CN1854330A - 连续oled涂布机 - Google Patents

Abstract

本发明涉及特别是用于连续生产设有有机电致发光材料(OLED)的基板、尤其是OLED显示器、屏幕、面板或其它发光元件的方法和装置，该装置具有真空空间和用于输送待涂布的基板且至少部分沿着真空空间布置而且具有用于基板的运载工具的输送装置，所述输送装置包括至少一个用于输送运载工具的环形回路，该真空空间分成至少两个部分，即，第一部分(3)和第二部分(4)，在第一部分(3)中设有输送装置的用于沿着第一方向(基板输送方向)输送运载工具的第一部分，在第二部分(4)中设有输送装置的用于沿着第二方向(运载工具返回输送方向)输送运载工具的第二部分。因此，在返回输送期间直接有利地清洁用于构造OLED涂层所需的掩模，并且不需要任何掩模储存。

Description

连续OLED涂布机

技术领域

本发明涉及一种用于尤其是连续生产设有有机电致发光材料(OLED)的基板、特别是OLED显示器、屏幕、面板或其它发光元件的装置，以及用于生产设有有机电致发光材料(OLED)的基板的方法。

背景技术

在致动元件和娱乐电子设备技术领域中，平面控制板和显示器变得日益重要。这种平面控制板的有意思的实现方式是由所谓的OLED显示器或屏幕提供，其中在电极之间的有机电致发光材料沉积在平坦的透明基板上，从而通过借助电极致动可以产生出能够用来产生出图像的光的发射。

真空涂覆方法通常在所谓的集结式机台(cluster tool)中用于生产这种OLED屏幕。通常围绕着中央布置有其中进行不同涂覆步骤的各种模块，并且布置在中央的机器人将所要涂覆的基板插入到相应模块中，再将它们取出并且将它们输送到下一个模块。尽管这种技术相对于在各个模块中的纯度要求和工艺条件而言具有特定的优点，但是对于经济地大规模生产相应的OLED屏幕而言没有什么意义。

为此，在现有技术中已经提出所谓的串联式机器，这有利于实现各种必要涂布步骤的连续过程。这里的示例为JP2003332052A、WO03/090260A2和WO03/043067A1。

JP2003332052A提出将用于例如沉积红色、绿色和蓝色发光电致发光材料的不同涂布站环形布置，并且具有用于在输出站处在环外面构造所建议的涂层所需的掩模的单独清洁站。但是，这种机器结构对于将被清洁的掩模输送到输入站的单独输送通道需要较高的成本，并且需要单独布置清洁站。

WO03/090260A2描述了一种用于将多层涂层沉积在基板上的装置，并且在基本上线性轨道上将基板多次引导穿过涂布机，以便沉积不同的层。虽然由此实现了连续串联式机器，但是这种机器由于基板要反复行进穿过涂布机所以具有缺点。

WO03/043067A1披露了一种用于大规模生产有机电致发光装置的装置，其中所要涂布的基板布置在运载工具上，该运载工具例如沿着轨道布置被引导穿过真空涂布机，并且其中带有基板的运载工具可以浸入到相邻涂布腔室中，以便进行各种各样的涂布过程。

这里，用于使基板下降至各个涂布腔室中的花费不仅在涂布过程期间而且从设计方面看都非常高。

另外，所有过程，例如基板清洁、用于构造的掩模布置以及掩模的清洁以及在各个腔室中的涂布都连续地进行。

发明内容

因此，本发明的目的在于提供一种尤其用于连续生产设有有机电致发光材料(OLED)的基板、尤其是OLED显示器、屏幕、面板或其他OLED发光元件的涂布机或装置，其避免了现有技术的缺点，并且尤其是提供了一种用于大规模生产OLED元件的简单而令人满意的可能性，同时空间要求较小并且允许实现OLED产品的高品质标准。尤其是，相应的装置应该容易制造并且该过程容易操作。

该目的是通过具有权利要求1的特征的装置和具有权利要求20的特征的方法来实现的。优选实施方案是从属权利要求的目标。

所提出的解决方案其特征在于，基于双腔室原理构造出涂布机或装置，即真空涂布机的整个真空空间优选沿着其纵向轴线分成两个部分，该真空空间的第一部分用来将装载有所要涂布的基板的运载工具从装载站通过涂布机输送到卸载站，并且该机器的另外的第二部分用来返回并且清洁基板运载工具、尤其是构造所需的掩模。这样的优点在于，可以将具有真正连续操作的非常紧凑的机器实现作为所谓的串联式机器，其中通过在环形回路中引导运载工具和/或掩模来大大避免运载工具和掩模的存储，并且明显增大了产出率和效率。

另外，通过双腔室原理，尤其对于产生真空而言可以实现简单的结构和简单的操作，并且这些双腔室尤其能够形成为全能模块，从而可以根据需要将相应的处理工具和其他装置布置在相应的双腔室模块中。这同样大大有利于转换。而且，这种结构有利于不间断地输送用于在真空中微构成涂层的基板或运载工具和/或掩模。因此，避免了运载工具或掩模被环境污染。

另外，必要时，为了将特定区域密封以避免污染，或在该机器局部通气时，可以在各个腔室或腔室模块之间设置锁存腔室和/或锁存装置和隔离装置。

除了用于输送运载工具的环形回路之外(它与输送装置的第一部分一起在基板输送方向上沿着真空空间的第一部分延伸，并且该输送装置的相反取向、即沿着运载工具返回输送方向的第二部分沿着真空室或真空双腔室的第二部分延伸)，优选另外设有几个用于输送掩模的第二环形回路，以便用于构造或微构造出涂层。用于输送掩模的第二环形回路的相应输送布置在其中进行将基板从输入区域输送到输出区域的那部分真空空间中也具有第一部分，并且在真空空间的第二部分中具有用于返回输送的第二部分。

另外，优选设有至少一个输送支路，其中用于基板运载工具的输送装置和/或用于掩模的输送布置没有形成为一连续回路，相反，在双腔室中设有沿着相同和/或相反方向的平行输送部分。这尤其在输入和输出区域中是有利的，因为这样真空双腔室的两个部分都可以将位于基板运载工具上的基板输送到和离开掩模安放站，并且因此可以大大提高效率。因此，可以在快速过程中将更多的基板送到涂布过程中，这进一步提高了该机器的效率。

优选的是，用于运载工具的输送装置和用于掩模的输送布置部分地使用相同的输送部件和操作装置，从而至少一些输送同时进行。尤其是，基板运载工具优选也用作用于至少部分返回输送掩模的掩模运载工具。

优选的是，从输送装置或输送布置的第一部分转换到输送装置或输送布置的第二部分在基板装载站和/或基板卸载站(其中基板布置在运载工具处或者从这些中去除)中、和/或掩模安放站和/或掩模去除站(在那里将掩模分配给基板或将它们布置在其上或再次从中去除)中的环形回路中进行，反之亦然。

在一个优选实施方案中，设有一旋转模块，它在一个站中不仅进行用于两个相邻涂布区域的掩模转换，而且还进行掩模从涂布部分向清洁部分的传送，并且反之亦然，而且在旋转模块处设有相应的掩模安放和/或去除站和/或掩模对准站和用于掩模的保持元件。

该旋转模块包括具有一旋转工作台的一旋转机构，在所述旋转工作台上设有两个拾取器，拾取器具有用于来自输送装置的第一部分和第二部分的基板运载工具的转移位置，由此通过旋转工作台旋转180°，拾取器可以移动到另一个输送部分的转移位置中，通过旋转90°，可以移动到用于转移至相邻设置的掩模和/或基板运载工具交换区域的转移位置中。首先，在掩模转换区域中从基板运载工具中将掩模去除，然后将基板运载工具分配给相应的其他等待掩模，并且在安放之后沿着输送系统进一步运动。

优选的是，可以沿着输送路径设置用于基板运载工具和/或掩模的掩模和/或基板运载工具自动输送装置，以便可以转换基板运载工具和/或掩模，或者在给定操作过程的不同持续时间的情况下，可以实现该装置的产出率和效率的最优化。另外，这些自动输送装置也可以用于装载该机器。优选的是，将可以具有一个或尤其数个存储部位的这种中间自动输送装置分配给传送装置、掩模安放和/或掩模去除站和/或旋转模块。通过使用针对相应的操作可能性提供了相应的旋转和/或平移运动的基板运载工具或掩模传送单元，可以简单地将相应的基板运载工具和/或掩模输送进输送过程并且再从中输出，而且在自动输送装置单元，例如布置在一起的几个自动输送装置之间转换。

与掩模和/或基板运载工具自动输送装置相同，也可以在实际输送路径之外的侧支路中设置额外的掩模和/或基板运载工具清洁站，从而通过从实际输送路径简短地输出，可以进行掩模和/或基板运载工具的清洁。这尤其可以在能够在真空腔室的第二部分或第二部中的返回输送期间进行的清洁之外进行。

这些环形回路每个都可以通过单个连续操作输送装置或通过多个操作装置和输送部件来实现，在其中例如基板和/或运载工具或掩模从一个装置传送给另一个装置。因此，掩模和/或基板运载工具的输送可以完全连续地进行，即不会停止或不连续地存在中间停止和/或任意其组合。因此同样可以想到偶尔返回输送到各个站中。因此，基板的涂布或一般处理也可以动态地(即在输送期间)或静态地(即在基板没有运动的情况下)进行。因此，涂布或处理的类型存在三种可以相互组合的基本可能性，即连续动态、定时动态或静态。

通过本发明的装置的这个实施方案，在给定用于生产OLED元件的相应过程的情况下，可以在返回输送期间直接清洁用于构造涂层所需的掩模或阴影掩模，并且避免或减少掩模储存，同时使整体所需的掩模的数量最小化。

附图说明

利用附图从以下两个实施方案的详细说明中将了解本发明的其他优点、特性和特征。这些附图仅以示意性的方式显示出。

图1为根据本发明的装置的平面图；

图2为根据本发明的装置的第二实施方案的平面图；

图3为具有相应运载工具和掩模的图2中的装置的局部视图；

图4为图2和3的装置的一部分处理程序或操作的示意图；

图5为在本发明另一个实施方案中的旋转模块的平面图；

图6为以用于生产白色OLED的形式的本发明装置的第三实施方案的平面图；并且

图7为以RGB-OLED涂布的形式的根据本发明的装置的第四实施方案的平面图。

具体实施方式

图1显示出根据本发明的装置，其被构造用来产生发白光的有机LED(OLED)。装置1包括多个连续的真空双腔室2，每个腔室分成两部分(半部)3和4，并且与其相邻的腔室一起形成一真空空间。除了沿着该装置的纵向轴线将该真空空间划分成两个部分3和4之外，该真空空间在图1中所示的实施方案中另外由掩模安放站14和掩模去除站13再分成两个区域，并且也可以再分成多个区域。但是，与纵向再分成部分3和4一样，通过掩模安放站14和去除站14的再分不应该理解为表示获得了不同真空条件。尽管这在不同情况中是可能的，但是相同真空条件也可以是普遍的。再分只能理解为表示该真空空间不是一直相同的。但是，每个都具有其部分3和4的真空双腔室2形成连续输送区域，这些区域而且不会被掩模安放站14和去除站13中断，同时在部分3和4之间的过渡部分只可以在某些区域中。由真空双腔室2的模块再分真空空间不会影响基本再分成部分3和4。

另外，可以通过设置锁存件或隔离元件20来进行分隔，这有利于将该真空空间的各个区域分开或隔开。优选的是，真空空间由类似的模块构成，这些模块与其用作掩模安放站和去除站、或基板装载和卸载站、涂布站等一致地按照不同方式配备。

装置1具有整体线性结构，其中基板输入装置5设置在一个端部处并且基板输出装置6设置在相反的端部处。除了线性结构之外，当然也可以具有带有相应的曲线的不同结构或围绕着角部输送。通过基板输入装置5和基板输出装置6，可以从周围条件或不同的真空处理机中将待涂布的基板转移到装置1的真空空间中或者从中转出。

基板输入装置5后跟随着一基板装载站7(在没有详细说明的锁存或隔离装置之后)，其中将待涂布的基板布置在运载工具40上(参见图3)，基板在涂布过程期间或在输送穿过装置1期间位于该运载工具上。同时，基板装载站7可以用作如在图1的右底部处的局部图中所示的传送装置，这有利于将运载工具40从真空空间的部分4交换到真空空间的部分3中，并且反之亦然。如将在后面所示那样，在基板装载站中的运载工具40使输送方向从运载工具返回输送方向改变为基板输送方向。

可选的是(未示出)，基板装载站也可以设在基板输入装置中，从而在设置在基板运载工具上期间对基板的操作可以简单地在空气中而不用在真空中进行。在该情况下，基本输入装置将仅由一传送模块跟随，在该传送模块中将从部分4返回的基板运载工具转送到部分3中，并且随后输送到用于装载的基板输入装置中。输出区域也可以相应地布置。

在基板装载站7之后是掩模安放站8，在其中将掩模(阴影掩模)(参见图3)安放在或分配给布置在运载工具40上或在该处的基板上，以便在随后的涂布期间可以按照没有在由掩模覆盖的区域中涂布、而在其它区域中涂布基板这样一种方式来实现涂层构造。另外，在这里使掩模对准或调整，以便准确地在正确位置中进行构造。

掩模安放站8也包括没有详细说明的传送装置，通过该传送装置的帮助可以将来自真空空间的部分4的掩模转送到真空空间的部分3，并且该掩模同时也将输送方向从返回输送方向改变成基板输送方向。在具有操纵和保持装置(未示出)的相应结构的情况下，也可以将基板装载站7和掩模安放站8结合在单个站中。

掩模安放站8之后为多个真空双腔室2，它们配备用于在部分3处或之中进行相应的涂布过程。

在图1中所示的实施方案中，设有涂布区域9、10和11，其中施加有相应的辅助层，例如在区域9中的孔注入层HIL、孔输送层HTL和电子阻挡层EBL，在区域10中的发光材料以及在区域11中的其他辅助层，例如电子注入层EIL、电子输送层ETL和孔阻挡层HBL。

在其上具有基板的运载工具和掩模已经行进穿过涂布区域9至11之后，它通入到相连的掩模去除站13中，在那里从基板上去除掩模。掩模去除站13也具有一传送装置，通过它将所去除的掩模转送到真空空间的部分4，在那里沿着与在图1的实施方案中为从左向右前进的基板输送方向相反的方向将它输送回到掩模安放站8。在途中的真空双腔室2中的一个中存在一掩模清洁站12，它在掩模正在往回输送时，直接清洁掩模并且清除在涂布站9至11中施加的涂布材料。这样，该掩模能够立即重新用在掩模安放站8中。可以按照任意合适的方式进行清洁。

同时，带有基板的运载工具运动进掩模安放站14中，该站14布置在掩模去除站13之后，并且在其中如在掩模安放站8中那样又将新的掩模施加在基板上，以便可以提供经适当调节的掩模用于通过热蒸涂进行的随后的电极涂覆。

在掩模安放站14中，正如在掩模安放站8中那样，相应掩模从真空空间的部分4转移到真空空间的部分3，并且该掩模改变了其运输方向。而且，正如在掩模安放站8中那样，该掩模在掩模安放站14中如此排列，即，在其中需要这些结构的那些区域中精确地进行对所要涂覆的涂布材料的构造。

在掩模安放站14之后的在区域15中的真空双腔室2如此配备，从而将电极材料热蒸涂到基板上。当然，也可以采用其他蒸涂过程。

在行进穿过涂布站15之后，在运载工具上的基板和布置在其上的掩模通入到掩模去除站17，在那里从基板上将掩模去除并且转移到真空空间的部分4上，从而可以沿着与基板输送相反的方向将掩模运输回来，并且在清洁站16中清洁，从而便它可以立即重新用在掩模安放站中。

在随后的用于运载工具的基板装载站18中，从运载工具上将基板去除并且输送到基板输出站6，同时将运载工具运输到真空空间的部分4并且使之运动回到基板装载站7。

在所示优选实施方案中的运载工具的返回运输期间，掩模和运载工具一起被运输，并且在该情况中运载工具在掩模去除站17中拾取掩摸用于返回运输并且由此在掩模安放站14中再次传送它。同样，在掩模去除站13中的真空空间的部分4中的返回输送期间，运载工具从前一次涂布过程拾取掩模并且将它输送到掩模拾取站8。但是，也可以想到为运载工具和掩模设置单独的运输部件来进行返回输送。

总之，在图1的实施方案中，结果是形成三个环形回路，更准确地说是用于基板的运载工具的第一环形回路，该基板从在真空空间的部分3(在图中的上排)中的基板装载站7开始运动经过掩模安放站8和涂布站9至11、掩模去除站13以及掩模拾取站14和涂布站15以及改变其运输方向的基板卸载站18，然后又沿着与基板运输方向相反的方向运输到基板装载站7。除了该第一环形回路之外，对于掩模运输而言还存在两个第二环形回路，更准确地说是用于在涂布站9至11中的涂布过程的掩模的一个环形回路，以及用于在涂布站15中的涂布过程的掩模的另一个环形回路。用于在涂布站9至11中的涂布过程的掩模从掩模安放站8开始运动经过涂布站9至11到掩模去除站13，在那里掩模改变其运输方向并且运输经过在真空空间的部分4中的掩模清洁站12回到掩模安放站8。

涂布站15的涂布过程的另一个掩模从在真空空间的部分3中的掩模安放站14运动经过涂布站15到掩模去除站17，在那里它也改变运输方向并且输送经过在部分4中的清洁站16回到掩模安放站14。

就所运动的对象而表示的这些环形回路(即，从运载工具或掩模方面看是环形回路)可以由多个操纵和传送装置形成。但是，也可以想到，针对运载工具的运动也可以专门设置单个连续运输装置。

同样，用于拾取掩模、运载工具、基板等并且使之运动的各种歧管装置可以设想用于基板装载和卸载站7和18，以及掩模安放和去除站8和14，以及13和17。

可以想到例如用于基板装载和卸载站7和18以及掩模安放和去除站8、13、14和17的传送装置为简单的旋转机构，其中运载工具板70绕着轴线80旋转或枢转，更准确地说转动180度，从而运载工具70一次指向为其相应的侧面朝着真空空间的部分3，并且在转动180度之后，下一次朝着真空空间的部分4指向。当给定基板垂直对准、即与图1的图面垂直对准并且对应于垂直输送时，可枢转运载工具板70的旋转轴线80也垂直于图面布置。在图1的右底部显示出相应的视图，其中运载工具板70具有如由双头箭头方向所示的运载工具板70能够绕着其枢转的中心轴线80，从而基板运载工具40能够在真空空间的部分3和4之间转动。

这样，也特别简单地实现了基板装载和卸载站7、18以及掩模安放站和去除站8、13、14、17、18(例如掩模去除站13和掩模安放站14)的组合，因为只要针对所要接收和安放的部分设置相应的中间保持装置。下面将结合图5对相应的旋转模块进行说明。

图2显示出根据本发明用于生产所谓的RGB显示器的装置的另一个实施方案，其中红色、蓝色和绿色电致发光材料的像素必须按照结构化方式彼此单独生产出。相应地，必须针对所要沉积的红色、绿色和蓝色电致发光材料设置具有相应的掩模安放和去除站124、125、126、127、128、129的不同掩模。相应地，针对相应的掩模也要将清洁站130分配给用于红色电致发光材料的涂布站121、将清洁站131分配给绿色涂布站122、并且将清洁站132分配给蓝色涂布站。

涂布站121、122和123一起形成用于电致发光材料的涂布区域110。另外，也设有与在图1中的实施方案的涂布区域9和11对应的涂布区域109和111，在其中施加有相应的辅助层，例如孔注入层、孔输送层、EBL层、电感层、电子输入层和HBL层。这些涂布站109和111也配备有用于在那里使用的掩模的清洁站112和133。而且，除了电极涂布站115之外，在装置100的开始部分处还设有等离子激活站119，其中将基板或其表面进行等离子激活以便进行随后的涂布。

装置100与其真空空间一起也沿着其纵向轴线一分为二，变成部分103和104，并且在部分103中或者相应地在真空双腔室102的部分103处设有相应的基板处理和涂布站109、110、111、115和119，同时将清洁站112、130、131、132、133和116配备给或布置在部分104处或其中。

与用于分开或隔离各个区域的图1中的实施方案的锁存件或隔离装置20相同，尤其在掩模安放和去除站的区域中，在装置100的该实施方案中设有相应的锁存件或隔离装置120，它们例如设在等离子激活站119和涂布站109之间，以便使相应的大气分开并且形成用于基板的锁定区域。

整个结果导致该装置100具有这样一种结构，即，该结构带有基板输入站105、基板装载站107、掩模安放站108和具有没有详细描述的输送部件的运载工具的环形回路，该环形回路使带有所施加的基板和变化的掩模的运载工具首先运动经过等离子激活站119，然后经过涂布站109，然后进一步经过涂布站121、122、123和111以及115，从而最终在基板卸载站118中使基板与运载工具分开并且在基板输出站106中排出基板，或者使之能够用于随后的处理装置。然后使没有基板并且重新具有变化的掩模的运载工具在真空空间的第二部分104中返回到基板装载站107，顺序经过清洁站116、133、132、131、130和112。

除了该第一环形回路之外，该装置106还具有两个用于相应掩模的环形回路，并且在掩模安放站108中的第一掩模相对于基板布置并且对准在基板上或者运载工具上，从而该基板在它通过等离子激活站119和涂布站109时可以受到保护并且只在前面限定的区域的相应区域中暴露出。在掩模去除站113中将该掩模从基板或运载工具上去除，并且通过掩模清洁站112输送回到在真空局部空间104中的掩模安放站108。如果期望对基板的整个表面进行等离子激活，则也可以在等离子激活站119和涂布站109之间设置掩模安放和对准站108。代替等离子激活，也可以想到其他用于清洁和/或激活表面的处理技术、尤其是表面激活技术，例如UV、臭氧处理或离子轰击。

用于输送相应掩模的第二种第二环形回路设置为用于涂布区域121，并且在掩模安放站114中安放并且调整掩模，在掩模去除站124中从基板或运载工具上去除掩模并且在清洁站130中清洁掩模。

将第二种的第三、第四、第五和第六环形回路分配给涂布站122、123、111和115，并且在相应的掩模安放站125、127、129和135的每一个中，将用于随后涂布过程的掩模安放并且对准在基板或运载工具上，同时在各个涂布站之后在掩模去除站126、128、134和117中再次去除相应的掩模。

这种操作模式由图3和4的示意图更清楚地显示出，并且图3显示出用于图2的装置100的局部的用于运载工具40和掩模50和51或52的运输或运动流。如在图3中可以清楚地看出的一样，数个运载工具和掩模总是不仅在第一而且还在第二环形回路中同时运动，从而保证通过该涂布机实现高产出率。如由在掩模安放站108、114和125和掩模去除站113和124以及基板装载站107中的双头箭头所示一样，运载工具40在这些站中从该输送装置的在真空空间的部分104中用于运载工具的第二部分交换到该输送装置的在真空空间的部分103中的第一部分，并且对于掩模而言从输送布置的用于在真空空间的部分104中的掩模的第二部分交换到输送布置的真空空间的部分103(掩模安放站)中的掩模的第一部分，并且反之(掩模去除站)亦然。

从图4中尤为明显地看出，示意性示出的第一环形回路140和第二环形回路150优选具有相同的输送部件和操纵装置，以便实现用于运载工具的输送装置和用于掩模的运输布置。

图4为在掩模去除站124和掩模拾取站125中并且例如如图1所示一样通过可转动运载工具板70从红色涂布站121到绿色涂布站122的交换期间的掩模传送的示意图。在掩模去除站124中，来自红色涂布区域21的带有掩模的运载工具通过运载工具板70的转动从真空空间的第一部分103传送到真空空间的第二部分104，在那里它传送用于红色涂布区域的掩模。然后，运载工具板70往回转动，从而位于运载工具板70上的带有布置在其上的基板的运载工具(未示出)重新位于在真空空间的第一部分103的区域中。之后进一步将基板与运载工具一起输送到绿色区域122的掩模安放站125中，在那里首先使运载工具板70转动180度，从而将基板与运载工具布置在真空空间的部分104中。在那里，运载工具或基板从绿色区域中将掩模取出，返回并且在真空空间的部分104中清洁，并且在布置和对准绿色掩模之后通过转动180度回转到真空空间的部分103中，从而在那里可以继续进行将带有基板的运载工具以及绿色掩模输送穿过绿色区域。这种顺序可以在所有涂布和基板处理站之间实现，并且也可以针对基板装载和卸载站实现。

在使用允许短时间中间存放至少一个相应掩模的相应操纵部件的情况中，如图5所示那样，可以考虑在单个站中结合掩模安放和掩模去除站。但是，为了避免各个涂布区域的相互污染，即使在这会带来一定程度更大的操作花费的情况下，空间分开也是有利的。但是，可以针对涂布站或基板处理站来实现这种组合，其中不必担心出现任何污染，或者设置相应的分离部件。

在图5的实施例中，设有具有转动区域262和掩模交换区域261的旋转模块260。将具有相应的经涂布的掩模的基板运载工具266导入在其中进行涂布的输送装置的部分203中的旋转模块260，同时在部分204中传送来自相邻涂布区域的带有清洁掩模的基板运载工具267，并且输送方向相反。在将基板运载工具266、267拾取到旋转工作台263上之后，后者转动90度，从而基板运载工具266、267可以通过线性运动传送给相邻掩模交换区域261。布置在外壁上的掩模定位系统264和265从基板运载工具266、267上取出掩模。在掩模定位系统264和265保持着这些掩模的同时，基板运载工具再次运动到转动工作台263，转动180度，并且再次导入进掩模交换区域261中。这里，基板运载工具266从随后的涂布区域中取出清洁掩模，同时带有经涂布的掩模的基板运载工具267在进一步转动90度之后运动进其他涂布区域的清洁区域中。

例如在使用在输入区域中的转动模块时，可以将掩模清洁站安装在转动区域262对着掩模交换区域261的侧面处。

图6显示出根据本发明的用于生产发射白色有机光(白色OLED)的另一个装置的示意图。在图6中所示的装置200还具有多个连续布置的真空双腔室202，它们只在几个位置处由一旋转模块260和两个转动模块275以及几个分隔装置220彼此分开。

除了代替图1的掩模安放和去除站的旋转模块260之外，该装置在其涂布区域中与图1的装置对应，从而相同的尾部数字在术语列表中被选择用于相同或等同的部件。

另外，图6的装置200与图1的装置的不同之处在于，设有不同的基板输入和输出装置270、290。

基板输入装置270具有一机器人273，用来在传送模块274中将基板传送到基板运载工具上。传送模块如此设计，从而在其中的基板运载工具绕着与图像平面垂直的轴线转动，并且可以执行线性运动，从而可以从真空双腔室202的输送部分278和279中取出基板运载工具，并且将它们传送到这些部分上。

基板输入装置270的具体特征在于，在真空双腔室202中的两个输送部分278和279能够用来将基板输送给基板安放站271。这意味着，在平行的输送部分278和279中，与在涂布区域中的反向平行输送相反，可以有单向和反方向输送。

另外，在基板输送装置270的输送部分278和279中不仅可以将基板输送给掩模安放站271，而且可以沿着传送模块274的方向输送基板运载工具。相应地，还设有基板清洁站272，其用来清洁基板运载工具。

这种基板输送布置类型实现了效率和产出率的明显增大，因为这样可以将更多的基板发送穿过这些涂布区域。尤其是，带有转动模块275的基板输入装置270可以以比在涂布区域中的输送装置高得多的循环频率工作。

另外，在旋转模块260的区域中，设有两个基板运载工具自动输送装置281和282，它们通过基板运载工具传送模块283相互连接并且与旋转模块260连接。该存储单元280由此便于基板运载工具的中间缓冲，以便于优化通过涂布机实现的基板产出率的最优化。而且，存在交换不合格基板运载工具的可能性。另外，该存储单元可以用来给机器装载基板运载工具。至于其它，旋转模块260的功能与如参照图5所述的一样。

与基板输入区域相同，基板输出区域290具有一转动模块275、掩模去除站和/或中间存储器276以及与机器人273相互作用的基板运载工具操作或传送模块274。基板传送模块274和机器人273布置在具有惰性氛围的所谓的手套箱中。

在基板输出装置290的情况中，在那里布置有相应掩模去除或存储单元276的真空双腔室202的两个输送部分也可以沿着基板运载工具的两个方向来回运动，从而也可以便迅速输出基板成为可能。

尤其是，在各个区域和部分中的输送速度可以不同，以便有利于优化使用整个装置。因此，例如在基板输入装置270和基板输出装置290的输送支路中的速度可以与在涂布区域209至211和215a和215b中的输送速度不同。另外，这些输送速度在各个涂布区域中也可以不同，并且在各个部分中、即在真空双腔室的部分3和真空双腔室的另一个部分204中也可以不同。因此，在涂布部分中的输送速度可以与在返回输送的区域中的输送速度不同。这有利于优化整个装置的使用。

详细地说，图6的装置200按照这样一种方式作用，即，基板借助机器人273传送给在基板传送单元274中可以得到的基板运载工具。从那里，借助锁存件(没有更详细地显示出)沿着掩模安放站271的方向将装载有基板的基板运载工具输送给基板输入装置270的输送部分278或279。在那里，将借助清洁站212从部分204返回的掩模安放在基板上。设有掩模的基板与基板运载工具一起借助转动模块275、更具体地说例如通过基板运载工具拾取器的相应转动被导入真空腔室布置的部分203中。同时，可以将带有来自部分204的清洁掩模的返回基板运载工具传送给基板输入装置270，并且在基板安放站271中将掩模去除，并且将它暂时存储直到带有基板的基板运载工具从基板传送模块274中返回。

因此，在所示的实施方案中，导入真空腔室的部分203中的基板行进穿过涂布区域209、210a、210b和211，在那里例如以如下顺序形成有孔注入层、孔输送层、红色发光层、绿色发光层、蓝色发光层、孔阻挡层和电子注入层。然后，在旋转模块260中拾取带有布置在其上的掩模的基板，在该转动模块中在掩模去除站265中将掩模去除，然后在真空腔室的部分204中将它输送回，同时在掩模安放站264中的涂布基板取得用于在涂布腔室215a和215b中随后涂布过程所需的新掩模。

与旋转模块260的掩模交换区域261连接的是一基板运载工具传送模块283，其服务于两个基板运载工具自动输送装置281和282。基板运载工具由此在这里可以更换。

随后，仍然在真空腔室的部分203中的带有新掩模的基板进一步被引导穿过涂布站215a和215b，在那里进行LiF蒸涂，然后进行铝蒸涂以及相应的沉积。之后，将位于基板运载工具上的带有掩模的基板传送给基板输出装置290的转动模块275，在该处它们通入到掩模去除站276，并且在基板传送单元274、273中将基板运载工具卸载。这在所谓的手套箱中在惰性气体氛围中进行。

图7显示出第四实施方案300，其中类似或相同的部件具有与在前面实施方案中相同的尾部数字。装置300为用于生产所谓的RGB-OLED系统的涂布机，其中因此不同颜色的LED相互并排沉积。该机器因此与实施方案100的机器构思基本上对应，其不同之处在于掩模安放和去除站113和114以及124、125、126、127、128、129与130、134和135一起由相应的旋转模块360代替。这些又具有旋转区域362、掩模更换区域361，该掩模更换区域361带有掩模安放站264以及掩模去除和中间存储站365。与图6的实施方案相同，在数个旋转模块360中的掩模更换区域361处设有具有一个或两个基板运载工具自动输送装置381、382的基板运载工具传送单元383。

用基板输入装置305进行基板输入，之后通过机器人373进行的传送、用基板输出装置306进行的基板输出、并且向机器人373的传送与在图2的实施方案中一样地进行。但是，这里只设有转动模块390和传送模块，这仅仅有利于将基板运载工具从真空腔室的部分304传送给部分303。在基板输入装置305中进行基板安放，同时在基板输出装置306中进行基板去除。

术语列表

1，100，200，300    涂布机

2，102，202，302    真空双腔室

3，4；103，104；203，204；303，304     真空双腔室的各部分

5，105，305         基板输入装置

6，106，306         基板输出装置

7，107              基板装载站

8，14，108，114，125，127，129，138，271  掩模安放站

9，109，209，309  用于孔注入层、孔输送层、电子阻挡层的涂布区域

10，109，110，111，121，122，123，210，321，322，323    用于发光材料的涂布区域

11，111，211，311     用于孔阻挡层、电子注入层、电子输送层的涂布区域

12，16，112，116，130，131，132，133，212，312    用于掩模的清洁站

13，17，113，117，124，126，128，134    掩模去除站

15，215a，215b        用于电极的涂布区域

18                    基板卸载站

20，120，220          锁存和隔离装置

40，266，267          基板运载工具

50，51，52            掩模

70                    运载工具板

80                    轴线

119                   等离子激活

140                   第一环形回路

150                   第二环形回路

260，360              旋转模块

261，361              掩模更换区域

262，362              旋转区域

26                    旋转工作台

264，265；364，365    掩模更换系统

270                   基板输入装置

271                   基板清洁站

272，273              机器人

27                    传送模块

275                   转动模块

278，279              输送步骤

280                   存储单元

281，282；381，382    基板运载工具自动输送装置

283，383              基板运载工具传送模块

290                   基板输出装置

390                   转动模块。

Claims (27)

1.用于尤其是连续生产设有有机电致发光材料(OLED)的基板、特别是OLED显示器、屏幕、面板或其它发光元件的装置，它具有一真空空间和一输送装置，该输送装置用于输送待涂布的基板并且至少部分沿着该真空空间布置，而且具有用于基板的运载工具，其特征在于，

所述输送装置包括至少一个用于输送运载工具(40)的环形回路(140)，并且该真空空间被分成至少两个部分，即第一部分(3，103)和第二部分(4，104)，在第一部分(3，103)中设有输送装置的用于沿着第一方向(基板输送方向)输送运载工具(40)的第一部分，在第二部分(4，104)中设有输送装置的用于沿着第二方向(运载工具返回输送方向)输送运载工具的第二部分。

2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述真空空间由多个彼此相邻布置的腔室(2，102)构成，这些腔室彼此分开并且允许在真空中不间断地输送基板和/或运载工具(40)和/或掩模(50，51，52)，并且/或者沿着环形回路另外设有锁存腔室和/或装置(20，120)。

3.如前面权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，通过至少部分地一个接着另一个之后布置的真空双腔室(2，102)来将该真空空间划分成两个。

4.如前面权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，在该真空空间中设有一第二环形回路、优选为数个第二环形回路(150)，其用于输送掩模(50，51，52)，优选每一回路各自用于沉积有机电致发光材料、尤其是红色(121)、绿色(122)和蓝色(123)有机电致发光元件的区域(10，110)，并且第二环形回路(150)的输送布置的第一部分设在该真空空间的第一部分(3，103)中，并且第二环形回路(150)的输送布置的第二部分设在该真空空间的第二部分(4，104)中。

5.如前面权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，至少一个、优选为数个基板装载站(7，107)和卸载站(18，118)被设置用于布置或卸载来自运载工具和/或掩模安放站和/或掩模去除站和/或掩模对准站(8，13，14，17；108，113，114，117，124，125，126，127，128，129，134，135)的基板。

6.如前面权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，尤其在基板装载站(7，107)和卸载站(18，118)和/或掩模安放和去除站(8，13，14，17；108，113，114，117，124，125，126，127，128，129，134，135)中设置传送装置，用于将来自所述真空空间的第一部分(3，103)的运载工具(40)和/或掩模(50，51，52)转换到第二部分(4，104)，或者反之，将来自所述真空空间的第二部分(4，104)的运载工具(40)和/或掩模(50，51，52)转换到第一部分(3，103)。

7.如前面权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，沿着所述第一环形回路(140)设有：一个或多个涂布站(9，10，11，15；109，110，111，115)，它们包括真空涂布过程，尤其是化学气相沉积(CVD)、物理气相沉积(PVD)，尤其是溅射过程、等离子辅助涂布过程，具有或没有载体气体的蒸涂过程；用于基板、用于运载工具和/或掩模的清洁站(12，16；112，116，130至133)；和/或其他基板处理站，尤其是基板激活站(119)，尤其是等离子激活站和/或用于UV、臭氧、离子轰击或火花放电处理的站，并且尤其针对孔注入层(HIL)、孔输送层(HTL)和电子阻挡层(EBL)的等离子激活和沉积而言设有：第二环形回路，用于输送适用于该涂布过程的掩模和/或用于沉积相同的电致发光材料、特别用于沉积每一红色、蓝色或绿色发光材料；另一个第二环形回路，用于输送适用于这种/这些涂布过程的掩模和/或用于沉积电子注入层(EIL)、电子输送层(ETL)和电子阻挡层(EBL)；相同或另一个第二环形回路，用于输送适用于该涂布过程的掩模和/或用于尤其通过真空涂布过程、尤其是化学气相沉积(CVD)、物理气相沉积(PVD)，尤其是溅射技术、等离子辅助涂布过程、具有或没有载体气体的蒸涂过程来沉积电极；另一个第二环形回路，用于输送适用于该涂布过程的掩模。

8.如权利要求7所述的装置，其特征在于，所述涂布和基板处理站(9，10，11，15；109，110，111，115，119)在所述真空空间的第一部分(3，103)处或之中沿着该输送装置的第一部分布置，并且或者用于掩模和/或运载工具的清洁站(12，16；112，116，130至133)在所述真空空间的第一和/或第二部分(4，104)处或之中、尤其在外壁处沿着输送装置的第一和/或第二部分布置。

9.如前面权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，设有一旋转模块(260)，其中尤其结合有来自相邻涂布区域的掩模安放和去除站，并且设有旋转区域(262)和掩模转换区域(261)，并且在该旋转区域中设有一旋转机构(263)，所述旋转机构能够在所述输送部分(203，204)和/或掩模转换区域之间切换。

10.如前面权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，设有至少一个、优选数个尤其与传送装置、基板装载和卸载站、掩模安放和/或去除站和/或旋转模块(260)相连的掩模和/或基板运载工具自动输送装置。

11.如权利要求9所述的装置，其特征在于，所述掩模转换区域(261)具有两个掩模转换位置，其中在第一掩模转换位置(264)中通过精确的掩模对准来进行掩模定位，以便将掩模安放在待涂布的基板上，同时，在另一个掩模转换位置(265)中，只是进行简单的掩模安放，以便返回输送在运载工具上的掩模。

12.如权利要求9至11中任一项所述的装置，其特征在于，在所述旋转模块之后设有基板运载工具自动输送装置，并且至少为一个、优选为两个相对的基板运载工具自动输送装置，而且设有至少一个基板运载工具转换单元，用于相对于基板运载工具自动输送装置和/或相邻机器组成部件取得和转送基板运载工具。

13.如权利要求9至12中任一项所述的装置，其特征在于，在所述旋转模块(260)之后、尤其在旋转模块的掩模转换区域之后、和/或在旋转模块(260)的旋转区域(262)(261)之后设有一个或多个掩模和/或基板清洁站。

14.如前面权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，该装置设有至少一个输送支路，其中输送方向和/或输送布置具有两个平行的部分，所述输送方向为至少间歇性的单方向。

15.如权利要求14所述的装置，其特征在于，所述输送支路在基板装载装置和/或基板卸载装置的区域中设有平行输送部分的至少间歇性的单向输送。

16.如前面权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，所述环形回路(140，150)和/或输送装置包括单个的连续运输装置和/或多个操纵和传送装置。

17.如前面权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，所述第一环形回路(140)和第二环形回路(150)至少部分地使用相同的运输和操纵装置。

18.如前面权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，在位于输送装置的第一部分开始处的第一环形回路(140)处设有一基板输入装置(5，105)，并且优选在输送装置的第一部分的结束处设有一基板输出装置(6，106)。

19.如前面权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，所述装置形成为一连续操作、尤其是线性(串联式)机器。

20.用于尤其利用根据前面权利要求任一项所述的装置来连续生产设有有机电致发光材料(OLED)的基板、特别是OLED显示器、屏幕、面板或其它发光元件的方法，该方法包括以下步骤：

a)在基板装载站(7，107)中将基板布置在运载工具(40)上，以便输送穿过真空涂布机；

b)在掩模安放站(8，14；108，114，125，127，129，135)中将掩模安放在基板或相对于基板的运载工具上，以便沉积结构化涂层；

c)进行尤其是电致发光材料的结构化涂布；

d)在掩模去除站(13，17；113，124，126，128，134，117)中去除掩模，并且沿着相反、尤其是反向平行基板输送方向立即将掩模返回输送给掩模安放站(8，14；108，114，125，127，129，135)；

e)在返回输送期间清洁掩模；

f)将清洁后的掩模设置在掩模安放站(8，14；108，114，125，127，129，135)中；

g)进一步输送带有涂布后的基板的运载工具(40)，以便从真空涂布机中卸载或者执行进一步涂布。

21.如权利要求20所述的方法，其特征在于，掩模的返回输送在真空中进行。

22.如权利要求20或21所述的方法，其特征在于，步骤b)至g)连续出现数次。

23.如权利要求20至22中任一项所述的方法，其特征在于，所述运载工具在基板卸载之后尤其至少部分地沿着与初始输送方向相反、优选与初始方向反向平行方向立即往回朝着基板装载站输送，并且尤其至少一些输送在具有掩模的情况下进行。

24.如权利要求20至23中任一项所述的方法，其特征在于，在掩模安放站和/或掩模去除站中，将掩模从基板输送方向向返回输送方向传送，或者反之，将掩模从返回输送方向向基板输送方向传送。

25.如权利要求20至24中任一项所述的方法，其特征在于，沿着输送路径将运载工具和/或掩模暂时存储在自动输送装置中。

26.如权利要求20至25中任一项所述的方法，其特征在于，在返回输送期间掩模和/或基板运载工具的清洁在保持返回运输方向的情况下或在具有简短输送中断的情况的横向安装清洁站中进行。

27.如权利要求20至26中任一项所述的方法，其特征在于，在所述环形回路和/或输送支路和/或部分中的输送速度是不同的。

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