CN200989996Y - 适用于玻璃基板的光阻清除设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型揭露一种适用于玻璃基板的光阻清除设备，该光阻清除设备包括一反应室、一传送机构及一空气内循环系统。该反应室具有一入口、一出口及一吸气口；该传送机构设置在该反应室中，用于带动玻璃基板由入口进入，经反应室再由出口送出。该空气内循环系统包括多个风刀及一抽气泵，该多个风刀设置在该反应室的内侧入口及出口的上方及下方，该抽气泵与该反应室的吸气口及风刀连通，用于将该反应室内的空气抽出，再经风刀送入反应室中，吹向传送中的玻璃基板。
Description
技术领域
本实用新型是关于一种光阻清除设备，特别是关于一种适用于玻璃基板的光阻清除设备。
背景技术
在液晶显示器的薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)制程中，去光阻制程是将定义出元件的光阻利用溶剂去除，例如：乙醇胺(MEA)、BDG、NMP等，基板在经过溶剂清洗后再用异丙醇(IPO)或者二甲基亚枫(DMSO)做水洗前置换清洗(Inter-mediaRinse)，再经水洗、干燥，来完成去光阻制程。
图1是传统适用于玻璃基板的光阻清除设备示意图。传统的光阻清除设备一般有多个反应室前后串连在一起，分别进行溶剂清洗、前置换清洗、水洗、烘干等动作，因各反应室的基本结构相似，为简化图标，图1仅以一个反应室作说明。
如图1所示，传统光阻清除设备10的反应室11具有一入口12及一出口13，反应室11内设置有一传送机构14、多个喷嘴15及风刀16a，16b。传送机构14用于带动玻璃基板5由入口12进入，经反应室11再由出口13送出。喷嘴15分布于反应室11的入口12与出口13之间，并与厂务的清洗液供应管路17连接，可将经加压泵18加压的溶剂或水直接喷洒于玻璃基板5上，以去除玻璃基板5上的光阻或微粒。风刀16a，16b设置在反应室11内侧，入口12及出口13的上方及下方，并与厂务供气管路19相连，当玻璃基板5通过入口12及出口13时，由厂务供气管路19所提供的洁净空气(Clean Dry Air，CDA)，先经减压装置20调整至适当压力，再经风刀16a，16b吹向玻璃基板5的正反两面，以刮除溶剂或水，防止光阻清除设备10的各反应室11间不同的清洗液相互污染，或是清洗液蒸气逸散到环境中。
为了避免清洗液残留在玻璃基板上，对后续制程造成影响，厂务系统需提供大量的洁净空气，使风刀16a，16b保持一定的出口压力。同时，光阻清除设备10的反应室11内壁另具有一排气口21，排气口21经排气管路22与厂务系统的排气泵23连通，用于将反应室11内的空气抽出，并排出至大气。
此外，为了避免清洗液蒸气外泄，危害工作人员，排气泵23的排气量必须大于风刀16a，16b吹出的洁净空气的总量，使光阻清除设备10的反应室11内保持一定的负压状态。因此，排气泵23的负载非常沉重，造成厂务运转成本增加。
实用新型内容
为了解决现有技术光阻清除设备反应室中排气泵负载过重，厂务运转成本过大的问题，有必要提供一种可降低洁净空气使用量以及厂务运转成本的光阻清除设备。
一种适用于玻璃基板的光阻清除设备，该光阻清除设备包括一反应室、一传送机构及一空气内循环系统。该反应室具有一入口、一出口及一吸气口；该传送机构设置在该反应室中，用于带动玻璃基板由入口进入，经反应室再由出口送出。该空气内循环系统包括多个风刀及一抽气泵，该多个风刀设置在该反应室的内侧入口及出口的上方及下方，该抽气泵与该反应室的吸气口及风刀连通，用于将反应室内的空气抽出，再经风刀送入反应室中，吹向传送中的玻璃基板。
该光阻清除设备另具有多个喷洒头，设置在该反应室的入口与出口之间，用于将溶剂喷洒在玻璃基板表面，以去除玻璃基板上的光阻。
在一较佳实施例中，吸气口设置在该反应室上方，较接近出口的一侧。该光阻清除设备进一步包括一供气单元及一排气单元，可将过滤过的外界空气送入反应室中，或是将反应室内的空气排出。
另一种适用于玻璃基板的光阻清除设备，该光阻清除设备包括多个反应室、传送机构及空气内循环系统。该反应室分别具有一入口、一出口及一吸气口，各反应室相互串联排列，使一反应室的出口与下一反应室的入口相连通；传送机构设置在各反应室中，用于传送玻璃基板通过各反应室；多个风刀分别设置在各反应室的内侧入口及出口的上方及下方；以及多个抽气泵，分别与各反应室的吸气口及风刀连通，用于将反应室内的空气抽出，再经风刀送入反应室中，吹向传送中的玻璃基板。
在一较佳实施例中，光阻清除设备进一步包括多个喷洒头，设置在各反应室入口与出口之间，用于将溶剂或水喷洒于玻璃基板表面。
其次，吸气口设置在各反应室上方，较接近出口的一侧。光阻清除设备更包括一供气单元及一排气单元，可将过滤过的外界空气送入反应室中，或是将反应室内的空气排出。
上述光阻清除设备利用空气内循环系统，将反应室内的空气抽出，作为风刀的空气源，因此可大幅降低厂务洁净空气的使用量。此外，排气单元抽气的负压力即为反应室的负压力，因此亦可大幅减轻排气单元的负载，降低厂务运转成本。
为使本实用新型的上述目的、特征和优点能更明显易懂，以下特举较佳实施例并配合所附图式作详细说明。
附图说明
图1是传统适用于玻璃基板的光阻清除设备的示意图。
图2是本实用新型光阻清除设备的反应室的示意图。
图3是本实用新型具有多个反应室的光阻清除设备的示意图。
具体实施方式
请参考图2，其是本实用新型光阻清除设备的反应室的示意图，该光阻清除设备30的反应室31具有一入口32及一出口33，各设置有一活动门，可使该反应室31形成一封闭腔体。该反应室31内设置有一传送机构34及多个喷嘴35。该传送机构34用于带动玻璃基板5由入口32进入，经反应室31再由出口33送出。该喷嘴35分布于该反应室31的入口32与出口33之间，并与厂务的清洗液供应管路36、清洗液储存槽37连接，可将经加压泵38加压的溶剂或水直接喷洒于玻璃基板5上，以去除该玻璃基板5上的光阻或微粒。
为了减少洁净空气的使用量，使该反应室31能一直保持负压状态，该反应室31具有一独立的空气内循环系统40，该空气内循环系统40包括一抽气泵41、独立的循环管路42以及多个设置在该反应室31内侧，入口32及出口33上方及下方的风刀43a，43b。该抽气泵41透过循环管路42与反应室31的一吸气口44及风刀43a，43b连接，用于将反应室31内的空气抽出，加压至适当压力后，经循环管路42，再由风刀42a，42b送入到反应室31中，吹向传送中的玻璃基板5正反两面，以去除玻璃基板5上的清洗液，避免清洗液残留在玻璃基板5上，对后续制程造成影响。同时，该反应室31内壁具有一排气口45，排气口45经排气管路46与厂务系统的排气单元47连通，该排气单元47为一抽气泵，用于将反应室31内的空气抽出，使该反应室31持续保持一定的负压状态。
其次，该反应室31的内壁具有一供气口48，该供气口48经供气管路49与一供气单元50连通，该供气单元50为一减压装置或一气流控制装置，可将厂务系统提供的洁净空气调整至适当压力，再透过供气管路49，将洁净空气送入反应室31中，达到空气更新的目的。
此外，在一较佳实施例中，吸气口44设置在该反应室31上方，较接近出口33的一侧，可使该反应室31靠近出口33的一侧形成局部较低的负压状态，出口端的循环空气流程较短，可避免含有清洗液蒸气的循环空气由出口33泄漏出去。
请参考图3，其是本实用新型具有多个反应室的光阻清除设备的示意图。在本实施方式中，光阻清除设备具有多个反应室前后串连在一起，分别进行溶剂清洗、前置换清洗、水洗、烘干等动作，因各反应室的基本结构与图2相似，为简化图标，图3省略进行烘干的反应室，仅以两个清洗反应室作说明。
光阻清除设备60包括多个反应室31a，31b、一传送机构34。各反应室31a，31b相互串联排列，使一反应室31a的出口33与下一反应室31b的入口32相连通；该传送机构34设置在各反应室31a，31b中，用于传送玻璃基板5通过各反应室31a，31b。其次，各反应室31a，31b另具有多个喷嘴35a，35b与独立的清洗液供应管路36a，36b，藉由喷嘴35a，35b喷出溶剂或水，去除玻璃基板5上的光阻或微粒。
为了减少洁净空气的使用量，使各反应室31a，31b能一直保持负压状态，反应室31a，31b具有各自独立的空气内循环系统40a，40b，而空气内循环系统40a，40b分别包括一抽气泵41、独立的循环管路42以及设置在反应室31a，31b的入口32及出口33上下的风刀43a，43b，使不同的反应室31a，31b形成不同的循环气流，以去除玻璃基板5上的清洗液，避免清洗液残留在玻璃基板5上，带到下一个反应室。
此外，光阻清除设备60更包括一供气单元61及一排气单元62。供气单元61包括多个减压装置或气流控制装置，各反应室31a，31b透过独立的减压装置或气流控制装置，提供不同压力的洁净空气，以更新反应室内的空气；同时，排气单元62包括单一或是各自独立的抽气泵，各反应室31a，31b的空气藉由排气单元62，经厂务排气管路排出，使不同的反应室31a，31b持续保持一定的负压状态。
该光阻清除设备60利用各自独立的空气内循环系统，将反应室内的空气抽出，作为风刀的空气源，因此可大幅降低厂务洁净空气的使用量。此外，排气单元抽气的负压力即为反应室的负压力，因此亦可大幅减轻排气单元的负载，降低厂务运转成本。
Claims (10)
1.一种适用于一玻璃基板的光阻清除设备，其包括：
一反应室，该反应室具有一入口、一出口及一吸气口；
一传送机构，该传送机构设置在该反应室中，用于带动玻璃基板由入口进入，经反应室再由出口送出；
多个风刀，该多个风刀设置在该反应室的内侧入口及出口的上方及下方；
一抽气泵，该抽气泵与该反应室的吸气口及风刀连通，用于将该反应室内的空气抽出，再经风刀送入该反应室中，吹向传送中的玻璃基板。
2.如权利要求1所述的光阻清除设备，其特征在于：进一步包括多个喷洒头，该多个喷洒头设置在该反应室的入口与出口之间，用于将溶剂喷洒在玻璃基板表面。
3.如权利要求1所述的光阻清除设备，其特征在于：该吸气口设置在该反应室上方，较接近出口的一侧。
4.如权利要求1所述的光阻清除设备，其特征在于：进一步包括一排气单元，该排气单元与该反应室连通，用于将该反应室内的空气排出。
5.如权利要求1所述的光阻清除设备，其特征在于：进一步包括一供气单元，该供气单元与该反应室连通，用于将空气送入该反应室中。
6.一种适用于玻璃基板的光阻清除设备，包括：
多个反应室，该多个反应室分别具有一入口、一出口及一吸气口，各反应室相互串联排列，使一反应室的出口与下一反应室的入口相连通；
一传送机构，该传送机构设置在各反应室中，用于传送玻璃基板通过各反应室；
多个风刀，该多个风刀分别设置在各反应室的内侧入口及出口的上方及下方；
以及多个抽气泵，该多个抽气泵分别与各反应室的吸气口及风刀连通，用于将反应室内的空气抽出，再经风刀送入反应室中，吹向传送中的玻璃基板。
7.如权利要求6所述的光阻清除设备，其特征在于：进一步包括多个喷洒头，该多个喷洒头设置在反应室的入口与出口之间，用于将溶剂或水喷洒于玻璃基板表面。
8.如权利要求6所述的光阻清除设备，其特征在于：该吸气口设置在各反应室的上方，较接近出口的一侧。
9.如权利要求6所述的光阻清除设备，其特征在于：进一步包括一供气单元，该供气单元与各反应室连通，用于将空气送入反应室中。
10.如权利要求6所述的光阻清除设备，其特征在于：进一步包括一排气单元，该排气单元与各反应室连通，用于将反应室内的空气排出。
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| CN 200620014609 CN200989996Y (zh) | 2006-09-08 | 2006-09-08 | 适用于玻璃基板的光阻清除设备 |
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Cited By (2)
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| CN108196430A (zh) * | 2017-12-26 | 2018-06-22 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种光刻胶软烘装置 |
| CN112744585A (zh) * | 2020-10-30 | 2021-05-04 | 乐金显示光电科技(中国)有限公司 | 一种玻璃基板输送装置 |
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