CN1888966A - 主动元件阵列基板以及彩色滤光基板的制作方法 - Google Patents

Abstract

一种主动元件阵列基板的制作方法，包括下列步骤，提供一基板；在基板上形成一像素阵列；在像素阵列上形成一具有多个配向区域的配向材料层；利用喷墨印刷工艺在配向材料层上的一部份配向区域上形成一掩膜层，并暴露配向材料层上另一部份的配向区域；对被暴露出来的配向材料层进行一粒子束配向工艺；移除掩膜层；利用喷墨印刷工艺在已经由粒子束配向的配向材料层上形成另一掩膜层，并暴露未经粒子束配向的配向材料层；对被暴露出来的配向材料层进行另一粒子束配向工艺；移除另一掩膜层。

Description

主动元件阵列基板以及彩色滤光基板的制作方法

技术领域

本发明是有关于一阵列基板的制作方法以及滤光基板的制作方法，特别是有关于一种液晶显示器的主动元件阵列基板的制作方法以及彩色滤光基板的制作方法。

背景技术

现今社会多媒体技术相当发达，多半受惠于半导体元件或显示装置的进步。就显示器而言，具有高画质、空间利用效率佳、低消耗功率、无辐射等优越特性的液晶显示面板已逐渐成为市场的主流。一般的液晶面板主要是由两片基板以及一配置于二基板间的液晶层所构成。不论是主动矩阵式液晶显示器或者是被动矩阵式液晶显示器，两片基板上都必须具有配向膜，此配向膜的主要功能在于对液晶分子进行配向，而使得液晶分子会在两片基板之间呈现特定的排列。

在常见的扭转向列型(twisted nematic，TN)液晶显示器中，配向膜的制作是在形成配向材料层之后，以研磨(rubbing)的方式进行配向处理。详细地说，操作人员是利用配置于滚轮(roller)上的配向布毛来对形成于一基板上的配向材料层进行配向，以在配向材料层的表面上形成许多沟槽，而形成配向膜。这样液晶分子便能沿着配向膜上的沟槽排列。

已知技术还有一种利用离子束的配向方法。此种配向方法是通过离子束以特定倾斜角轰击(bombardment)配向材料层的表面来达成配向的效果。其方法是在配向材料层形成之后，先利用光刻工艺以形成一屏蔽而遮蔽部份区域并暴露另外的区域。然后，以离子束沿特定的方向入射至配向材料层的表面。有关于离子束配向方法的详细资料可参照专利号US 6654089、US 6313896以及US 2003/0142257的专利文件。但是此种方式必须使用光刻工艺来形成掩膜，由于需使用光掩膜以及曝光工艺，因此工艺复杂且成本较高。

除了扭转向列型液晶显示器以外，另一种常见的显示器就是多域垂直配向型(multi-domain vertical alignment，MVA)液晶显示器。在广视角的多域垂直配向液晶显示器中，通常是在彩色滤光基板及/或薄膜晶体管阵列基板上制作多个突起物(protrusion)或狭缝(slit)图案，由这些突起物以及狭缝图案的作用，不同区域的液晶分子呈现出不同的排列，以达到广视角的目的。然而，在突起物或狭缝图案处附近，也常常由于电场不均匀，容易造成显示不均(mura)的缺陷。此外，突起物与狭缝图案的设计也会降低显示面板的透光度及开口率。

发明内容

本发明的目的在于提供一种主动元件阵列基板的制作方法，其可改善多域垂直配向型液晶显示器的显示不均现象，且可提高其透光度及开口率。

本发明的另一目的在于提供一种彩色滤光基板的制作方法，其可改善多域垂直配向型液晶显示器的显示不均现象，且可提高其透光度及开口率。

为达上述目的，本发明提出一种主动元件阵列基板的制作方法，此方法包括下列步骤。首先，提供一基板。在基板上形成一像素阵列。在像素阵列上形成一配向材料层，此配向材料层上具有多数个配向区域。利用喷墨印刷工艺以在配向材料层上的一部份配向区域上形成一掩膜层，并暴露配向材料层上另一部份的配向区域。接着，对被暴露出来的配向材料层进行一粒子束配向工艺。之后，移除掩膜层。利用喷墨印刷工艺以在已经由粒子束配向的配向材料层上形成另一掩膜层，并暴露尚未经粒子束配向的配向材料层。然后，对被暴露出来的配向材料层进行另一粒子束配向工艺。移除另一掩膜层。

依照本发明一实施例所述的主动元件阵列基板的制作方法，其中像素阵列包括多数个次像素，且每一次像素对应到至少两个配向区域。

依照本发明一实施例所述的主动元件阵列基板的制作方法，其中像素阵列包括多数个次像素，且每一配向区域内对应有至少两个次像素，而且对于每一配向区域而言，其配向方向会与邻接于此配向区域四周的其它配向区域的配向方向不同。

依照本发明一实施例所述的主动元件阵列基板的制作方法，其中像素阵列包括多数个次像素，且每一配向区域内对应有一个次像素，而且对于每一配向区域而言，其配向方向会与邻接于此配向区域四周的其它配向区域的配向方向不同。

依照本发明一实施例所述的主动元件阵列基板的制作方法，上述的两粒子束配向工艺的配向方向不同。

依照本发明一实施例所述的主动元件阵列基板的制作方法，上述的掩膜层的材质包括有机材质。

依照本发明一实施例所述的主动元件阵列基板的制作方法，其中上述所形成的配向材料层上具有一第一配向区域、一第二配向区域、一第三配向区域以及一第四配向区域。在形成此配向材料层后，利用喷墨印刷工艺以在配向材料层的第二、第三以及第四配向区域中形成一第一掩膜层，并暴露出配向材料层的第一配向区域。对配向材料层的第一配向区域进行一第一粒子束配向工艺。移除第一掩膜层。接着，利用喷墨印刷工艺以在配向材料层的第一、第三以及第四配向区域中形成一第二掩膜层，并暴露出配向材料层的第二配向区域。对配向材料层的第二配向区域进行一第二粒子束配向工艺。移除第二掩膜层。之后，利用喷墨印刷工艺以在配向材料层的第一、第二以及第四配向区域中形成一第三掩膜层，并暴露出配向材料层的第三配向区域。对配向材料层的第三配向区域进行一第三粒子束配向工艺。移除第三掩膜层。然后，利用喷墨印刷工艺以在配向材料层的第一、第二以及第三配向区域中形成一第四掩膜层，并暴露出配向材料层的第四配向区域。对配向材料层的第四配向区域进行一第四粒子束配向工艺。移除第四掩膜层。

依照本发明一实施例所述的主动元件阵列基板的制作方法，其中第一配向区域、第二配向区域、第三配向区域以及第四配向区域的配向方向皆不相同。

依照本发明一实施例所述的主动元件阵列基板的制作方法，其中配向材料层的材质包括聚亚酰胺、聚酰胺、聚乙烯醇、PVC、类钻石碳膜、碳化硅、氧化硅、氮化硅、氧化铝或氧化锡。

依照本发明一实施例所述的主动元件阵列基板的制作方法，其中在形成像素阵列之后，更包括在像素阵列上形成一绝缘层，且此绝缘层具有多数个凹陷区，每一凹陷区会与其中一配向区域对应。

本发明又提出一种彩色滤光基板的制作方法，此彩色滤光基板的制作方法包括下列步骤。首先，提供一基板。在基板上形成一彩色滤光阵列。在彩色滤光阵列上形成一配向材料层，此配向材料层上具有多数个配向区域。利用喷墨印刷工艺以在配向材料层上的一部份配向区域上形成一掩膜层，并暴露配向材料层上另一部份的配向区域。接着，对被暴露出来的配向材料层进行一粒子束配向工艺。之后，移除掩膜层。利用喷墨印刷工艺以在已经由粒子束配向的配向材料层上形成另一掩膜层，并暴露尚未经粒子束配向的配向材料层。然后，对被暴露出来的配向材料层进行另一粒子束配向工艺。移除另一掩膜层。

依照本发明一实施例所述的彩色滤光基板的制作方法，其中彩色滤光阵列包括多数个彩色滤光图案，且每一彩色滤光图案对应到至少两个配向区域。

依照本发明一实施例所述的彩色滤光基板的制作方法，上述的彩色滤光阵列包括多数个彩色滤光图案，且每一配向区域内对应有至少两个彩色滤光图案，而且对于每一配向区域而言，其配向方向会与邻接于此配向区域四周的其它配向区域的配向方向不同。

依照本发明一实施例所述的彩色滤光基板的制作方法，上述的彩色滤光阵列包括多数个彩色滤光图案，且每一配向区域内对应有一个彩色滤光图案，而且对于每一配向区域而言，其配向方向会与邻接于此配向区域四周的其它配向区域的配向方向不同。

依照本发明一实施例所述的彩色滤光基板的制作方法，上述的两粒子束配向工艺的配向方向不同。

依照本发明一实施例所述的彩色滤光基板的制作方法，上述的掩膜层的材质包括有机材质。

依照本发明一实施例所述的彩色滤光基板的制作方法，其中上述所形成的配向材料层上具有一第一配向区域、一第二配向区域、一第三配向区域以及一第四配向区域。在形成此配向材料层后，利用喷墨印刷工艺以在配向材料层的第二、第三以及第四配向区域中形成一第一掩膜层，并暴露出配向材料层的第一配向区域。对配向材料层的第一配向区域进行一第一粒子束配向工艺。移除第一掩膜层。接着，利用喷墨印刷工艺以在配向材料层的第一、第三以及第四配向区域中形成一第二掩膜层，并暴露出配向材料层的第二配向区域。对配向材料层的第二配向区域进行一第二粒子束配向工艺。移除第二掩膜层。之后，利用喷墨印刷工艺以在配向材料层的第一、第二以及第四配向区域中形成一第三掩膜层，并暴露出配向材料层的第三配向区域。对配向材料层的第三配向区域进行一第三粒子束配向工艺。移除第三掩膜层。然后，利用喷墨印刷工艺以在配向材料层的第一、第二以及第三配向区域中形成一第四掩膜层，并暴露出配向材料层的第四配向区域。对配向材料层的第四配向区域进行一第四粒子束配向工艺。移除第四掩膜层。

依照本发明一实施例所述的彩色滤光基板的制作方法，上述的第一配向区域、第二配向区域、第三配向区域以及第四配向区域的配向方向皆不相同。

依照本发明一实施例所述的彩色滤光基板的制作方法，上述的配向材料层的材质包括聚亚酰胺、聚酰胺、聚乙烯醇、PVC、类钻石碳膜、碳化硅、氧化硅、氮化硅、氧化铝或氧化锡。

依照本发明一实施例所述的彩色滤光基板的制作方法，其中形成上述的彩色滤光阵列的方法包括：在基板上形成一黑矩阵层以及于黑矩阵层的图案之间形成多个彩色滤光图案，其中黑矩阵层的厚度大于彩色滤光图案的厚度。

本发明的主动元件阵列基板的制作方法以及彩色滤光基板的制作方法中，配向膜的配向方法是利用喷墨印刷工艺在特定区域形成掩膜层。相较于传统以光刻工艺形成掩膜层，本发明的主动元件阵列基板的制作方法以及彩色滤光基板的制作方法具有简单以及成本低的优点。而所制作出的主动元件阵列基板与彩色滤光基板不但可用于组装一液晶显示面板，以使液晶分子往不同的方向排列，因此本发明不需使用狭缝图案或突起物的设计，即可以使液晶显示面板达到广视角的目的。而且利用本发明的主动元件阵列基板与/或彩色滤光基板组装成的液晶显示面板具有较高的开口率及透光度且不易有显示不均的现象产生。

附图说明

图1A至图10：本发明一实施例的主动元件阵列基板的制作方法流程图。

图2A至图2D：本发明一实施例的彩色滤光基板的制作方法简化流程图。

图3：彩色滤光基板的制作方法中对第一配向区域进行配向的步骤的剖面示意图。

附图标号：

200：配向材料层

212：第一配向区域

214：第二配向区域

216：第三配向区域

218：第四配向区域

310：第一掩膜层

320：第二掩膜层

330：第三掩膜层

340：第四掩膜层

40：粒子束

500：配向膜

100：基板

600：像素阵列

600a、800a：次像素

620：绝缘层

622：凹陷区

700：主动元件阵列基板

800：彩色滤光阵列

810：黑矩阵层

820：彩色滤光图案

900：彩色滤光基板

D1：第一方向

D2：第二方向

D3：第三方向

D4：第四方向

R1：第一配向方向

R2：第二配向方向

R3：第三配向方向

R4：第四配向方向

具体实施方式

图1A至图10绘示本发明一实施例的主动元件阵列基板的制作方法流程图。为了清楚表达此主动元件阵列基板的制作方法的流程，部分图标会同时显示出俯视图及其剖面图。请先参照图1A，主动元件阵列基板的制作方法是先提供一基板100，此基板100例如为一玻璃基板、石英基板或是其它适当材料的基板。

请参照图1B，在基板100上形成一像素阵列600。其中，此像素阵列600包括多个次像素600a。而在形成像素阵列600之后，更包括在像素阵列600上形成一绝缘层620。在一较佳实施例中，绝缘层620具有多数个凹陷区622。

请参照图1C，在像素阵列600上形成一配向材料层200，此配向材料层200的材质例如为聚亚酰胺、聚酰胺(polyamide)、聚乙烯醇、PVC、类钻石碳膜(diamond like carbon，DLC)、碳化硅(SiC)、氧化硅(SiO2)、氮化硅(Si3N4)、氧化铝(Al2O3)、氧化锡(SnO2)或其它适当材质。此配向材料层200具有一第一配向区域212、一第二配向区域214、一第三配向区域216以及一第四配向区域218。更详细而言，每一次像素600a对应至少两个配向区域，而在本实施例中每一次像素600a对应第一配向区域212、第二配向区域214、第三配向区域216以及第四配向区域218。此外，每一凹陷区622会与其中一配向区域对应。

值得一提的是，本发明除了在每一次像素设计至少两配向区域之外，也可以设计在每一配向区域内对应有至少两个次像素，而且对于每一配向区域而言，其配向方向会与邻接于此配向区域四周的其它配向区域的配向方向不同。依照本发明的另一实施例，还可以是在每一配向区域内仅对应配置有一个次像素，而且对于每一配向区域而言，其配向方向会与邻接于此配向区域四周的其它配向区域的配向方向不同。

然后，请参照图1D至图10，利用喷墨印刷工艺以及粒子束配向工艺分别对配向材料层200的第一配向区域212、第二配区域214、第三配向区域216以及第四配向区域218进行配向，其详细的步骤叙述如下。

如图1D所示，利用一喷墨印刷工艺，在配向材料层200的第二配向区域214、第三配向区域216以及第四配向区域218上形成一第一掩膜层310，并暴露配向材料层200上的第一配向区域212。此第一掩膜层310的材质例如为有机材质或是其它适当的材质。

如图1E所示，接着，利用一粒子束40沿着一第一方向D1轰击配向材料层200的表面，以对被暴露出来的配向材料层200的第一配向区域212进行一粒子束配向工艺。粒子束40例如为离子束或原子束等。

如图1F所示，当进行完粒子束配向工艺后，第一配向区域212便具有一第一配向方向R1。之后，移除第一掩膜层310。移除第一掩膜层310的方法例如是使用湿刻蚀工艺将第一掩膜层310剥除，而湿刻蚀所采用的配方例如是硫酸水溶液、含臭氧的硫酸、含臭氧的水溶液或其它适当的溶液。然而，移除第一掩膜层310的方法并不限定为湿刻蚀。

如图1G所示，利用喷墨印刷工艺，在配向材料层200的第一配向区域212、第三配向区域216以及第四配向区域218上形成一第二掩膜层320，并暴露配向材料层200上的第二配向区域214。其中，第二掩膜层320的材质例如与第一掩膜层310的材质相同。

如图1H所示，接着，以粒子束40沿着一第二方向D2轰击配向材料层200的表面，以对被暴露出来的配向材料层200的第二配向区域214进行一粒子束配向工艺。

如图1I所示，在完成粒子束配向工艺后，第二配向区域214会具有一第二配向方向R2。之后，移除第二掩膜层320。

如图1J所示，利用喷墨印刷工艺，在配向材料层200的第一配向区域212、第二配向区域214以及第四配向区域218上形成一第三掩膜层330，并暴露配向材料层200上的第三配向区域216。其中，第三掩膜层330的材质例如与第一掩膜层310的材质相同。

如图1K所示，以粒子束40沿着一第三方向D3轰击配向材料层200的表面，以对于被暴露出来的配向材料层200的第三配向区域216进行一粒子束配向工艺。

如图1L所示，在完成粒子束配向工艺后，第三配向区域216即具有一第三配向方向R3。之后，移除第三掩膜层330。

如图1M所示，利用喷墨印刷工艺，在配向材料层200的第一配向区域212、第二配向区域214以及第三配向区域216上形成一第四掩膜层340，并暴露配向材料层200上的第四配向区域218。其中，第四掩膜层340的材质例如与第一掩膜层310的材质相同。

如图1N所示，以粒子束40沿着一第四方向D4轰击配向材料层200的表面，以便对被暴露出来的配向材料层200的第四配向区域218进行一粒子束配向工艺。

如图10所示，在完成粒子束配向工艺后，第四配向区域218即具有一第四配向方向R4。然后，移除第四掩膜层340。

在完成上述步骤后，主动元件阵列基板700即可形成。需注意的是，上述的步骤中，粒子束40是沿着不同的方向入射至配向材料层200的表面，因此第一方向D1、第二方向D2、第三方向D 3以及第四方向D4皆不相同。此外，第一配向区域212、第二配向区域214、第三配向区域216以及第四配向区域218的配向方向皆不相同。换言之，第一配向方向R1、第二配向方向R2、第三配向方向R3以及第四配向方向R4皆不相同。

本实施例中，配向膜的配向方法是利用喷墨印刷工艺形成第一掩膜层310、第二掩膜层320、第三掩膜层330以及第四掩膜层340，以分别对于第一配向区域212、第二配向区域214、第三配向区域216以及第四配向区域218进行粒子束配向。由于利用喷墨印刷工艺可在特定区域形成掩膜层，故本实施例的主动元件阵列基板的制作方法相较于传统方式较为简单且成本低。

值得一提的是，由于此绝缘层620具有多数个凹陷区622(如图1C所示)，且每一凹陷区622与其中一配向区域对应。因此，在进行喷墨印刷工艺以在特定配向区域形成掩膜层时，喷墨印刷工艺所喷出的有机材质由于凹陷区周围有档墙作用因而不会扩散至要进行粒子束配向的配向区域。举一例来说，在图1E为上述配向工艺中对第一配向区域212进行配向的步骤的剖面示意图。当以喷墨印刷工艺形成第一掩膜层310时，第一掩膜层310不会扩不会散至将要进行粒子束配向的第一配向区域212。

另外，也值得注意的是，在图10中，由于第一、第二、第三与第四配向区域212、214、216、218内的配向方向不同，因此若将此主动元件阵列基板700与另一基板组装成一液晶显示面板(未绘示)，则不同配向区域上方的液晶分子会往不同的方向排列，故可使液晶显示面板具有较大的视角范围，而达到广视角的目的。此外，由于主动元件阵列基板700上的像素电极不需使用狭缝图案或突起物的设计，即可以使液晶显示面板达到广视角的目的。因此，利用主动元件阵列基板700组装成的液晶显示面板不易出现显示不均(mura)的现象，且具有较高的透光度及开口率。

需注意的是，在本实施例中，主动元件阵列基板的制作方法虽以具有四个配向区域的配向膜500进行说明，但本发明所提出的主动元件阵列基板的制作方法并不限定只能制作具有四个配向区域的配向膜500。另外，每一次像素600a也不限定对应四个配向区域。

也需注意的是，上述的主动元件阵列基板的制作方法中包括了在像素阵列上形成一绝缘层620，且此绝缘层620中形成有许多的凹陷图案622。然而，本发明的主动元件阵列基板的制作方法并不限定要形成具有凹陷图案622的绝缘层620，也不限定一定要在像素阵列上形成绝缘层。倘若本发明的主动元件阵列基板的制作方法中所形成的绝缘层不包含有凹陷图案，甚至是没有形成此绝缘层，则在进行喷墨印刷工艺以在特定配向区域形成掩膜层时，所喷出的有机材质的扩散可能会使所形成的掩膜层边缘的轮廓不均匀，而可能导致配向区域的边缘处配向不完整。然而，当此主动元件阵列基板(未绘示)组装成一液晶显示面板(未绘示)后，由于各配向区域的边缘处上方会对应到彩色滤光基板(未绘示)的黑矩阵层，因而可以使得配向不完整的配向区域边缘处得以被遮蔽住。因此，所组装成的液晶显示面板的显示品质不会受到影响。

图2A至图2D绘示本发明一实施例的彩色滤光基板的制作方法简化流程图。为了清楚表达此主动元件阵列基板的制作方法的流程，部份图标会同时显示出俯视图及其剖面图。请先参照图2A，彩色滤光基板的制作方法是先提供一基板100。接着，请参照图2B，在基板100上形成一彩色滤光阵列800。其中，形成该彩色滤光阵列800的方法包括在基板100上形成一黑矩阵层810以及于黑矩阵层810的图案之间形成多个彩色滤光图案820，以形成多数个次像素800a，其中黑矩阵层810的厚度例如大于彩色滤光图案820的厚度。在一实施例中，是先形成黑矩阵层810之后再形成彩色滤光图案820。当然，本发明也可以先形成彩色滤光图案，之后再形成黑矩阵层。

请参照图2C，在彩色滤光阵列800上形成一配向材料层200，此配向材料层200与前述相同，且每一彩色滤光图案820对应到至少两个配向区域，而在本实施例中每一彩色滤光图案820对应到第一配向区域212、第二配向区域214、第三配向区域216以及第四配向区域218。即每一次像素800a对应到第一配向区域212、第二配向区域214、第三配向区域216以及第四配向区域218。

值得一提的是，本发明除了在每一彩色滤光图案设计至少两配向区域之外，也可以设计在每一配向区域内对应有至少两个彩色滤光图案，而且对于每一配向区域而言，其配向方向会与邻接于此配向区域四周的其它配向区域的配向方向不同。依照本发明的另一实施例，还可以是在每一配向区域内仅对应配置有一个彩色滤光图案，而且对于每一配向区域而言，其配向方向会与邻接于此配向区域四周的其它配向区域的配向方向不同。

然后，利用喷墨印刷工艺与粒子束配向工艺，对于配向材料层200的第一配向区域212、第二配区域214、第三配向区域216以及第四配向区域218进行配向，以形成配向膜500。配向的方法也与上述图1D至图10所绘示的方法相同，在此不再赘述，仅以图2D绘示出完成的配向膜500以及彩色滤光基板900。特别要注意的是，黑矩阵层810的厚度大于彩色滤光图案820的厚度。因此，在进行喷墨印刷工艺以在特定配向区域形成掩膜层时，所喷出的有机材质会由于黑矩阵层810的档墙作用而不会从相邻配向区域扩散至要进行粒子束配向的配向区域。举一例来说，在图3为上述配向工艺中对第一配向区域212进行配向的步骤的剖面示意图。当以喷墨印刷工艺形成第一掩膜层310时，黑矩阵层810的高度可发挥档墙的作用，以防止第一掩膜层310从相邻第四配向区域218扩散至要进行粒子束配向的第一配向区域212。

值得注意的是，在图2D中，由于第一、第二、第三与第四配向区域212、214、216、218内的配向方向皆不相同，若将此彩色滤光基板900与另一基板组装成一液晶显示面板(未绘示)，则组装成的液晶显示面板也将具有较大的视角范围。另外，由于彩色滤光基板900不需使用突起物或狭缝图案的设计便可使液晶显示面板达到广视角的目的，因此利用彩色滤光基板900组装成的液晶显示面板不易有显示不均的现象，且也具有较高的透光度及开口率。

类似地，本实施例中，彩色滤光基板的制作方法是以形成四个配向区域的配向膜500的例子进行说明。然而，本发明所提出的彩色滤光基板的制作方法并不限定形成具有四个配向区域的配向膜500。另外，每一彩色滤光图案820也不限定对应四个配向区域。

在上述的彩色滤光基板的制作方法中，所形成的黑矩阵层810的厚度大于彩色滤光图案820的厚度。然而，本发明的彩色滤光基板的制作方法并不限定要形成厚度大于彩色滤光图案820的黑矩阵层810。在另一实施例中，黑矩阵层810与彩色滤光图案820可具有相似厚度。而在进行喷墨印刷工艺以在特定配向区域形成掩膜层时，所喷出的有机材质会因为扩散而使掩膜层边缘的轮廓不均匀，使得配向区域边缘处可能配向不完整。然而，由于配向区域的边缘处会对应到黑矩阵层810所在的位置，因而可以使得配向不完整的配向区域边缘处得以被遮蔽住。因此，当此彩色滤光基板(未绘示)组装成一液晶显示面板(未绘示)后，此液晶显示面板的显示品质不会受到影响。

综上所述，本发明所提出的配向膜的配向方法、主动元件阵列基板的制作方法以及彩色滤光基板的制作方法至少具有下列优点：

一、本发明所提出的主动元件阵列基板的制作方法以及彩色滤光基板的制作方法中，配向膜配向方法是利用喷墨印刷工艺形成掩膜层。由于利用喷墨印刷工艺可在特定区域形成掩膜层，故本发明所提出的主动元件阵列基板的制作方法以及彩色滤光基板的制作方法相较于传统方式较为简单且成本低。

二、本发明的主动元件阵列基板的制作方法采用上述配向膜的配向方法形成配向膜，所制作出的主动元件阵列基板可用于组装一液晶显示面板。由于主动元件阵列基板不需使用凹陷图案或突起物的设计，即可以使液晶显示面板达到广视角的目的。因此，利用此主动元件阵列基板组装成的液晶显示面板不易出现显示不均的现象，且具有较高的透光度及开口率。

三、本发明的彩色滤光基板的制作方法采用上述配向膜的配向方法形成配向膜，所制作出的彩色滤光基板可用于组装一液晶显示面板。由于此彩色滤光基板不具有突起物的设计，便可使液晶显示面板达到广视角的目的。因此，利用此彩色滤光基板装成的液晶显示面板不会有显示不均的现象，且也具有较高的透光度及开口率。

虽然本发明已以具体实施例揭示，但其并非用以限定本发明，任何本领域的技术人员，在不脱离本发明的构思和范围的前提下所作出的等同组件的置换，或依本发明专利保护范围所作的等同变化与修饰，皆应仍属本专利涵盖之范畴。

Claims (20)

1.一种主动元件阵列基板的制作方法，其特征在于包括：

提供一基板；

在该基板上形成一像素阵列；

在该像素阵列上形成一配向材料层，该配向材料层上具有多数个配向区域；

利用喷墨印刷工艺以在该配向材料层上的一部份配向区域上形成一掩膜层，并暴露该配向材料层上另一部份的配向区域；

对被暴露出来的该配向材料层进行一粒子束配向工艺；

移除该掩膜层；

利用喷墨印刷工艺以在已经由该粒子束配向的该配向材料层上形成另一掩膜层，并暴露尚未经该粒子束配向的该配向材料层；

对被暴露出来的该配向材料层进行另一粒子束配向工艺；

移除该另一掩膜层。

2.如权利要求1所述的主动元件阵列基板的制作方法，其特征在于：该像素阵列包括多数个次像素，且每一次像素对应到至少两个配向区域。

3.如权利要求1所述的主动元件阵列基板的制作方法，其特征在于：该像素阵列包括多数个次像素，且每一配向区域内对应有至少两个次像素，而且对于每一配向区域而言，其配向方向会与邻接于该配向区域四周的其它配向区域的配向方向不同。

4.如权利要求1所述的主动元件阵列基板的制作方法，其特征在于：该像素阵列包括多数个次像素，且每一配向区域内对应有一个次像素，而且对于每一配向区域而言，其配向方向会与邻接于该配向区域四周的其它配向区域的配向方向不同。

5.如权利要求1所述的主动元件阵列基板的制作方法，其特征在于：上述两粒子束配向工艺的配向方向不同。

6.如权利要求1所述的主动元件阵列基板的制作方法，其特征在于：该些掩膜层的材质包括有机材质。

7.如权利要求1所述的主动元件阵列基板的制作方法，其特征在于：

所形成的该配向材料层上具有一第一配向区域、一第二配向区域、一第三配向区域以及一第四配向区域；

利用喷墨印刷工艺以在该配向材料层的该第二、第三以及第四配向区域中形成一第一掩膜层，并暴露出该配向材料层的该第一配向区域；

对该配向材料层的该第一配向区域进行一第一粒子束配向工艺；

移除该第一掩膜层；

利用喷墨印刷工艺以在该配向材料层的该第一、第三以及第四配向区域中形成一第二掩膜层，并暴露出该配向材料层的该第二配向区域；

对该配向材料层的该第二配向区域进行一第二粒子束配向工艺；

移除该第二掩膜层；

利用喷墨印刷工艺以在该配向材料层的该第一、第二以及第四配向区域中形成一第三掩膜层，并暴露出该配向材料层的该第三配向区域；

对该配向材料层的该第三配向区域进行一第三粒子束配向工艺；

移除该第三掩膜层；

利用喷墨印刷工艺以在该配向材料层的该第一、第二以及第三配向区域中形成一第四掩膜层，并暴露出该配向材料层的该第四配向区域；

对该配向材料层的该第四配向区域进行一第四粒子束配向工艺；以及

移除该第四掩膜层。

8.如权利要求7所述的主动元件阵列基板的制作方法，其特征在于：该第一配向区域、该第二配向区域、该第三配向区域以及该第四配向区域的配向方向皆不相同。

9.如权利要求1所述的主动元件阵列基板的制作方法，其特征在于：该配向材料层的材质包括聚亚酰胺、聚酰胺、聚乙烯醇、PVC、类钻石碳膜、碳化硅、氧化硅、氮化硅、氧化铝或氧化锡。

10.如权利要求1所述的主动元件阵列基板的制作方法，其特征在于：在形成该像素阵列之后，更包括在该像素阵列上形成一绝缘层，且该绝缘层具有多数个凹陷区，每一凹陷区会与其中一配向区域对应。

11.一种彩色滤光基板的制作方法，其特征在于包括：

提供一基板；

在该基板上形成一彩色滤光阵列；

在该彩色滤光阵列上形成一配向材料层，该配向材料层上具有多数个配向区域；

利用喷墨印刷工艺以在该配向材料层上的一部份配向区域上形成一掩膜层，并暴露该配向材料层上另一部份的配向区域；

对被暴露出来的该配向材料层进行一粒子束配向工艺；

移除该掩膜层；

利用喷墨印刷工艺以在已经由该粒子束配向的该配向材料层上形成另一掩膜层，并暴露尚未经该粒子束配向的该配向材料层；

对被暴露出来的该配向材料层进行另一粒子束配向工艺；

移除该另一掩膜层。

12.如权利要求11所述的彩色滤光基板的制作方法，其特征在于：该彩色滤光阵列包括多数个彩色滤光图案，且每一彩色滤光图案对应到至少两个配向区域。

13.如权利要求11所述的彩色滤光基板的制作方法，其特征在于：该彩色滤光阵列包括多数个彩色滤光图案，且每一配向区域内对应有至少两个彩色滤光图案，而且对于每一配向区域而言，其配向方向会与邻接于该配向区域四周的其它配向区域的配向方向不同。

14.如权利要求11所述的彩色滤光基板的制作方法，其特征在于：该彩色滤光阵列包括多数个彩色滤光图案，且每一配向区域内对应有一个彩色滤光图案，而且对于每一配向区域而言，其配向方向会与邻接于该配向区域四周的其它配向区域的配向方向不同。

15.如权利要求11所述的彩色滤光基板的制作方法，其特征在于：上述两粒子束配向工艺的配向方向不同。

16.如权利要求11所述的彩色滤光基板的制作方法，其特征在于：该些掩膜层的材质包括有机材质。

17.如权利要求11所述的彩色滤光基板的制作方法，其特征在于：

所形成的该配向材料层上具有一第一配向区域、一第二配向区域、一第三配向区域以及一第四配向区域；

利用喷墨印刷工艺以在该配向材料层的该第二、第三以及第四配向区域中形成一第一掩膜层，并暴露出该配向材料层的该第一配向区域；

对该配向材料层的该第一配向区域进行一第一粒子束配向工艺；

移除该第一掩膜层；

利用喷墨印刷工艺以在该配向材料层的该第一、第三以及第四配向区域中形成一第二掩膜层，并暴露出该配向材料层的该第二配向区域；

对该配向材料层的该第二配向区域进行一第二粒子束配向工艺；

移除该第二掩膜层；

利用喷墨印刷工艺以在该配向材料层的该第一、第二以及第四配向区域中形成一第三掩膜层，并暴露出该配向材料层的该第三配向区域；

对该配向材料层的该第三配向区域进行一第三粒子束配向工艺；

移除该第三掩膜层；

利用喷墨印刷工艺以在该配向材料层的该第一、第二以及第三配向区域中形成一第四掩膜层，并暴露出该配向材料层的该第四配向区域；

对该配向材料层的该第四配向区域进行一第四粒子束配向工艺；以及

移除该第四掩膜层。

18.如权利要求17所述的彩色滤光基板的制作方法，其特征在于：该第一配向区域、该第二配向区域、该第三配向区域以及该第四配向区域的配向方向皆不相同。

19.如权利要求11所述的彩色滤光基板的制作方法，其特征在于：该配向材料层的材质包括聚亚酰胺、聚酰胺、聚乙烯醇、PVC、类钻石碳膜、碳化硅、氧化硅、氮化硅、氧化铝或氧化锡。

20.如权利要求11所述的彩色滤光基板的制作方法，其特征在于：形成该彩色滤光阵列的方法包括：在该基板上形成一黑矩阵层以及于该黑矩阵层的图案之间形成多个彩色滤光图案，其中该黑矩阵层的厚度大于该些彩色滤光图案的厚度。

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