CN1904731A - 纳米贴纸的制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明是一种纳米贴纸的制造方法,主要包含有下列步骤:a)在真空环境下,备置一基板以及一转印戳,该转印戳具有一转印面,于该转印面表面设有纳米凸纹,该纳米凸纹是由多数凸部及多数凹部组成,该基板具有一蚀刻层;b)进行一沾取程序,使该纳米凸纹的凸部或凹部其中之一沾取一光阻材料;c)进行一转印程序,使该转印戳的该纳米凸纹与该蚀刻层接触,以将该纳米凸纹上的光阻材料转印于该蚀刻层表面;d)进行一蚀刻程序,对该蚀刻层进行蚀刻,使该蚀刻层上未覆盖光阻材料的部位被蚀刻预定深度;通过由前述步骤,可使纳米贴纸的生产能应用于产业上的量产及低成本的需求。
Description
技术领域
本发明是与纳米科技有关,特别是指可符合产业量产及低成本需求的一种纳米贴纸的制造方法。
背景技术
在制造纳米贴纸的技术中,目前是以版印技术(LithographyTechniques)可符合量产且低价的需求,其中,低于50纳米线宽分辨率的技术,可符合未来的半导体集成电路、电子商业化、光电产业以及磁性纳米装置等的制造需求。
目前所知的技术中,有一种是扫瞄电子束的版印技术(K.C.Beard,T.Qi.M.R.Dawson,B.Wang.C.Li,Nature 368,604(1994).),具有10纳米的分辨率;然而,由于此种技术是以点接点(point by point)的方式串行排列,因此其生产速度极低,无法符合量产的需求。另外有一种技术,是为X射线的版印技术(M.Godinot and M.Mahboubi,C.R.Acad.Sci.Ser.II Mec.Phys.Chim.Chim.Sci.Terre Univers.319,357(1994);M.Godinot,in Anthropoid Origins,J.G.Fleagle and R.F.Kay,Eds.(Plenum,New York,1994),pp.235-295.),具有20纳米的分辨率,是为接触转印的模式,其可具有高生产率;然而,其光罩技术以及曝光技术均非常复杂且昂贵,此亦无法符合业界需求。又,有一种靠近式扫瞄探针的版印技术(E.L.Simons and D.T.Rasmussen,Proc.Nati.Acad.Sci.U.S.A.91,9946(1994);Evol.Anthropol.3,128(1994)),具有10纳米的分辨率,是属于较早期的技术;此技术亦不能符合产业上的量产及低成本需求。
有鉴于上述缺点,本案的发明人乃经过不断的试作与实验后,终于发展出本发明。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种纳米贴纸的制造方法,其可符合产业上的量产及低成本需求。
依据本发明所提供的一种纳米贴纸的制造方法,主要包含有下列步骤:a)在真空环境下,备置一基板以及一转印戳,该转印戳具有一转印面,于该转印面表面设有纳米凸纹,该纳米凸纹是由多数凸部及多数凹部组成,该基板具有一蚀刻层;b)进行一沾取程序,使该纳米凸纹的凸部或凹部其中之一沾取一光阻材料;c)进行一转印程序,使该转印戳的该纳米凸纹与该蚀刻层接触,以将该纳米凸纹上的光阻材料转印于该蚀刻层表面;d)进行一蚀刻程序,对该蚀刻层进行蚀刻,使该蚀刻层上未覆盖光阻材料的部位被蚀刻预定深度。通过由前述步骤,可使纳米贴纸的生产能应用于产业上的量产及低成本的需求。
附图说明
为了详细说明本发明的特点所在,兹举以下的二较佳实施例并配合图式说明如后,其中:
图1是本发明第一较佳实施例的第一动作示意图;
图2是本发明第一较佳实施例的第二动作示意图;
图3是本发明第一较佳实施例的状态示意图,显示以凸部来沾取光阻材料的状态;
图4是本发明第一较佳实施例的状态示意图,显示以凹部来沾取光阻材料;
图5是本发明第一较佳实施例的第三动作示意图;
图6是本发明第一较佳实施例的状态示意图,显示转印后的基板状态;
图7是本发明第一较佳实施例的第四动作示意图;
图8是本发明第一较佳实施例的第五动作示意图;
图9是本发明第二较佳实施例的第一动作示意图;
图10是本发明第二较佳实施例的第二动作示意图;
图11是本发明第二较佳实施例的第三动作示意图;
图12是本发明第二较佳实施例的第四动作示意图。
具体实施方式
如图1至图7所示,本发明第一较佳实施例所提供的一种纳米贴纸的制造方法,主要包含有下列步骤:
a)在真空环境下,备置一基板11以及一转印戳21,该转印戳21是呈板状,底部具有一转印面22,于该转印面22表面设有纳米凸纹24,该纳米凸纹24是由多数凸部241及多数凹部243组成,该基板11具有一蚀刻层12,该蚀刻层12是为聚合物材质(polymer),其状态是如图1所示;
b)进行一沾取程序,如图2所示,使该纳米凸纹24的凸部241或凹部243其中的一沾取光阻材料26,其中,以凸部241沾取光阻材料26后的状态是如图3所示,而以凹部243沾取光阻材料26后的状态是如图4所示;
c)进行一转印程序,使该转印戳21转印于该基板11,如图5所示,此时,该纳米凸纹24即与该蚀刻层12接触,通过将该纳米凸纹24上的光阻材料26转印于该蚀刻层12表面,其中,无论是以凸部241或凹部243来沾取光阻材料26,均可将光阻材料26转印于该蚀刻层12表面,以凸部241转印后的该基板11状态是如图6所示,以凹部243转印者则因概同于图6的状态,容不赘述;
d)进行一蚀刻程序,如图7所示,对该蚀刻层12进行蚀刻,使该蚀刻层12上未覆盖光阻材料26的部位被蚀刻预定深度,进而在覆盖有光阻材料26的部位形成出预定高度的多数纳米纤毛28,至此,即可直接以该基板11做为纳米贴纸,或将该蚀刻层12取下而附着于其它材料做为纳米贴纸的其它应用。
通过由上述的方法,可形成出纳米贴纸。
而本第一实施例中尚可再增加一步骤e):进行一洗净程序,以洗剂(图中未示)将该基板11上的光阻材料26移除,移除后的状态是如图8所示。由于前述步骤a)至步骤d)所形成的纳米纤毛28顶端尚留存光阻材料26,而光阻材料26是否移除,均不会影响纳米贴纸本身的吸附性,但洗净程序可使得纳米贴纸的成品更为单纯,且可消除未洗净状态下的其它可能变量。
请再参阅图9至图12,本发明第二较佳实施例所提供的一种纳米贴纸的制造方法,主要包含有下列步骤:
a)在真空环境下,备置一基板31以及一转印戳41,该转印戳41是呈滚筒状,周面形成一转印面42,于该转印面42表面设有纳米凸纹44,该纳米凸纹44是由多数凸部441及多数凹部443组成,该基板31具有一蚀刻层32,其状态是如图9所示;
b)进行一沾取程序,如图10所示,使该纳米凸纹44的凸部441或凹部443其中之一沾取光阻材料46;
c)进行一转印程序,使该转印戳41滚抵于该基板31,如图11所示,此时,该纳米凸纹44即与该蚀刻层32接触,通过将该纳米凸纹44上的光阻材料46转印于该蚀刻层32表面,本实施例中是以凸部441沾取光阻材料46为例,而为免赘述,于此不再对凹部443沾取的过程说明;
d)进行一蚀刻程序,如图12所示,对该蚀刻层32进行蚀刻,使该蚀刻层32上未覆盖光阻材料46的部位被蚀刻预定深度,进而在覆盖有光阻材料46的部位形成出预定高度的多数纳米纤毛48,至此,即可直接以该基板31做为纳米贴纸,或将该蚀刻层32取下而附着于其它材料做为纳米贴纸的应用。
本第二实施例与前揭第一实施例的差异主要在于该转印戳的形状,以及转印戳与该基板的接触方式(第一实施例为转印,第二实施例为滚抵),至于其它步骤则概同于前揭第一实施例,容不赘述。而本第二实施例的方式,可适合连续生产作业。
由上可知,本发明所提供的纳米贴纸的制造方法,可以在真空的环境下,以简单的转印或滚印技术配合蚀刻技术,来快速且大量的形成出纳米级的蚀刻层,可做为纳米贴纸之用,不仅可符合产业上的量产需求,更兼具了低成本的优势,较习用者更有产业上的优势。
Claims (7)
1.一种纳米贴纸的制造方法,其特征在于,包含有下列步骤:
a)在真空环境下,备置一基板以及一转印戳,该转印戳具有一转印面,于该转印面表面设有纳米凸纹,该纳米凸纹是由多数凸部及多数凹部组成,该基板具有一蚀刻层;
b)进行一沾取程序,使该纳米凸纹的凸部或凹部其中之一沾取光阻材料;
c)进行一转印程序,使该转印戳的该纳米凸纹与该蚀刻层接触,通过以将该纳米凸纹上的光阻材料转印于该蚀刻层表面;
d)进行一蚀刻程序,对该蚀刻层进行蚀刻,使该蚀刻层上未覆盖光阻材料的部位被蚀刻预定深度。
2.依据权利要求1所述的纳米贴纸的制造方法,其特征在于:更包含有:步骤e)进行一洗净程序,以洗剂将该基板上的光阻材料移除。
3.依据权利要求1所述的纳米贴纸的制造方法,其特征在于:于步骤b)中,是以该纳米凸纹的凸部沾取该光阻材料。
4.依据权利要求1所述的纳米贴纸的制造方法,其特征在于:于步骤b)中,是以该纳米凸纹的凹部沾取该光阻材料。
5.依据权利要求1所述的纳米贴纸的制造方法,其特征在于:于步骤a)中,该蚀刻层是聚合物材质。
6.依据权利要求1所述的纳米贴纸的制造方法,其特征在于:于步骤a)中,该转印戳是呈板状,其转印面位于底部;而于步骤c)中,该转印戳是以转印的方式以其纳米凸纹接触于该蚀刻层。
7.依据权利要求1所述的纳米贴纸的制造方法,其特征在于:于步骤a)中,该转印戳是呈滚筒状,其转印面位周面;而于步骤c)中,该转印戳是以滚抵的方式以其纳米凸纹接触于该蚀刻层。
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