CN1893089A - 显示器基板、其制造方法及采用该基板的显示装置 - Google Patents

显示器基板、其制造方法及采用该基板的显示装置 Download PDF

Info

Publication number
CN1893089A
CN1893089A CNA2005101268352A CN200510126835A CN1893089A CN 1893089 A CN1893089 A CN 1893089A CN A2005101268352 A CNA2005101268352 A CN A2005101268352A CN 200510126835 A CN200510126835 A CN 200510126835A CN 1893089 A CN1893089 A CN 1893089A
Authority
CN
China
Prior art keywords
active layer
drain electrode
electrode part
wiring
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CNA2005101268352A
Other languages
English (en)
Inventor
徐宗铉
洪雯杓
吴濬鹤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Samsung Electronics Co Ltd
Original Assignee
Samsung Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samsung Electronics Co Ltd filed Critical Samsung Electronics Co Ltd
Publication of CN1893089A publication Critical patent/CN1893089A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133305—Flexible substrates, e.g. plastics, organic film
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136286—Wiring, e.g. gate line, drain line

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Thin Film Transistor (AREA)

Abstract

一种显示器基板，其包括塑料基板、栅极布线、栅极绝缘层、第一和第二有源层、数据布线和漏极布线。所述栅极布线包括栅极线、第一栅电极部分和第二栅电极部分。所述第一和第二有源层形成于所述栅极绝缘层的第一和第二部分上。所述数据布线包括的第一数据线具有分别形成于所述第一和第二有源层上的第一和第二源电极部分。在第一数据线和第二数据线之间布置所述漏极布线。所述漏极布线包括分别形成于所述第一和第二有源层上的第一和第二漏电极部分。因此，即使由于显示器基板收缩而在有源层和源极、漏极布线中产生错位，所述两个薄膜晶体管中的一个也可以保持正常工作。还提供了显示器基板的制造方法和具有该基板的显示装置。

Description

显示器基板、其制造方法及采用该基板的显示装置
技术领域
本发明涉及显示器基板以及所述显示器基板的制造方法和具有所述显示器基板的显示装置。更具体来讲，本发明涉及能够减少由错位引起的缺陷的显示器基板和制造所述显示器基板的方法，以及具有所述显示器基板的显示装置。
背景技术
诸如移动电话、数字照相机、笔记本电脑和监视器的很多电气设备都采用显示装置。显示装置的例子包括液晶显示(LCD)装置、有机光发射(OLED)装置等。
LCD装置和OLED装置包括用于独立驱动每一像素的显示器基板。所述显示器基板包括带有信号布线的绝缘基板和在所述绝缘基板上形成的诸如薄膜晶体管(TFT)的驱动装置。
玻璃基板已经被用作了常规绝缘基板。但是，为了降低其重量和厚度可以采用柔性塑料基板作为绝缘基板。
在采用塑料基板作为绝缘基板时，在形成信号布线和TFT的过程中，塑料基板可能发生变形，从而导致错位的产生。随着塑料基板尺寸的增大，在塑料基板的边缘区域错位将变得严重。特别地，在结束TFT有源层的蚀刻过程之后塑料基板发生收缩，这时，源电极和漏电极不再覆盖所述有源层，从而导致了“沟道敞开”状态，使得显示器基板得不到驱动。
发明内容
根据本发明，提供了一种能够降低由错位引起的缺陷的显示器基板。
根据本发明，还提供了一种制造上述显示器基板的方法。
根据本发明，还提供了一种具有所述显示器基板的显示装置。
在根据本发明的一个示范性显示器基板中，所述显示器基板包括：塑料基板、栅极布线、栅极绝缘层、第一和第二有源层、数据布线和漏极布线。在塑料基板上沿第一方向形成栅极布线。所述栅极布线包括栅极线、第一栅电极部分和第二栅电极部分。在具有形成于其上的栅极布线的塑料基板上形成栅极绝缘层。在栅极绝缘层的第一和第二部分上形成第一和第二有源层。所述绝缘层的第一和第二部分分别对应于第一和第二栅电极部分。在栅极绝缘层上沿不平行于第一方向的第二方向形成所述数据布线。所述数据布线包括具有形成于所述第一有源层上的第一源电极部分的第一数据线和具有形成于所述第二有源层上的第二源电极部分的第二数据线。在第一数据线和第二数据线之间布置所述漏极布线。所述漏极布线包括在所述第一有源层上形成的第一漏电极部分和包括形成于第二有源层上的第二漏电极部分的第二漏极布线。
优选地，形成第一有源层，使得第一有源层的中央与第一源电极部分之间的距离小于第一有源层的中央与第一漏电极部分之间的距离。
此外，形成第二有源层，使得第二有源层的中央与第二源电极部分之间的距离小于第二有源层的中央与第二漏电极部分之间的距离。
在制造根据本发明的显示器基板的示范性方法中，在塑料基板上形成栅极布线。所述栅极布线包括栅极线、第一栅电极部分和第二栅电极部分。在具有形成于其上的栅极布线的塑料基板上形成栅极绝缘层。在栅极绝缘层的第一和第二部分上形成第一和第二有源层。所述绝缘层的第一和第二部分分别对应于第一和第二栅电极部分。在栅极绝缘层上沿与第一方向交叉的第二方向形成所述数据布线。所述数据布线包括具有形成于所述第一有源层上的第一源电极部分的第一数据线和具有形成于所述第二有源层上的第二源电极部分的第二数据线。在第一数据线和第二数据线之间形成所述漏极布线。所述漏极布线包括在所述第一有源层上形成的第一漏电极部分和包括形成于第二有源层上的第二漏电极部分的第二漏极布线。
优选地，形成第一有源层，使得第一有源层的中央与第一源电极部分之间的距离小于第一有源层的中央与第一漏电极部分之间的距离；形成第二有源层，使得第二有源层的中央与第二源电极部分之间的距离小于第二有源层的中央与第二漏电极部分之间的距离。
在根据本发明的示范性显示装置中，所述显示装置包括第一基板、面对所述第一基板的第二基板和布置在所述第一和第二基板之间的液晶层。
第一基板包括第一塑料基板、栅极布线、栅极绝缘层、第一和第二有源层、数据布线和漏极布线。在所述第一塑料基板上沿第一方向形成栅极布线。所述栅极布线包括栅极线、第一栅电极部分和第二栅电极部分。在具有形成于其上的栅极布线的塑料基板上形成栅极绝缘层。在栅极绝缘层的第一和第二部分上形成第一和第二有源层。所述绝缘层的第一和第二部分分别对应于第一和第二栅电极部分。在栅极绝缘层上沿不平行于第一方向的第二方向形成所述数据布线。所述数据布线包括具有形成于所述第一有源层上的第一源电极部分的第一数据线和具有形成于所述第二有源层上的第二源电极部分的第二数据线。在第一数据线和第二数据线之间布置所述漏极布线。所述漏极布线包括在所述第一有源层上形成的第一漏电极部分和包括形成于第二有源层上的第二漏电极部分的第二漏极布线。
优选地，形成第一有源层，使得第一有源层的中央与第一源电极部分之间的距离小于第一有源层的中央与第一漏电极部分之间的距离；形成第二有源层，使得第二有源层的中央与第二源电极部分之间的距离小于第二有源层的中央与第二漏电极部分之间的距离。
因此，即使由于显示器基板收缩而在有源层和源极、漏极布线中产生错位，所述的两个开关装置中的一个也可以保持正常工作。
附图说明
通过参照附图，对本发明的示范性实施例予以详细说明，本发明的上述和其他特征和优势会变得更加明显，其中：
图1是说明根据本发明示范性实施例的一部分显示器基板的布局图；
图2是沿图1的I-I′线得到的横截面图；
图3是说明收缩的一部分显示器基板的布局图；
图4是说明图2中的塑料基板的横截面图；
图5到图8是说明图1和2中的显示器基板的制造方法的横截面图；及
图9是根据本发明示范性实施例的显示装置的横截面图。
具体实施方式
应当理解的是，在不背离这里所公开的发明原理的情况下，可以对如下所述的本发明的示范性实施例进行很多种方式的改变或修改，因此，本发明的范围不仅限于下文中这些特定的实施例。相反地，提供这些实施例的目的在于对本说明书进行充分、完整的公开，通过举例而非限制的方式向本领域技术人员全面地传达本发明的原理。
下面，将参照附图对本发明的实施例子以详细说明。
图1是根据本发明示范性实施例的一部分显示器基板的布局图，图2是沿图1中的I-I′线得到的横截面图。
参照图1和图2，根据本发明实施例的显示器基板100包括：塑料基板110、栅极布线120、栅极绝缘层130、第一有源层140、第二有源层145、数据布线150和漏极布线160。
塑料基板110具有柔软的薄膜外形。塑料基板110可以包括光学透明的合成树脂。
栅极布线120形成于塑料基板110上。栅极布线120包括栅极线122、第一栅电极部分124和第二栅电极部分126。第一栅电极部分124和第二栅电极部分126电连接至栅极线122。
栅极布线122沿第一方向延伸。第一栅电极部分124电连接至栅极线122，第一栅电极部分124是第一开关装置TFT1的元件。第二栅电极部分126电连接至栅极线122，第二栅电极部分126是第二开关装置TFT2的元件。
在其上形成了栅极布线120的塑料基板110上形成栅极绝缘层130。栅极绝缘层130包括，例如氮化硅(SiNx)、氧化硅(SiOx)等。
在栅极绝缘层130的部分之上形成第一有源层140和第二有源层145，所述部分分别对应于第一和第二栅电极部分124和126。
第一有源层140包括第一半导体层141和第一欧姆接触层142。第二有源层145包括第二半导体层146和第二欧姆接触层147。第一和第二半导体层141和146包括非晶硅(a-Si)。第一和第二欧姆接触层142和147包括具有n型掺杂剂的非晶硅(n+a-Si)。
在栅极绝缘层130上沿基本上垂直于第一方向的第二方向形成数据布线150。数据布线150包括对应于第一栅电极部分124的第一数据线151和对应于第二栅电极部分126的第二数据线152。第一和第二数据线151和152沿第二方向延伸，使得第一和第二数据线151和152基本上垂直于沿第一方向延伸的栅极线122。
第一数据线151包括布置在第一有源层140上的第一源电极部分153。第一源电极部分153是第一开关装置TFT1的元件。第二数据线152包括布置在所述第二有源层145上的第二源电极部分154。第二源电极部分154是第二开关装置TFT2的元件。
在栅极绝缘层130上形成漏极布线160。在第一和第二数据线151和152之间布置漏极布线160。漏极布线160包括第一漏电极部分161和第二漏电极部分162。在第一有源层140上布置第一漏电极部分161，在第二有源层145上布置第二漏电极部分162。
第一漏电极部分161是第一开关装置TFT1的元件，第二漏电极部分162是第二开关装置TFT2的元件。
第一源电极部分153和第一漏电极部分161在第一有源层140之上间隔一定距离。第一有源层140对应于第一开关装置TFT1的沟道。第二源电极部分154和第二漏电极部分162在第二有源层145之上间隔一定距离。第二有源层145对应于第二开关装置TFT2的沟道。
漏极布线160进一步包括与第一和第二漏电极部分161和162电连接的接触部分163。接触部分163布置在第一和第二漏电极部分161和162之间。
数据布线150和漏极布线160包括基本上相同的材料。数据布线150和漏极布线160通过相同的工艺形成。
显示器基板100进一步包括保护层170和像素电极180。保护层170形成于栅极绝缘层130上，栅极绝缘层130具有形成于其上的数据布线150和漏极布线160。保护层170包括暴露漏极布线160的接触部分163的接触孔172。
在保护层170上形成像素电极180，使得像素电极180覆盖漏极布线160的接触部分163。像素电极180包括光学透明的导电材料。例如，像素电极180可以包括氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)等。
像素电极180通过接触孔172电连接至漏极布线160的接触部分163。
尽管在图中未示出，显示器基板100可以有选择地包括布置在保护层170和像素电极180之间的有机层(未示出)，从而使显示器基板100的表面平面化。
根据本发明的显示器基板100采用了柔性塑料基板110。在形成信号布线和开关装置的过程中施加的热量容易使塑料基板110变形。特别地，在用于形成第一和第二有源层140和145的蚀刻过程结束后，塑料基板110将发生收缩。由于存在收缩，所以基板110的边缘部分的错位量大于中央部分的错位量。由于在塑料基板110的中央部分上形成的开关装置在错位的影响下无法覆盖有源层、源电极和漏电极，因此，布置在边缘部分的开关装置的沟道可能敞开。
为了防止开关装置的沟道敞开，根据本发明的显示器基板100在每一像素电极处包括两条数据线151和152，以及两个开关装置TFT1和TFT2。
此外，形成第一有源层140，使得第一有源层140的中央与第一源电极部分153之间的距离小于第一有源层140的中央与第一漏电极部分161之间的距离。此外，形成第二有源层145，使得第二有源层145的中央与第二源电极部分154之间的距离小于第二有源层145的中央与第二漏电极部分162之间的距离。
具体来讲，在对应于第一有源层140的区域内，第一源电极部分153和第一漏电极部分161基本上平行，在对应于第二有源层145的区域内第二源电极部分154和第二漏电极部分162基本上平行。对布置在像素电极180的左侧的第一有源层140(如图1所示)进行这样的布置，使得第一有源层140的中央位于第一源电极部分153和第一漏电极部分161间的中心线的左侧。
对布置在像素电极180的右侧的第二有源层145进行这样的布置，使得第二有源层145的中央位于第二源电极部分154和第二漏电极部分162之间的中心线的右侧。
图3是说明收缩的一部分显示器基板的布局图。
参照图3，显示器基板100的中央部分CA收缩了一个较小的量，使得第一和第二开关装置TFT1和TFT2的沟道层没有敞开。因此，第一和第二开关装置TFT1和TFT2都正常工作。
显示器基板100的左侧部分LA向右收缩了一个较大的量，使得第一和第二有源层140和145向右移动。
形成第一有源层140，使得第一有源层140的中央布置在第一源电极部分153和第一漏电极部分161之间的中心线的左侧。因此，即使第一有源层140相对第一源电极部分153和第一漏电极部分161向右移动，第一有源层140仍然被第一源电极部分153和第一漏电极部分161覆盖。因此，第一开关装置TFT1的第一沟道没有敞开。相反，形成第二有源层145，使得第二有源层145的中央位于第二源电极部分154和第二漏电极部分162之间的中心线的右侧。因此，当第二有源层145向右移动时，第二有源层145不再被第二源电极部分154和第二漏电极部分162覆盖。因此，第二开关装置TFT2的沟道层敞开。
因此，在显示器基板100的左侧部分LA中，只有布置在像素电极(未示出)左侧的第一开关装置TFT1正常工作。
显示器基板100的右侧部分RA向左收缩了一个较大的量，使得第一和第二有源层140和145向左移动。
形成第一有源层140，使得第一有源层140的中央布置在第一源电极部分153和第一漏电极部分161之间的中心线的左侧。因此，当第一有源层140向左移动时，第一有源层140不再被第一源电极部分153和第一漏电极部分161覆盖。因此，第一开关装置TFT1的第一沟道敞开。相反，形成第二有源层145，使得第二有源层145的中央位于第二源电极部分154和第二漏电极部分162之间的中心线的右侧。因此，当第二有源层145向左移动时，第二有源层145仍然被第二源电极部分154和第二漏电极部分162覆盖。因此，第二开关装置TFT2的沟道层没有敞开。
因此，在显示器基板100的右侧部分RA中，只有布置在像素电极(未示出)右侧的第二开关装置TFT2正常工作。
如上所述，在塑料基板110收缩时，处于塑料基板110的中央部分CA的第一和第二开关装置TFT1和TFT2都正常工作。此外，位于塑料基板110的左侧部分LA和右侧部分RA的第一开关装置TFT1和第二开关装置TFT2中的一个正常工作。因此，即使在塑料基板110发生收缩时，第一和第二有源层140和150相对于第一和第二源电极部分153-154，以及第一和第二漏电极部分161-162发生了错位，第一和第二开关装置TFT1和TFT2中的至少一个也能正常工作。因此，降低了由于沟道敞开缺陷导致的像素不工作的可能性。
图4是说明图2中的塑料基板的横截面图。
参照图4，塑料基板110包括基础基板112、第一阻挡层114和第二阻挡层116。在基础基板112的上表面形成第一阻挡层114，在基础基板112的下表面形成第二阻挡层116。
基础基板112包括诸如聚醚砜(PES)、聚碳酸酯(PC)、聚酰亚胺(PI)、聚丙烯酸酯(PA)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)等的树脂。
分别在基础基板112的上下表面形成第一和第二阻挡层114和116，从而防止水分或气体向基础基板112渗透并扩散到基础基板112中。第一和第二阻挡层114和116包括，例如，丙烯基树脂。
在下文中，将参照图5到图8对根据本发明的显示器基板的制造方法予以说明。
图5到图8是说明图1和图2中的显示器基板的制造方法的横截面图。
参照图1和图4，在塑料基板110上形成第一金属层(未示出)，之后对所述第一金属层进行构图，以形成包括栅极线122、第一栅电极部分124和第二栅电极部分126的栅极布线120。
栅极布线120沿第一方向延伸。第一和第二栅电极部分124和126分别是第一和第二开关装置TFT1和TFT2的元件。
在其上形成了栅极布线120的塑料基板110上形成栅极绝缘层130。栅极绝缘层130包括，例如氮化硅(SiNx)、氧化硅(SiOx)。
参照图1和图6，在栅极绝缘层130上形成用于形成半导体层的a-Si层，在所述a-Si层上形成用于形成所述欧姆接触层的n+a-Si层。对a-Si层和n+a-Si层进行构图，从而形成分别布置在第一和第二栅电极部分124和126之上的第一和第二有源层140和145。
第一有源层140包括第一半导体层141和第一欧姆接触层142，第二有源层145包括第二半导体层146和第二欧姆接触层147。
第一和第二半导体层141和146包括a-Si。第一和第二欧姆接触层145和147包括n+a-Si。
参照图1和图7，在栅极绝缘层130以及第一和第二有源层140和145上形成第二金属层(未示出)，对第二金属层构图以形成数据布线150和漏极布线160。
数据布线150包括第一数据线151和第二数据线152。第一数据线151包括布置在所述第一有源层140上的第一源电极部分153，第二数据线152包括布置在第二有源层145上的第二源电极部分154。
第一和第二数据线151和152沿基本上垂直于第一方向的第二方向延伸。第一源电极部分153是第一开关装置TFT1的元件，第二源电极部分154是第二开关装置TFT2的元件。
漏极布线160包括布置在第一有源层140上的第一漏电极部分161、布置在第二有源层145上的第二漏电极部分162和布置在栅极绝缘层130上的接触部分163。在第一和第二数据线151和152之间布置漏极布线160。
第一漏电极部分161是第一开关装置TFT1的元件，第二漏电极部分162是第二开关装置TFT2的元件。
第一源电极部分153和第一漏电极部分161彼此间隔一定距离。第一源电极部分153和第一漏电极部分161布置在第一有源层140之上，使得电流可通过第一有源层140在第一源电极部分153和第一漏电极部分161间流动。第二源电极部分154和第二漏电极部分162彼此间隔一定距离。第二源电极部分154和第二漏电极部分162布置在第二有源层145之上，使得电流可以通过第二有源层145在第二源电极部分154和第二漏电极部分162之间流动。
接触部分163布置在第一漏电极部分161和第二漏电极部分162之间。第一漏电极部分161和第二漏电极部分162电连接至接触部分163。
之后，去除布置在第一源电极部分153和第一漏电极部分161间的第一欧姆接触层142和布置在第二源电极部分154和第二漏电极部分162间的第二欧姆接触层147，从而分别暴露第一半导体层141和第二半导体层146。
参照图1和图8，在具有形成于其上的数据布线150和漏极布线160的栅极绝缘层130上形成保护层170。之后，去除一部分保护层170，以形成接触孔172，其暴露了漏极布线160的一部分接触部分163。
再次参照图1和图2，在保护层170上形成透明导电层(未示出)，并对透明导电层构图，以形成像素电极180。像素电极180包括光学透明的导电材料。像素电极180包括，例如，氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)等。
像素电极180通过在保护层170处形成的接触孔172电连接至漏极布线160的接触部分163。
根据本发明，形成第一有源层140，使得第一有源层140的中央与第一源电极部分153之间的距离小于第一有源层140的中央与第一漏电极部分161之间的距离；形成第二有源层145，使得第二有源层145的中央与第二源电极部分154之间的距离小于第二有源层145的中央与第二漏电极部分162之间的距离。
具体来讲，对布置在像素电极180的左侧的第一有源层140进行这样的布置，使得第一有源层140的中央位于第一源电极部分153和第一漏电极部分161之间的中心线的左侧。对布置在像素电极180的右侧的第二有源层145进行这样的布置，使得第二有源层145的中央位于第二源电极部分154和第二漏电极部分162之间的中心线的右侧。
图9是说明根据本发明的示范性实施例的显示装置的横截面图；本实施例的显示器基板100与图2所示的相同。因此，采用与图2中相同的附图标记表示相同或相似的部件，因此，省略了对上述元件的进一步说明。
参照图9，根据本发明实例的显示装置200包括：显示器基板100；面对所述显示器基板100的滤色器基板300；以及布置在所述显示器基板100和滤色器基板300之间的液晶层400。
滤色器基板300包括塑料基板310、滤色器层320和公共电极330。
塑料基板310具有柔软的薄膜外形。塑料基板310包括，例如，光学透明树脂。塑料基板310可以包括，例如聚醚砜(PES)。
在面对显示器基板100的塑料基板310的一侧形成滤色器层320。滤色器层320包括红色滤色器、绿色滤色器和蓝色滤色器。或者，可以在显示器基板100上形成滤色器层320。
在滤色器层320上形成公共电极330，使得公共电极330面对显示器基板100。公共电极330包括光学透明的导电材料。公共电极330包括，例如，氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)等。
液晶层400包括规则排列的液晶分子。液晶层400在折射率和介电系数上为各项异性。在将电场施加到液晶层400上时，改变液晶层400的排列，从而通过液晶层400对光透射率进行控制。
根据所述显示器基板、所述显示器基板的制造方法以及具有所述显示器基板的显示装置，每一像素包括两个数据线和两个开关装置。在形成所述的两个开关装置时，对布置在像素电极左侧的第一有源层进行这样的布置，使得第一有源层的中央位于第一源电极部分和第一漏电极部分之间的中心线的左侧。对布置在所述像素电极右侧的第二有源层进行这样的布置，使得第二有源层的中央位于第二源电极部分和第二漏电极部分间的中心线的右侧。
因此，即使在显示器基板收缩时，至少所述的两个开关装置中的一个保持正常工作，从而降低了由错位引起的像素损坏的可能性。
已经对本发明的示范性实施例及其优势进行了说明，应当指出的是，在不背离附加的权利要求界定的本发明的精神和范围的情况下，可以对所述实施例做出各种改变、替换和修改。

Claims (22)

1.一种显示器基板，其包括：
塑料基板；
在所述塑料基板上形成的栅极绝缘层，所述栅极绝缘层包括第一和第二部分；
在所述塑料基板和栅极绝缘层之间沿第一方向形成的栅极布线，所述栅极布线包括栅极线、第一栅电极部分、和第二栅电极部分，所述第一栅电极部分与所述栅极绝缘层的第一部分对准，所述第二栅电极部分与所述栅极绝缘层的第二部分对准；
形成于所述栅极绝缘层的第一和第二部分上的第一和第二有源层；
在所述栅极绝缘层上沿不平行于所述第一方向的第二方向形成的数据布线，所述数据布线包括具有形成于所述第一有源层上的第一源电极部分的第一数据线，和具有形成于所述第二有源层上的第二源电极部分的第二数据线；以及
布置在所述第一数据线和第二数据线之间的漏极布线，所述漏极布线包括形成于第一有源层上的第一漏电极部分，和包括形成于所述第二有源层上的第二漏电极部分的第二漏极布线。
2.如权利要求1所述的显示器基板，其中，形成第一有源层，使得第一有源层的中央与第一源电极部分之间的距离小于第一有源层的中央与第一漏电极部分之间的距离。
3.如权利要求1所述的显示器基板，其中，形成第二有源层，使得第二有源层的中央与第二源电极部分之间的距离小于第二有源层的中央与第二漏电极部分之间的距离。
4.如权利要求1所述的显示器基板，其进一步包括：
在具有形成于其上的数据布线和漏极布线的栅极绝缘层上形成的保护层；以及
在所述保护层上形成的像素电极。
5.如权利要求4所述的显示器基板，其中，所述漏极布线进一步包括电连接至所述第一和第二漏电极部分的接触部分。
6.如权利要求5所述的显示器基板，其中，所述接触部分布置在第一和第二漏电极部分之间。
7.如权利要求5所述的显示器基板，其中，所述像素电极通过形成于所述保护层中的接触孔电连接至所述接触部分。
8.如权利要求1所述的显示器基板，其中，所述塑料基板包括：
基础基板；
在所述基础基板的上表面形成的第一阻挡层；以及
在所述基础基板的下表面形成的第二阻挡层。
9.如权利要求8所述的显示器基板，其中，所述基础基板包括从下述材料构成的集合中选出的任何一种材料：聚醚砜、聚碳酸酯、聚酰亚胺、聚丙烯酸酯、聚萘二甲酸乙二酯和聚对苯二甲酸乙二酯。
10.如权利要求8所述的显示器基板，其中，所述第一和第二阻挡层包括丙烯基树脂。
11.如权利要求1所述的显示器基板，其中，所述第一和第二有源层包括：
包括非晶硅的半导体层；和
在所述半导体层上形成的欧姆接触层，所述欧姆接触层包括具有n型掺杂剂的非晶硅。
12.一种制造显示器基板的方法，其包括：
在塑料基板上形成栅极布线，所述栅极布线包括栅极线、第一栅电极部分和第二栅电极部分；
在具有形成于其上的所述栅极布线的塑料基板上形成栅极绝缘层；
在所述栅极绝缘层的第一和第二部分上形成第一和第二有源层，所述绝缘层的所述第一和第二部分分别对应于所述第一和第二栅电极部分；
在所述栅极绝缘层上沿不平行于所述第一方向的第二方向形成数据布线，所述数据布线包括具有形成于所述第一有源层上的第一源电极部分的第一数据线，和具有形成于所述第二有源层上的第二源电极部分的第二数据线；以及
在所述第一数据线和第二数据线之间形成漏极布线，所述漏极布线包括形成于第一有源层上的第一漏电极部分，和形成于所述第二有源层上的第二漏电极部分。
13.如权利要求12所述的方法，其中，形成所述第一有源层，使得所述第一有源层的中央与所述第一源电极部分之间的距离小于所述第一有源层的中央与所述第一漏电极部分之间的距离；形成所述第二有源层，使得所述第二有源层的中央与所述第二源电极部分之间的距离小于所述第二有源层的中央与所述第二漏电极部分之间的距离。
14.如权利要求13所述的方法，其进一步包括：
在具有形成于其上的数据布线和漏极布线的栅极绝缘层上形成保护层；以及
在所述保护层上形成像素电极。
15.如权利要求14所述的方法，其中，所述漏极布线进一步包括电连接至所述第一和第二漏电极部分的接触部分。
16.如权利要求15所述的方法，其中，所述像素电极通过形成于所述保护层中的接触孔电连接至所述接触部分。
17.如权利要求12所述的方法，其中，所述数据布线和漏极布线由单个金属层形成。
18.一种显示装置，其包括：
第一基板；
面对所述第一基板的第二基板；以及
布置在所述第一和第二基板之间的液晶层，
其中，所述第一基板包括：
第一塑料基板；
在所述第一塑料基板上形成的栅极绝缘层，所述栅极绝缘层包括第一和第二部分；
在所述塑料基板和栅极绝缘层之间沿第一方向形成的栅极布线，所述栅极布线包括栅极线、第一栅电极部分、和第二栅电极部分，所述第一栅电极部分与所述栅极绝缘层的第一部分对准，所述第二栅电极部分与所述栅极绝缘层的第二部分对准；
形成于所述栅极绝缘层的第一和第二部分上的第一和第二有源层；
在所述栅极绝缘层上沿不平行于所述第一方向的第二方向形成的数据布线，所述数据布线包括具有形成于所述第一有源层上的第一源电极部分的第一数据线，和具有形成于所述第二有源层上的第二源电极部分的第二数据线；以及
布置在所述第一数据线和第二数据线之间的漏极布线，所述漏极布线包括形成于第一有源层上的第一漏电极部分，和包括形成于所述第二有源层上的第二漏电极部分的第二漏极布线。
19.如权利要求18所述的显示装置，其中，形成所述第一有源层，使得所述第一有源层的中央与所述第一源电极部分之间的距离小于所述第一有源层的中央与所述第一漏电极部分之间的距离；形成所述第二有源层，使得所述第二有源层的中央与所述第二源电极部分之间的距离小于所述第二有源层的中央与所述第二漏电极部分之间的距离。
20.如权利要求19所述的显示装置，其进一步包括：
在具有形成于其上的数据布线和漏极布线的栅极绝缘层上形成的保护层；以及
在所述保护层上形成的像素电极。
21.如权利要求20所述的显示装置，其中，所述漏极布线进一步包括电连接至所述第一和第二漏电极部分的接触部分，并且所述像素电极通过形成于所述保护层中的接触孔电连接至所述接触部分。
22.如权利要求20所述的显示装置，其中，所述第二基板包括：
第二塑料基板；以及
在所述第二塑料基板上形成的公共电极，使得所述公共电极面对所述像素电极。
CNA2005101268352A 2005-07-05 2005-11-24 显示器基板、其制造方法及采用该基板的显示装置 Pending CN1893089A (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050060080A KR20070005983A (ko) 2005-07-05 2005-07-05 표시 기판, 이의 제조 방법 및 이를 갖는 표시 장치
KR60080/05 2005-07-05

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN1893089A true CN1893089A (zh) 2007-01-10

Family

ID=37597743

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNA2005101268352A Pending CN1893089A (zh) 2005-07-05 2005-11-24 显示器基板、其制造方法及采用该基板的显示装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20070008443A1 (zh)
JP (1) JP2007017932A (zh)
KR (1) KR20070005983A (zh)
CN (1) CN1893089A (zh)
TW (1) TW200703654A (zh)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101534009B1 (ko) * 2008-10-21 2015-07-07 삼성디스플레이 주식회사 박막 트랜지스터 표시판과 그 제조 방법 및 박막 트랜지스터 표시판을 갖는 표시 장치
KR20100092738A (ko) 2009-02-13 2010-08-23 삼성전자주식회사 액정 표시 장치 및 그 제조 방법
KR102022700B1 (ko) * 2012-08-09 2019-11-06 삼성디스플레이 주식회사 박막 트랜지스터 및 그를 포함하는 유기 발광 표시 장치

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5668650A (en) * 1993-09-06 1997-09-16 Casio Computer Co., Ltd. Thin film transistor panel having an extended source electrode
US5817383A (en) * 1994-02-24 1998-10-06 Kanegafuchi Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Substrate of electrode for liquid crystal
KR100848099B1 (ko) * 2002-05-27 2008-07-24 삼성전자주식회사 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 기판
JP2003131636A (ja) * 2001-10-30 2003-05-09 Hitachi Ltd 液晶表示装置
US6862052B2 (en) * 2001-12-14 2005-03-01 Samsung Electronics Co., Ltd. Liquid crystal display, thin film transistor array panel for liquid crystal display and manufacturing method thereof

Also Published As

Publication number Publication date
TW200703654A (en) 2007-01-16
US20070008443A1 (en) 2007-01-11
KR20070005983A (ko) 2007-01-11
JP2007017932A (ja) 2007-01-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1165988C (zh) 半导体器件
CN100335958C (zh) 共平面开关型液晶显示装置及其制造方法
EP2951870B1 (en) Flexible display substrate, flexible organic light emitting display device and method of manufacturing the same
CN101043047A (zh) 显示装置及其制造方法
CN1893090A (zh) 显示基板、其制造方法和具有其的显示装置
CN1892394A (zh) 液晶显示器件及其制造方法
CN1854834A (zh) 显示装置及其制造方法
CN101064318A (zh) 用于显示设备的薄膜晶体管阵列面板及其制造方法
CN1638575A (zh) 双面板型有机电致发光器件及其制造方法
CN1527266A (zh) 电光装置和电子仪器
CN101064322A (zh) 电光装置以及电子设备
CN1610110A (zh) 显示器件的薄膜晶体管基板及其制造方法
CN1847940A (zh) 形成焊盘电极及液晶显示器件的方法
CN1892395A (zh) 多晶硅薄膜晶体管液晶显示面板及其制造方法
CN1434667A (zh) 发光装置及电子机器
CN1674728A (zh) 有机电致发光器件及其制造方法
CN1694592A (zh) 有机电致发光器件及其制造方法
CN1878438A (zh) 有机电致发光显示装置及其制造方法
CN101060138A (zh) 非晶硅薄膜晶体管及具有该晶体管的有机发光显示器件
CN1725910A (zh) 电光学装置以及电子机器
CN1905231A (zh) 薄膜晶体管基板及其制造方法
CN1782832A (zh) 具静电放电保护的阵列基板与显示装置及其制造方法
CN101060162A (zh) 有机薄膜晶体管及其制造方法和显示器件
CN101118875A (zh) 影像显示系统的制造方法
CN101047157A (zh) 导电垫系统及其制作方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Open date: 20070110