CN1988746A - 显示器及有机电子组件的画素形成结构的制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明是一种显示器及有机电子组件的画素形成结构的制作方法，其是在制造过程中使用绝缘材料将液体墨料以单一纵向或横向来设置在画素平行的二周边，而绝缘材料排列方向是与透明玻璃基板上涂布铟锡氧化物(Indium Tin－dopedOxide，ITO)所形成的阳极的排列方向垂直，而不圈围在画素四周边，进行喷墨程序时即可以行或列为一作业单位，而非现有以单一画素为喷墨单位，因此每一个画素的形成十分平坦均匀，因此可使显示器的发光度均匀，而另一方面绝缘材料的排列方向恰与阴极形成方向平行，该画素是为利用一喷墨装置射出形成在阳极表面，绝缘材料即为二相邻阴极分隔条，可确保显示器画素制造过程的良率，同时可增加每一画素发光面积及均匀性。
Description
技术领域
本发明涉及的是一种显示器及有机电子组件的画素形成结构的制作方法，尤指一种在制造过程中使用绝缘材料将液体墨料以单一纵向或横向设置在画素平行的二周边，而绝缘材料排列方向是与透明玻璃基板上涂布铟锡氧化物(IndiumTin-doped Oxide，ITO)所形成的阳极的排列方向垂直，而不圈围在画素四周边，进行喷墨程序时即可以行或列为一作业单位，而非现有以单一画素为喷墨单位，因此每一个画素的形成为十分平坦均匀，所以可使显示器的发光度均匀，而另一方面绝缘材料的排列方向恰与阴极形成方向为平行，直接在阳极表面形成画素，更可确保显示器画素制造过程的良率，同时可增加每一画素发光面积及均匀性的显示器及有机电子组件的画素形成结构的制作方法。
背景技术
在显示器的面板制造过程中，在其画素显示设计方面一直存在有固定的障碍，请参阅图1A及图1B所示，其画素显示区域都在透明玻璃基板10上涂布铟锡氧化物(Indium Tin-doped Oxide，ITO)12，通过该铟锡氧化物具有透明及具有导电的特性，即可使原来无法导电的玻璃基板10产生导电性，通过以形成一可发光的画素，但是为确保每一个画素之间不会因为制造过程的缺陷产生短路现象(Short)，因此会在每一个画素之间使用一绝缘材料(Bank)11做一隔绝，但是此一制造过程必须使绝缘材料11与画素外围区域重迭，以使在后续的在画素区域喷墨制造过程(用以形成画素的颜色)达到精确对位的目的，但是存在缺点有：
第一为使得画素显示区域13随之缩小，造成显示器发光亮度不足的问题。
第二为有效画素的四个周边都为突出的绝缘材料所构成，喷墨在有效画素上时将造成液体墨料14形成表面张力现象，中心区域较厚且四周较薄的现象，造成显示器发光不均匀的现象。
为求改善上述缺点，本发明所提出的显示器及有机电子组件的画素形成结构的制作方法及架构是能够有效改进现有画素发光效能不佳及不均匀现象。
发明内容
本发明为显示器暨有机电子组件的画素制作方法，其的主要的目的是：提供一种显示器及有机电子组件的画素形成结构的制作方法，使每一个画素的形成十分平坦均匀，使显示器的发光度均匀，确保显示器画素制造过程的良率，同时可增加每一画素发光面积及均匀性；
本发明的另一目的是：提供一种显示器及有机电子组件的画素形成结构的制作方法，简化制造过程，避免造成低电位画素的损耗老化。
为实现此目的，本发明所采用的技术方案是：显示器的光源是为一聚合物发光二极管(Polymer OLED，PLED)所组成，使用绝缘材料将液体墨料以单一纵向或横向来设置在画素平行的二周边，而绝缘材料排列方向是与透明玻璃基板上涂布铟锡氧化物(Indium Tin-doped Oxide，ITO)所形成的阳极的排列方向为垂直，而不圈围在画素四周边，进行喷墨程序时即可以行或列为一作业单位，而非现有以单一画素为喷墨单位，另一方面绝缘材料的排列方向恰与阴极形成方向为平行，该画素是为利用一喷墨装置连续射出形成在阳极表面，绝缘材料即为二相邻阴极分隔条；在前述绝缘材料排列方向是与透明玻璃基板上涂布铟锡氧化物(IndiumTin-doped Oxide，ITO)所形成的阳极的排列方向为垂直，并在画素上方所形成阴极材料形成电性连接，以点亮每一个画素，但该复数画素之间因为电位差将形成画素形成结构的老化的现象，在画素的阳极至阴极电路之间加入一接地电路，该接地电路是为铟锡氧化物所构成，在制造过程上可达到简化的目的，该接地电路的设置位置是为二阳极之间距处，以使高电位画素的电流流向接地电路，因此不会造成低电位画素的损耗老化。
通过以下结合附图的详细说明，可以使本发明上述的和其它的优点、、特征变得更加清楚。
附图说明
图1A为现有显示器画素形成结构的俯视示意图；
图1B为现有显示器画素形成结构的剖面侧视示意图；
图2为本发明的显示器画素形成结构的示意图；
图3为本发明的显示器画素设置金属层阴极的结构示意图；
图4为本发明的画素形成一列的结构示意图；
图5为本发明的显示器画素形成一矩阵的结构示意图；
图6为本发明的显示器画素形成对应图案后画素形成高低电位差的示意图；
图7为本发明的显示器画素形成对应图案后画素导通的阳极至阴极结构示意图；
图8为本发明的显示器画素因高低电位差所形成画素老化破损的结构示意图；
图9为本发明的显示器画素的阳极至阴极电路之间加入一接地电路的结构示意图。
附图符号说明：10-玻璃基板；11-绝缘材料；12-铟锡氧化物；13-画素显示区；14-液体墨料；15-喷墨装置；20-玻璃基板；21-铟锡氧化物；22-画素；23-绝缘材料；24-阴极；25-液体墨料；31-高电位画素；311-高电位阳极；32-低电位画素；321-低电位阳极；33-阴极；41-正常画素；42-破损画素；51-画素；52-接地电路。
具体实施方式
请参阅图1、图3所示，为本发明的显示器画素形成结构的示意图，其中该显示器的光源是为一聚合物发光二极管(Polymer OLED，PLED)所组成，该显示器具有主动发光的特性，极为适合做为显示器的发光显示面板，具有省电及亮度佳的优点，同时本发明的制造过程不受限于显示器的制造过程，另外包括如：有机电子组件(Organic Electronic)的制造过程，亦可适用本发明的技术手段，该技术手段是在制造过程中使用绝缘材料(Bank)23将液体墨料以单一纵向或横向设置在画素(Pixel)22平行的二周边，同时该绝缘材料23可充当阴极分隔条，而绝缘材料23排列方向是与透明玻璃基板20上涂布铟锡氧化物(Indium Tin-dopedOxide，ITO)21所形成的阳极的排列方向为垂直，而不圈围在画素22四周边，利用一喷墨装置(图中未示)来进行喷墨程序时即可以行或列为一作业单位，例如：第一次喷墨可将红色(Red)画素22以行的方向形成；第二次喷墨将绿色(Green)画素22以行的方向形成；第三次喷墨将蓝色(Blue)画素22以行的方向形成，所有的画素22也得以制作完成。而非现有以单一画素为喷墨单位，因此每一个画素22的形成为十分平坦均匀，亦无受表面张力影响中心处突出且四周凹陷的不均匀现象，因此可使显示器的发光度均匀，而另一方面绝缘材料23的排列方向恰与阴极24形成方向为平行，直接在阳极(铟锡氧化物21)表面形成画素22，绝缘材料23即为二相邻阴极24的隔绝层，可确保显示器画素制造过程的良率，同时可增加每一画素22发光面积及均匀性。上述绝缘材料23是可为一光阻所构成，直接经过曝光显影的程序后，所残留未被蚀刻的光阻即可形成该绝缘材料23。
上述绝缘材料23以行或列结构除了可隔绝不同颜色的画素22的外，亦可做为阴极分隔条(Cathode Separator，CS)，透过蒸镀的方式，即可在画素的表面形成阴极24，恰可与画素22下方的铟锡氧化物(Indium Tin-doped Oxide，ITO)21所形成的阳极形成电性连接，以导通每一个画素22，因此画素制造过程得以简化。
请参阅图4所示，为本发明的画素形成一列的结构示意图，其中复数个画素22的排列方法呈一列的排列，其是可应用在扫描仪(Scanner)的光源，以取代传统的冷阴极荧光灯管(Cold Cathode Fluorescent Lamp，CCFL)，其具有更加省电及提高亮度的功效，而当然在该形成一列画素22的上、下二侧，设置由光阻所构成的绝缘材料23，再施行画素喷墨的程序，因此该扫描仪的光源结构的制造过程亦具有低成本的优势。
请参阅图5所示，为本发明的显示器画素形成一矩阵的结构示意图，其中复数个画素22的排列方法呈一矩阵排列，并在矩阵上、下二侧各设置有一由光阻所构成的绝缘材料23，再取一预定间隔同时进行复数个喷墨形成画素22程序，该液体墨料25不一定落在每一画素22的中心位置，而凭借着液体墨料25流动扩散的现象以填满所有的画素22，而与前述图2相较，本实施例具有制造过程快速及减少设置绝缘材料23的优点。
请参阅图6所示，为本发明的显示器画素形成对应图案后画素形成高低电位差的示意图，其中该复数画素组成显示一“A”字，而在虚线框出区域(二个相邻画素)，一个画素为被点亮，该被点亮画素即处在一高电位状态，而其相邻画素因为没被点亮，故处在一低电位状态，因此高电位画素31会产生“漏电现象”，请同时参阅图7所示，是为本发明的显示器画素形成对应图案后画素导通的阳极至阴极结构示意图，由高电位画素31的高电位阳极311流向阴极33，再由阴极33流向低电位画素32的低电位阳极321，请再参阅图8所示，是为本发明的显示器画素因高低电位差所形成画素老化破损的结构示意图，其中包括有复数个正常画素41及破损画素42，若长久形成高电位及低电位画素的电位差异，而无任何防制对策，便可发现常处在低电位的画素损耗老化的现象。
请参阅图9所示，为本发明的显示器画素的阳极至阴极电路之间加入一接地电路的结构示意图，前述图2、图3所示意的绝缘材料排列方向是与透明玻璃基板上涂布铟锡氧化物(Indium Tin-doped Oxide，ITO)所形成的阳极的排列方向为垂直，并在画素51上方所形成阴极材料形成电性连接，以点亮每一个画素51，但该复数画素51之间因为电位差将形成画素51老化的现象，本发明所公开的防止画素老化的方法，是在画素51的阳极至阴极电路(请同时参阅图7所揭露)之间加入一接地电路52，该接地电路52是为铟锡氧化物所构成，在制造过程上简化及降低成本的目的，该接地电路52的设置位置是为二阳极之间距处，以使高电位画素的电流流向接地电路，不直接流向低电位画素，每一个画素51因为都受到接地电路保护，因此不会造成画素51的损耗老化。
以上所述仅为本发明的较佳实施例，对本发明而言仅仅是说明性的，而非限制性的。本专业技术人员理解，在本发明权利要求所限定的精神和范围内可对其进行许多改变，修改，甚至等效，但都，将落入本发明的保护范围内。
Claims (12)
1.一种显示器及有机电子组件的画素形成结构的制作方法，其中该显示器包括显示器的光源，其特征在于，使用绝缘材料将液体墨料以单一纵向或横向来设置在画素平行的二周边，而绝缘材料排列方向是与阳极的排列方向为垂直，且绝缘材料的排列方向恰与阴极形成方向为平行，其中，该画素为使用连续一喷墨装置连续喷墨的方式射出形成薄膜在阳极表面。
2.根据权利要求1所述的显示器及有机电子组件的画素形成结构的制作方法，其特征在于，该阴极是直接形成在画素的表层。
3.根据权利要求1或2所述的显示器及有机电子组件的画素形成结构的制作方法，其特征在于，该阴极是以蒸镀方式所形成。
4.根据权利要求1所述的显示器及有机电子组件的画素形成结构的制作方法，其特征在于，该阳极是透明玻璃基板上涂布铟锡氧化物所形成。
5.根据权利要求1所述的显示器及有机电子组件的画素形成结构的制作方法，其特征在于，该绝缘材料是一光阻所构成，直接经过曝光显影的程序后，所残留未被蚀刻的光阻即形成该绝缘材料。
6.根据权利要求1或5所述的显示器及有机电子组件的画素形成结构的制作方法，其特征在于，该绝缘材料的另一作用是充当阴极分隔条。
7.根据权利要求1所述的显示器及有机电子组件的画素形成结构的制作方法，其特征在于，该显示器的光源为一聚合物发光二极管所组成。
8.根据权利要求1所述的显示器及有机电子组件的画素形成结构的制作方法，其特征在于，该画素的排列方法为一列。
9.根据权利要求1所述的显示器及有机电子组件的画素形成结构的制作方法，其特征在于，该画素的排列方法为一矩阵。
10.一种防止显示器及有机电子组件画素形成结构老化的制作方法，其中该显示器包括显示器的光源，绝缘材料排列方向是与透明玻璃基板上涂布所形成的阳极的排列方向为垂直，并在画素上方所形成阴极材料形成电性连接，其特征在于，在该画素的阳极至阴极电路之间加入一接地电路，该接地电路的设置位置为二阳极的间距处。
11.根据权利要求10所述的防止显示器及有机电子组件画素形成结构的老化的制作方法，其特征在于，该阳极为利用铟锡氧化物涂布在玻璃基板所构成。
12.根据权利要求10所述的防止显示器及有机电子组件画素形成结构的老化的制作方法，其特征在于，该接地电路为铟锡氧化物所构成。
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