之吸气支部122,该吸气支部122系分布于处理区10之处理板101内,且该吸气支部122上设有复数之吸气孔123,藉该吸气孔123以吸入出气部11喷出之冷却气流,而形成一小循环;该出气支部112系可旋动调整,据以改变出气孔113之方向;
所术出气部11的出气支部112与吸气部12的吸气支部122呈相互间隔交错排列设置,且因所述出气部11的出气支部112内气流会随出气孔113向外喷出,故出气支部112末端的气体压力必然较出气支部112头端小。为避免出气支部112的各出气孔113所喷出的气流流量相差甚大而降低散热等其它制程效果,故出气孔113的大小可由出气支部112的末端向头端渐缩。于出气支部112头端以较小的出气孔113来抑制过多的气体喷出,减少头端之流量;于出气支部112末端以较大的出气孔113来减少气体喷出的阻力,增加末端的流量。吸气部12上的吸气孔123设置原理相同,通过大小不同的出气孔113、吸气孔123来均匀喷出气体的流量。所述出气支部112与吸气支部122的管径渐缩,来达到相同的调整均匀喷出气体流量的效果。
请再次参阅图2,每一出气支部112均有与其相邻的吸气支部122,而出气支部112出气孔113所喷出的冷却气流可由吸气支部122排出。因出气支部112与吸气支部122相互间隔设置,每一出气部11的出气孔113与相邻近的吸气部12吸气孔123形成一小循环,如此可确保冷却气流均保持在低温具冷却效果的状态,不因处理区10规模较大而吸收较多热量失去散热效果,而通过此密集的小循环达到平均气流与散热效果的目的,提升制程装置的制程效果。
本实用新型制程设备气流多段循环系统的处理区10内设有出气部11及吸气部12,出气部11及吸气部12分别延伸有多个出气支部112及吸气支架122分布在处理区10内;出气支部112上设有多个出气孔113,吸气支部122上设有多个吸气孔123,且出气部11的出气支部112与吸气部12的吸气支部122相互间隔设置。所述处理区10各处理板内设置出气部11与吸气部12,每一出气部11由出气支部112出气孔113所喷出的气体,由吸气部12吸气支部122的吸气孔123吸入,形成一行程小但密集的气流循环系统,如此可确保处理区10内各处的气流流量均匀,且气流的降温效果相同,可均匀有效散热,降温散热及制程效果较好。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种制程设备气流多段循环系统,其内设有一处理区;其特征在于:所述处理区内设有至少一出气部及至少一吸气部,所述出气部延伸有多个出气支部分布在处理区内,而吸气部延伸有多个吸气支部分布在处理区内;所述出气支部上设有多个出气孔,而所述吸气支部上设有多个吸气孔,且出气部的出气支部与吸气部的吸气支部相互间隔设置。
2.如权利要求1所述的制程设备气流多段循环系统,其特征在于:所述多个出气孔大小不同。
3.如权利要求1所述的制程设备气流多段循环系统,其特征在于:所述多个吸气孔大小不同。
4.如权利要求2所述的制程设备气流多段循环系统,其特征在于:所述出气孔与吸气孔大小不同。
5.如权利要求1至4中任意一项所述的制程设备气流多段循环系统,其特征在于:所述出气孔为孔方向能调整的出气孔。
6.如权利要求1至4中任意一项所述的制程设备气流多段循环系统,其特征在于:所述吸气孔为孔方向能调整的吸气孔。
7.如权利要求1至4中任意一项所述的制程设备气流多段循环系统,其特征在于:所述吸气孔为孔方向能调整的吸气孔,所述出气孔为孔方向能调整的出气孔。
8.如权利要求1至4中任意一项所述的制程设备气流多段循环系统,其特征在于:所述制程设备为一紫外线多层炉。
9.如权利要求1至4中任意一项所述的制程设备气流多段循环系统,其特征在于:所述出气支部或吸气支部的管径渐缩。
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