CN1943309A - 一种建筑物屋顶、墙面立体绿化方法 - Google Patents

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金绍泉
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Abstract

本发明涉及建筑物为依托的绿化方法，特别是一种建筑物屋顶、墙面立体绿化方法。它包括以建筑物屋顶为依托的屋顶绿化，其特征在于：它还包括墙面造型基盘的绿化。该墙面造型基盘绿化的条件是：(一)种植土基本性能；(二)植物基本性能。本发明在建筑物屋顶绿化的基础上进一步使建筑物绿化的功能得到发挥。

Description

一种建筑物屋顶、墙面立体绿化方法
技术领域：
本发明涉及建筑物为依托的绿化方法，特别是一种建筑物屋顶、墙面立体绿化方法。
背景技术：
近年来，以地球高温问题的全球规模环境课题越来越迫不得已提到议事日程。而且在城市中，对居住，办公等生活空间的要求也不断提高。与此同时，人们也在为创造有意人类和其他生物的良好环境而不断努力。屋顶绿化是一种特殊的绿化形式，它是以建筑物顶部平台为依托进行，蓄水、复土并营造园林景观的一种空间绿化。它可改造局部地区小气候环境，缓解城市热岛效应，减少紫外线对屋顶的伤害。保护建筑防水层，延长其使用寿命，降低空气中漂浮的尘埃和烟雾，减少降雨时屋顶形成的径流，保持水份，充分利用空间节约土地，提高屋顶的保湿性能，节约资源，能降低噪声3-8分贝，顶层住户能降低热量4-6℃，节约空调电费。
如，中国发明专利公开说明书(公开号：CN1614176A)公开了一种屋顶绿化的生产方法，它包括下列步骤：(1)屋顶上铺一层在波顶上带孔的波浪型排水水泥纤维板或面上带孔、底下有支腿的材质为塑料或橡胶或水泥纤维的排水板；(2)在排水板上面铺一层无纺布或化纤薄毯；(3)在无纺布或化纤薄毯上面再铺花草营养土；(4)再在花草营养土上面种植花、草、无土草坪、小灌木。种无土草坪时铺花草营养土的厚度为2-6cm。本屋顶绿化的生产方法与传统的屋顶绿化的生产方法相比具有生产工艺简单、土层薄、屋顶承重小、排水性能好、低成本、消除了屋顶渗水、漏水及由于屋顶承重大而存在的隐患等优点。
该屋顶绿化方法不仅能为城市增加绿色，而且能减少建筑材料屋顶的辐热，减弱城市热岛效应。如果能很好地加以利用推广，形成城市的空中绿化系统，对城市环境的改善作用是不可估量的，为城市建设增添光辉。
从减少辐热的效果来说：在阳光下黑色防水材料表面温度73℃，平改坡工程常用的红瓦表面温度65℃，玻璃表面温度58℃，灰色水泥温度52℃，钢梁温度79℃，屋顶绿化草坪温度32℃，草坪下面层面温度28℃。由此可见，使用屋顶绿化方法
但是，在建筑物上除了屋顶我们还可以利用更多的空间来实现其绿化功能，建筑物绿化的效果上也可以得到进一步增强。
发明内容：
本发明的目的是提供一种建筑物屋顶、墙面立体绿化方法，主要解决上述现有技术中所存在的技术问题，进一步使建筑物绿化的功能得到发挥。
为解决上述技术问题，本发明是这样实现的：
一种建筑物屋顶、墙面立体绿化方法，它包括以建筑物屋顶为依托的屋顶绿化，其特征在于：它还包括墙面造型基盘的绿化。
所述的建筑物屋顶、墙面立体绿化方法，其特征在于该墙面造型基盘绿化的条件是：
(一)种植土基本性能
①在垂直墙面上不会因自重、降雨、浇灌等发生收缩减量，受侵蚀，崩溃和飞溅现象；
②植物根部能延长、生长；
③轻；
④能够在必要时更换栽植植物；
⑤种植土本身必须是不能燃烧的物质；
⑥能够比较容易地安装到框架等之中，不变形；
⑦尽可能保证上下水分含量均衡；
⑧至少在临建构造物上要保持10年以上质和量都不发生变化；
(二)植物基本性能
①在垂直面的种植层上固定得非常牢，不会掉下来；
②能够薄薄地贴在墙上生长；
③对过干、过温有耐性；
④能够长期保持绿化效果；
⑤不需要或很容易进行养护处理；
⑥病虫害少；
⑦能够在贫瘠的土壤上生长；
⑧在墙上可进行种子繁殖、枝条繁殖等更新换代。
具体实施方式：
本发明提供了一种建筑物屋顶、墙面立体绿化方法，它除了建筑屋顶绿化设置外，还具有建筑物墙面绿化设置。以下对本发明方法作进一步详述：
一、以建筑物屋顶为依托与环境共触绿化的条件设定：
1、允许荷重：根据绿化对象的不同用途，按绿化范围的大小，荷重有所不同，栽植重量(kg/m2)：(植物重量+种植基盘重量)/种植面积
建筑物的允许承重值
           建筑物的用途   地震时允许承重值   花板构造的允许承重值
  屋顶含阳台的允许承重值   住宅、写字楼等   60kg/m2   180kg/m2
  百货商场、学校   130kg/m2   300kg/m2
2、种植土基本性能：保水性、透水性处于稳定状态，不易风化、腐烂、板结，重量轻，性能不易失效，并能尽量做到可再次利用。在有机质蓄积之前，座号消毒灭菌处理。
人工基盘所用土壤性能的标准是：PF 1.5-3.8范围时，200/m3为适，100-200/m3为标准。透水系数的基本标准是10-3cm/S(10-5m/S)以上为标准。用于人工基盘土壤中水的PH值以5.0-7.5为标准。此外，种植土还有，耐久性、施工性，病虫害、杂草等方面的问题。
3、绿化模式种植土厚：①种植土厚35mm绿化模式②种植土厚50mm的绿化模式③种植土100mm的绿化模式④150mm的绿化模式⑤200mm厚的绿化模式。
其他构成要素，过滤层、排水层、防根层、肥料层、保护层。
候选植物的品种，对各种厚度种植土来说，能适宜种植性的植物品种。耐干性，抗风性矮杆型等有优势。
绿化质量、效果、时间：绿化质量以植物生长状态良好，土壤表面完整被植物覆盖，没有种植土等的飞溅现象为标准，该状态应该持续10年以上。
日常管理：1)除草：以保持绿化施工当初的植物品种的生长为目的。2)修建：必要时对禾本结缕草等禾本科为主的植物进行修剪。3)浇水：以土壤可保水量的1/3-1/5为标准。4)施肥：根据生长叶色状况进行。或根外追肥。特别注意刮风时的承重对策，在水平的屋顶上，有压力的风时，必须用支撑固定，上方风的压力(P)＝0.5×9(风载)(kg/m2)
二、墙面造型基盘的绿化
建筑物的墙面以“与环境共融”为目的，设置嵌入式造型基盘种植攀绿和垂钓植物构成基本定义：
(一)种植土基本性能
1、在垂直墙面上不会因自重、降雨、浇灌等发生收缩减量，受侵蚀，崩溃和飞溅等现象。
2、植物根部能延长、生长。
3、轻。
4、能够在必要更换栽植植物。
5、种植土本身必须是不能燃烧的物质。
6、能够比较容易地安装到框架等之中，不变形。
7、尽可能保证上下水分含量均衡。
8、至少在临建构造物上要保持10年以上质和量都不发生变化。
(二)植物基本性能
1、在垂直面的种植层上固定得非常牢，不会掉下来。
2、能够薄薄地贴在墙上生长。
3、对过干、过温有耐性。
4、能够长期保持绿化效果。
5、不许火药容易进行除荒等养护处理。
6、病虫害少。
7、能够在贫瘠的土壤上生长。(在施肥困难的情况下，要选择不用施肥也能生长的品种)
8、在墙上可进行种子繁殖、枝条繁殖等更新换代。
(三)浇灌装置基本性能
1、容易施工，能够没有遗漏地均衡浇水。
2、有精确性，容器能控制水量，浇水间隔。
3、不发生种植土的侵蚀、崩溃现象。
4、为实现自动化，能够在墙面埋设，安装控制装置。
(四)施肥方法
1、把施肥功能结合到灌溉系统，在浇水的同时进行施肥。
采用这种方法时，小规模的绿化因为只需要很少量的肥料成分，目前的肥料混入装置还是能够满足要求的。
2、将粒状肥料埋入墙面种植土中。
施肥容易出现遗漏，高处的作业非常困难。
(五)其他要素
1、关于设置方法
在现有墙面上用后安装的挂钩等进行施工时，要考虑挂钩强度和挂钩部分的漏水情况，应该采取充分的对策。
2、关于防水层
在墙面上采用双层种植土的施工方法时，必须保证墙面的防水性能。作为基本性能，有“不受植物根部侵犯”，“不会从墙面脱落”，“有耐久性”等内容。
基上表明，实现本专利得出结论“一座六层楼房的五面绿化是楼房占地面积的3.6倍”，“在充分利用建筑空间进行绿化的小区中，立体绿化面积可达到地面绿化用面积的15倍”。屋顶绿化承担了相当一部分观赏和游憩的功能，给业主带来直接的经济效益和社会环境污染的效益起到重大历史意义。
综上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并非用来限定本发明的实施范围。即凡依本发明申请专利范围的内容所作的等效变化与修饰，都应为本发明的技术范畴。

Claims (2)

1、一种建筑物屋顶、墙面立体绿化方法，它包括以建筑物屋顶为依托的屋顶绿化，其特征在于：它还包括墙面造型基盘的绿化。
2、根据权利要求1所述的建筑物屋顶、墙面立体绿化方法，其特征在于该墙面造型基盘绿化的条件是：
(一)种植土基本性能
①在垂直墙面上不会因自重、降雨、浇灌等发生收缩减量，受侵蚀，崩溃和飞溅现象；
②植物根部能延长、生长；
③轻；
④能够在必要时更换栽植植物；
⑤种植土本身必须是不能燃烧的物质；
⑥能够比较容易地安装到框架等之中，不变形；
⑦尽可能保证上下水分含量均衡；
⑧至少在临建构造物上要保持10年以上质和量都不发生变化；
(二)植物基本性能
①在垂直面的种植层上固定得非常牢，不会掉下来；
②能够薄薄地贴在墙上生长；
③对过干、过温有耐性；
④能够长期保持绿化效果；
⑤不需要或很容易进行养护处理；
⑥病虫害少；
⑦能够在贫瘠的土壤上生长；
⑧在墙上可进行种子繁殖、枝条繁殖等更新换代。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN104885748A (zh) * 2015-05-20 2015-09-09 杨利锋 一种佛甲草楼顶推广种植方法

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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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