CN1925723A - 基板处理装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种用于湿法蚀刻及剥离工序的基板处理装置。所述基板处理装置包括：供应基板的箱体；与上述箱体的上部是一体结构，并对上述基板进行药液处理工序的处理部；与上述箱体的下部是一体结构，并储存上述药液处理工序中所需药液的储存部；位于上述储存部的内部，并将药液循环至上述处理部的抽吸装置；以及连接于上述抽吸装置、并将药液喷射至上述处理部中基板的喷射部。

Description

基板处理装置

技术领域

本发明涉及一种基板处理装置，具体地说，将用于进行显像、蚀刻、剥离工序的处理部和储存部构成一体结构，并在内部设置用于循环药液的抽吸装置，从而提高处理效率的基板处理装置。

背景技术

通常，显示器装置制作工序中，在玻璃基板上形成电路图的工序由以下工序组成：在基板表面涂敷感光树脂(photosensitive-polymer)，形成感光膜的工序；通过一定的电路图案将感光膜曝光、显像的工序；蚀刻基板表面的工序；蚀刻工序之后利用有机溶剂等进行剥离的工序。

这些显示器装置制作工序中，上述蚀刻工序分为湿法蚀刻和干式蚀刻工序。

即，湿法蚀刻是利用化学溶液进行蚀刻的工序，而干式蚀刻是利用等离子体等气体进行蚀刻的工序。

这种湿法蚀刻及剥离装置，通常由以下部分组成：进行蚀刻及剥离工序的处理部；独立于上述处理部设置，且储存药液的储存部；连接储存部，并向处理部供应药液的泵。

因此，对基板进行蚀刻及剥离工序时，通过泵将储存在储存部的药液供应至处理部，并进行处理工序。

但是，这种基板处理装置中，泵和处理部分开设置，以此来循环药液，因此在药液循环过程中易发生热损失，在蚀刻工序中药液难以维持适当的温度。

而且，泵与处理部的分开设置，会导致药液循环过程中药液泄漏的问题。

另外，储存部与处理部的分开设置，需要增加用于设置储存部的空间，因此增加了设备的体积。

发明内容

本发明鉴于上述问题而作，其目的在于提供一种将用于抽吸药液的泵设置在与处理部构成一体结构的储存部内部，从而使药液循环过程中发生的热损失达到最少而可维持蚀刻工序中所需温度的基板处理装置。

本发明的另一个目的是提供一种使泵与储存部成为一体结构，从而可防止药液在循环过程中泄漏的基板处理装置。

本发明的另一个目的是提供一种通过缩小储存部的占有空间而提高空间利用率，并使各个浴槽成为模块化，从而可迅速对应工序变化的基板处理装置。

本发明的另一个目的是提供一种可减少电机驱动时的震动，从而可提高工艺稳定性的基板处理装置。

为了实现上述目的，本发明提供一种基板处理装置，其包括：

供应基板的箱体；与上述箱体的上部构成一体结构，并对上述基板进行药液处理工序的处理部；与上述箱体的下部构成一体结构，并储存上述药液处理工艺所需药液的储存部；位于上述储存部的内部，并将药液循环至上述处理部的抽吸装置；以及连接于上述抽吸装置，并将抽吸到的药液喷射至上述处理部中基板的喷射部。

本发明具有如下优点。

第一，由于在储存部的内部一体形成用于抽出药液的抽吸装置，因此可使药液循环时所发生的热损失及压力下降，以此维持适合进行蚀刻工序的药液温度和压力，从而具有可防止产生污垢、提高反应性的优点。

第二，由于抽吸装置设置在储存部内部，因此可防止药液在循环过程中的泄漏。

第三，由于储存部和处理部一体形成，因此缩小了储存部的占有空间，随此提高了空间利用率，而且由于每个浴槽成为模块化，因此可迅速对应工序变化。

第四，降低了因电机驱动而产生的震动，从而可增加工艺稳定性。

第五，通过将处理部、储存部、抽吸装置构成一体结构，可缩小设备体积而节省制作费用。

附图说明

图1是表示本发明的优选实施例的用于湿法蚀刻及剥离工序的基板处理装置内部结构的立体图。

图2是图1的侧面剖视图。

图3是图2中抽吸装置的放大图。

具体实施方式

下面，参照附图详细说明本发明的优选实施例所涉及的基板处理装置。

图1是表示本发明的优选实施例的用于湿法蚀刻及剥离工序的基板处理装置的内部结构立体图，图2是图1的侧面剖视图。

如图所示，本发明所提供的基板处理装置可适用于各种不同的基板处理工序，但是常用于进行显像工序、湿法蚀刻工序及剥离工序的装置，因此，下面按照适用于显像、蚀刻及剥离工序的实施例来进行说明。

本发明提供的基板处理装置，包括：箱体3，其内部分为上下部分；处理部5，其位于所述箱体3的上部，进行药液处理工序；储存部7，其与所述箱体3的下部构成一体，并储存药液；抽吸装置15，其位于所述储存部7的内部，将药液抽吸至上述处理部5；喷射部11，其连接于上述抽吸装置15，并将抽吸到的药液喷射到处理部5中的基板G上。

具有上述结构的基板处理装置中，上述箱体3在其内部具有一定的空间，并且其内部由分隔板9分成上下部分。

即，分隔板9的上部设置有处理部5，分隔板9的下部设置有储存部7。

而且，在上述处理部5的内部设置有支撑并传送基板G的传送滚轮R。因此，通过箱体3的一侧上具备的进料口14，基板G可以传送至处理部5内部。

另外，上述储存部7与处理部5的下部为一体结构，用以储存由处理部5供应的药液。

此时，区分上述处理部5和储存部7的分隔板9上，具备形成有若干个贯通孔的开口部13，因此可使处理部5中的药液滴落到储存部7中。

如此，处理部5与储存部7成为一体的结构，可减少处理部和储存部独立设置的现有技术中，用来设置储存部7的另外空间。

而且，通过把处理部5和储存部7形成一体，使处理生产线的浴槽成为模块化，由此可灵活地对应工艺变化。

上述内容中，箱体内部分为上下部分，但是本发明并不局限于此，还可以采用将箱体内部分为左右部分，或省略分隔板的实施方式。

所述储存部7中具有药液循环管，因此可适当更换被污染的药液。所述药液循环管包括位于储存部7的两侧的流入管27和流出管25，所述流入管27和流出管25分别连接有阀门26a、26b，因此可进行开闭操作。

因此，当更换因长时间的使用而被污染的药液时，可通过该流入管27和流出管25更换新的药液。

此时，可同时具备上述流入管27和流出管25，或具备其中之一。

如上所述，储存部7所储存的药液可通过上述抽吸装置15供应至处理部5。

上述抽吸装置15由安装在储存部7内部的泵17和，位于上述箱体3的外部、并通过磁力以非接触方式向泵17传递旋转力的磁性驱动部构成。

更详细地说，如图3所示，上述的泵17通常包括外部经过耐化学性涂敷处理的特氟隆泵或FRP泵等化工泵。

上述泵17包括：壳体31，其位于储存部7的内底部；转轴37，可转动地设置在上述壳体31的内部；叶轮35，其安装于上述转轴37上，并且在上述磁性驱动部19传递磁力的情况下，进行转动而产生吸力；第1磁板42，位于上述转轴37上，并从磁性驱动部19接受磁力。

具有上述结构的泵中，上述壳体31，在其入口处具有吸入药液的吸入口21，且在出口处具有将壳体31内部的药液排出到外部的排出口33。

因此，储存部7的药液可通过上述壳体31的吸入口21吸入后，通过排出口33排出到上述喷射部11。

另外，上述转轴37的上端部分，由轴承39可旋转地固定在位于壳体31顶部的肋条38的内部。而且，上述转轴37的下端部分，由肋条40和轴承41可旋转地固定在壳体31的底部。

因此，上述转轴37可在壳体31内部旋转。

另外，上述转轴37的中间部分具有与其构成一体的上述叶轮35，且下端部分具有上述第1磁板42。

此时，上述第1磁板42配置成与在后叙述的第2磁板43隔着箱体3互相对应的结构。

因此，磁性驱动部19的第2磁板产生的磁力穿过箱体3，以非接触方式传递给第1磁板42时，叶轮35会转动。

如上所述，当叶轮35转动时，叶轮35将会推开壳体31内部的药液而产生一定压力的吸力，以此经过吸入口21吸入储存部7中的药液，而吸入的药液通过排出口33排出到上述喷射部11。

另外，上述磁性驱动部19连接于产生旋转力的电机组20和上述电机组20的转轴，并且包括产生磁力且传递给上述叶轮35的第2磁板43。

上述的第1磁板42及第2磁板43最好包括磁铁等磁性体，并且如上所述，两磁板呈以箱体3为中心，在箱体3的外部及内部相隔一定距离互相对应的非接触结构。

另外，上述第1磁板42及第2磁板43，两个都可以是磁性体，或者也可以是只有第2磁板43为磁性体。此时，磁性体可以是永久磁铁或电磁铁。

因此，当第2磁板43由电机组19进行转动时，磁力将穿过箱体3，以非接触方式传递到第1磁板42上。

结果，向叶轮35传递动力的过程中可防止因接触而产生的噪音，而且无需在箱体3上形成连接口等，因此还可防止药液泄漏。

以上，针对适用磁性驱动部而以非接触方式驱动泵的实施例进行了说明，但是本发明并不局限于此，本发明也可采用在箱体内部安装通常的电机组，并将此电机组直接连接泵，并以此来驱动泵的方式。当然，这种情况下所述的电机组应具备防水功能。

另外，从上述泵17的排出口33排出的药液通过上述喷射部11供应至处理部5。

上述喷射部11包括通常的公知结构喷射装置。

即，其结构由连接于泵17的排出口33的输送管23、供应药液的喷射管45、形成在喷射管45上的多个喷嘴47构成。

因此，经由喷射管45供应的药液通过喷嘴47喷射，从而供应到基板G的表面，以进行处理。

下面，参照附图，进一步详细说明本发明的优选实施例所涉及的基板处理装置的工作过程。

如图1至图3所示，利用本发明提供的基板处理装置对基板G进行显像、蚀刻及剥离工序时，首先利用传送滚轮R将基板G移送至箱体3的内部。

之后，驱动抽吸装置15抽出存储在储存部7内的一定水位的药液，并将其喷射到处理部5的基板G上。

即，当驱动上述抽吸装置15的磁性驱动部19时，第2磁板43就会转动，而磁力穿过箱体3，以非接触方式传递给第1磁板42，以此使叶轮35转动。

如上所述，当叶轮35在壳体31内部，以一定速度转动时，因壳体31内部处于存有药液的状态，因此叶轮35就会推开这些药液，使壳体31内部产生负压。

随此，通过壳体31的吸入口21，药液被吸入到壳体31内部，而被吸入的药液可排出到壳体31外部。

被排出的药液通过喷射部11的输送管23供应至喷射管45，而供应至喷射管45的药液通过多个喷嘴47喷射在基板G的表面，以此对基板G可进行蚀刻及剥离处理。

如此，喷射在处理部5内部的药液对基板进行处理之后，便通过分隔板9的开口部13滴落而重新回到下部的储存部7。之后，再重复进行通过抽吸装置15被抽吸，并供应至处理部5的上述过程。

只要是在本发明所属技术领域中具有普通技术水平的人，都可以在本发明技术思想的基础上，对本发明进行各种变更及修改，因此本发明所要求保护的范围并不局限于上述较佳实施例。

Claims (11)

1、一种基板处理装置，包括：

供应基板的箱体；

与上述箱体的上部是一体结构，并对上述基板进行药液处理工序的处理部；

与上述箱体的下部是一体结构，并储存上述药液处理工序中所需药液的储存部；

位于上述储存部的内部，并将药液循环至上述处理部的抽吸装置；以及

连接于上述抽吸装置，并将药液喷射至上述处理部上基板的喷射部。

2、根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于：

上述箱体内部由分隔板分为上下部分，上部为处理部，下部为储存部，而且上述分隔板的一部分上设有开口部，从而使药液从处理部供应至储存部。

3、根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于：

上述抽吸装置包括，位于上述储存部的内部、并用于抽出药液的泵；位于上述箱体的外部、并通过磁力以非接触方式向上述泵传递旋转力的磁性驱动部。

4、根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于：

上述泵包括，位于储存部底部的壳体；可转动地设置在上述壳体内部的转轴；设置在上述转轴上，并通过旋转运动吸入流体的叶轮；位于上述转轴的叶轮上，并从上述磁性驱动部接受磁力而使转轴旋转的第1磁板。

5、根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于：

上述泵的外部进行了耐化学性涂敷处理。

6、根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于：

上述泵的壳体包括，形成在其一侧、并使药液流入的吸入口；形成在上述吸入口的另一侧，并用于使流入壳体内部的药液排出至处理部方向的排出口。

7、根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于：

上述转轴的上端及下端各自被肋条和轴承支撑在壳体的顶部和底部，并以此来可旋转。

8、根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于：

上述磁性驱动部包括，通过接受电能而产生旋转力的电机组；设置在上述电机组的转轴上，并施加磁力而使上述泵的第1磁板旋转的第2磁板。

9、根据权利要求4或8所述的基板处理装置，其特征在于：

上述的第1磁板及第2磁板的两侧或者其中一侧为磁性体。

10、根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于：

上述喷射部包括，连接于上述抽吸装置的输送管；连接于上述输送管，并供应药液的喷射管；位于上述喷射管并向基板喷射药液的喷嘴。

11、根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于：

上述箱体的储存部多设有药液更换管，由此可以更换上述储存部内的药液。