CN1773326A - 分光器及光拾取装置 - Google Patents
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Abstract
一种分光器,其特征在于,备有:来自于光源的光入射的光源光入射侧棱镜和、经信息媒体反射的光入射的反射光入射侧棱镜;在前述光源光入射侧棱镜和前述反射光入射侧棱镜之间,备有由多个从反射光入射侧起,依次为低折射率层、中折射率层、高折射率层叠层起来的特定叠层部组成的多层膜。
Description
技术领域
本发明涉及分光器及具有它的光拾取装置。
背景技术
近年,用于光磁盘装置的光拾取装置,高性能化和小型化不断进展。作为小型化的一种手段,有将来自激光光源入射到分光器的光束视为有限光,透过分光器后经校准透镜,视为无限光入射到物镜的方法。另外,也有省略校准透镜,就将光束视为有限光入射到物镜的方法。这种有限光入射到分光器的情况,有必要减小反射率、透过率及反射相位差对入射角的依存性,在专利文献1中介绍了这种方法。
(专利文献1)特开平7-5324号公报
但是,专利文献1中,反射光的S偏振光和P偏振光的反射相位差不成0°、90°、180°、270°。分光器的反射相位差是以0°、180°或90°、270°为理想,当分光器具有上述以外的反射相位差时,有必要采取例如,使用与通常的1/2波片、1/4波片不同的经过特别调整过的波片或、改变信号检出部分的构造等方法。而采取这种方法的场合,会产生调整的难度上升、零部件数目增加导致成本增加等问题。这样,以往若不使用特别结构,则不能减小反射率、透过率及反射相位差的入射角依存性,在通常的结构中存在不能减小反射率、透过率及反射相位差的入射角依存性之问题。
另外,一般地说,因为激光光源对温度有依存性,光束的波长随温度变化,所以,要求分光器对波长的依存性要小,而专利文献1中没有有关这方面的记载,也没有公开考虑反射率、透过率及反射相位差的波长依存性的具有充分必要范围的结构。
如上所述,对分光器来说,有要求反射率、透过率及反射相位差的波长依存性并同反射率、透过率及反射相位差的入射角依存性双方都要小的要求,而满足这些条件的分光器及具有它的光拾取装置,以往没有被提案过。
发明内容
在此,作为本发明的课题,以提供一种设置在光磁盘装置等的光拾取装置中的、分光器的反射率、透过率及反射相位差的波长依存性并同反射率、透过率及反射相位差的入射角依存性能减小的分光器及具有它的光拾取装置为目的。
方案1记载的发明是,一种分光器,其特征在于,
具有:来自于光源的光入射的光源光入射侧棱镜和、
经信息记录媒体反射的光入射的反射光入射侧棱镜;
在前述光源光入射侧棱镜和前述反射光入射侧棱镜之间,
具有由多个从反射光入射侧起,依次为低折射率层、中折射率层、高折射率层叠层起来的特定叠层部组成的多层膜。
根据方案1记载的发明,因为分光器具有来自于光源的光入射的光源光入射侧棱镜和、经信息记录媒体反射的光入射的反射光入射侧棱镜;在光源光入射侧棱镜和反射光入射侧棱镜之间,具有由多个从反射光入射侧起,依次为低折射率层、中折射率层、高折射率层叠层起来的特定叠层部组成的多层膜;所以,能减小分光器的反射率、透过率及反射相位差的波长依存性并同反射率、透过率及反射相位差的入射角依存性。
这里,多个特定叠层部的各特定叠层部相互之间的厚度及各特定叠层部中的同样折射率层相互之间的厚度没有相同的必要,根据所需的规格,厚度可以适宜地不同。另外,各特定叠层部内的各层的厚度也没有一样的必要,根据所需的规格,厚度可以适宜地不同。并且,多个特定叠层部没有必要一定是连续设置的,但优选连续设置。
方案2记载的发明是,方案1记载的分光器,其特征在于,
经信息记录媒体反射的光入射,并在所定方向被输出的反射光的S偏振光的反射率Rs≥90%;
来自于光源的光入射,并在所定方向被输出的反射光的P偏振光的反射率Rp及经信息记录媒体反射的光入射,并在所定方向被输出的反射光的P偏振光的反射率R′p分别为10%≤Rp≤40%、10%≤R′p≤40%。
根据方案2记载的发明,因为经信息记录媒体反射的光入射,并在所定方向被输出的反射光的S偏振光的反射率Rs≥90%;来自于光源的光入射,并在所定方向被输出的反射光的P偏振光的反射率Rp及经信息记录媒体反射的光入射,并在所定方向被输出的反射光的P偏振光的反射率R′p分别为10%≤Rp≤40%、10%≤R′p≤40%;所以,能使适度光量的P偏振光反射,能使较大光量的S偏振光反射。
这里,“所定方向”是指,为了检出反射光,在进行检出时必需的反射光的输出方向。
方案3记载的发明是,方案1或2记载的分光器,其特征在于,
前述低折射率层使用以MgF2或SiO2为主要成分的材料,
前述中折射率层使用以Al2O3、Y2O3、SiO、Si2O3中的任何一种为主要成分的材料,
前述高折射率层使用以TiO2、Ta2O5、ZrO2、Nb2O3、CeO2、CeF3、HfO2、ZrTiO4中的任何一种为主要成分的材料。
根据方案3记载的发明,因为低折射率层使用以MgF2或SiO2为主要成分的材料,中折射率层使用以Al2O3、Y2O3、SiO、Si2O3中的任何一种为主要成分的材料,高折射率层使用以TiO2、Ta2O5、ZrO2、Nb2O3、CeO2、CeF3、HfO2、ZrTiO4中的任何一种为主要成分的材料,所以,能具体地构成减小分光器的反射率、透过率及反射相位差的波长依存性并同反射率、透过率及反射相位差的入射角依存性的结构。
这里,使用材料中的“主要成分”是指占该材料的50%质量以上的成分。另外,作为被使用的各种材料,优选材料中的主要成分为90%质量以上,并且,更优选材料中的主要成分为100%,即单独由主要成分构成的材料。
方案4记载的发明是,方案3记载的分光器,其特征在于,
前述低折射率层使用以MgF2为主要成分的材料,
前述中折射率层使用以Al2O3为主要成分的材料,
前述高折射率层使用以TiO2为主要成分的材料。
根据方案4记载的发明,因为低折射率层使用以MgF2为主要成分的材料,中折射率层使用以Al2O3为主要成分的材料,高折射率层使用以TiO2为主要成分的材料,所以,能加大低折射率层和高折射率层的折射率的差。具体地在低折射率层和高折射率层分别由MgF2和TiO2构成时,能使折射率差大到0.88,因此,有利于减少构成多层膜的层数。
方案5记载的发明是,方案3记载的分光器,其特征在于,
前述低折射率层使用以MgF2为主要成分的材料,
前述中折射率层使用以Al2O3为主要成分的材料,
前述高折射率层使用以Ta2O5为主要成分的材料。
根据方案5记载的发明,因为低折射率层使用以MgF2为主要成分的材料,中折射率层使用以Al2O3为主要成分的材料,高折射率层使用以Ta2O5为主要成分的材料,所以,通过将具有拉伸应力的以MgF2和Al2O3为主要成分的各层和具有压缩应力的以Ta2O5为主要成分的层叠层起来,能缓和膜整体的应力,能形成不易发生膜剥离和裂纹等现象,耐环境性良好的多膜层。
方案6记载的发明是,方案3记载的分光器,其特征在于,
前述低折射率层使用以SiO2为主要成分的材料,
前述中折射率层使用以Al2O3为主要成分的材料,
前述高折射率层使用以TiO2为主要成分的材料。
根据方案6记载的发明,因为低折射率层使用以SiO2为主要成分的材料,中折射率层使用以Al2O3为主要成分的材料,高折射率层使用以TiO2为主要成分的材料,所以,通过将具有压缩应力的以SiO2为主要成分的层和具有拉伸应力的以Al2O3和TiO2为主要成分的各层叠层起来,能缓和膜整体的应力,能形成不易发生膜剥离和裂纹等现象,耐环境性良好的多膜层。
方案7记载的发明是,方案1~6的任何一方案记载的分光器,其特征在于,
前述光源光入射侧棱镜,前述多膜层及前述反射光入射侧棱镜之间粘合时使用的粘接剂和前述反射光入射侧棱镜之间的折射率的差在0.1以下。
根据方案7记载的发明,因为光源光入射侧棱镜、多膜层及反射光入射侧棱镜之间粘合时使用的粘接剂和反射光入射侧棱镜之间的折射率的差在0.1以下,所以,2个棱镜在用粘接剂粘接时,即便因为粘接层的厚度不均匀引起产生一定的粘接层光楔角的话,波面像差的劣化也不会太大,能提高分光器的产品合格率。
方案8记载的发明是,方案1~7的任何一方案记载的分光器,其特征在于,
S偏振光和P偏振光的反射相位差Δ为-10°≤Δ≤10°或为170°≤Δ≤190°。
根据方案8记载的发明,因为S偏振光和P偏振光的反射相位差Δ为-10°≤Δ≤10°或为170°≤Δ≤190°,所以,能正确地检出光磁盘记录媒体上的克尔旋转角,能得到良好的记录再生特性。
方案9记载的发明是,方案1~7的任何一方案记载的分光器中,其特征在于,
S偏振光和P偏振光的反射相位差Δ为80°≤Δ≤100°或为260°≤Δ≤280°。
根据方案9记载的发明,因为S偏振光和P偏振光的反射相位差Δ为80°≤Δ≤100°或为260°≤Δ≤280°,所以,能正确地检出光磁盘记录媒体上的克尔旋转角,能得到良好的记录再生特性。
方案10记载的发明是,一种光拾取装置,其特征在于,
具有方案1~9的任何一方案记载的分光器。
根据方案10记载的发明,因为光拾取装置具有方案1~9的任何一方案记载的分光器,所以,能得到良好的记录再生特性。
方案11记载的发明是,光拾取装置,其特征在于,
具有方案8记载的分光器和1/2波片。
根据方案11记载的发明,因为光拾取装置中具有方案8记载的分光器和1/2波片,所以,能得到良好的记录再生特性,同时,能控制成本。
方案12记载的发明是,光拾取装置,其特征在于,
具有方案9记载的分光器和1/4波片。
根据方案12记载的发明,因为光拾取装置中具有方案9记载的分光器和1/4波片,所以,能得到良好的记录再生特性,同时,能控制成本。
方案13记载的发明是,方案10~12的任何一方案记载的光拾取装置,其特征在于,
使来自于光源的发散光入射到前述分光器上。
根据方案13记载的发明,因为使来自于光源的发散光入射到前述分光器上,所以,能得到良好的记录再生特性,同时,能对光拾取装置进行小型化改善。
根据本发明,能将具有光拾取装置的机器,在具有良好性能的前提下进行小型化。
附图说明
图1作为施用了本发明的一实施形态例示的光拾取装置的概略示意图。
图2作为施用了本发明的一实施形态例示的分光器的概略示意图。
图3作为施用了本发明的另一实施形态例示的光拾取装置的概略示意图。
图4是第1实施形态的分光器上光线成45°入射角入射时的波长和反射率的关系曲线。
图5是第1实施形态的分光器上光线成45°入射角入射时的波长和反射相位差的关系曲线。
图6是第1实施形态的分光器上波长685nm的光线入射时的入射角和反射率的关系曲线。
图7是第1实施形态的分光器上波长685nm的光线入射时的入射角和反射相位差的关系曲线。
图8是第2实施形态的分光器上光线成45°入射角入射时的波长和反射率的关系曲线。
图9是第2实施形态的分光器上光线成45°入射角入射时的波长和反射相位差的关系曲线。
图10是第2实施形态的分光器上波长685nm的光线入射时的入射角和反射率的关系曲线。
图11是第2实施形态的分光器上波长685nm的光线入射时的入射角和反射相位差的关系曲线。
图12是第3实施形态的分光器上光线成45°入射角入射时的波长和反射率的关系曲线。
图13是第3实施形态的分光器上光线成45°入射角入射时的波长和反射相位差的关系曲线。
图14是第3实施形态的分光器上波长685nm的光线入射时的入射角和反射率的关系曲线。
图15是第3实施形态的分光器上波长685nm的光线入射时的入射角和反射相位差的关系曲线。
图16是第5实施形态的分光器上光线成45°入射角入射时的波长和反射率的关系曲线。
图17是第5实施形态的分光器上光线成45°入射角入射时的波长和反射相位差的关系曲线。
图18是第5实施形态的分光器上波长685nm的光线入射时的入射角和反射率的关系曲线。
图19是第5实施形态的分光器上波长685nm的光线入射时的入射角和反射相位差的关系曲线。
具体实施方式
以下,参照附图,对本发明的具体状态作说明。但是,本发明不限于图示例。
(第1实施方案)
图1是施用了本发明的第1实施形态中的光拾取装置100的概略示意图。
光拾取装置100是使激光光束照射到例如光磁盘上,给与光磁盘上居里点以上的能量,通过给与光磁盘的垂直方向上与外部磁场的磁性方向相应的磁性,在光磁盘上记录信息;另一方面,利用对应于光磁盘107的磁性方向、激光光束的偏振面因克尔效果产生微小的旋转,检出来自于光磁盘的反射光的P偏振光成分、S偏振光成分,来进行信息再生的装置。
本实施方案中的光拾取装置100具有:作为光源的激光二极管101、衍射板102、由光源光入射侧棱镜11及发射光入射侧棱镜12等构成的分光器10(后述详细构成)、准直透镜104、激光反射镜105、物镜106、作为信息记录媒体的光磁盘107、光检测器108、3光束渥拉斯顿棱镜109、柱面镜110、光检测器111等。
以下,对光磁盘107上记录的信息进行再生的情况作说明。
激光二极管101发射出的线偏振光的电场振动面被设定为和分光器10的光源光入射侧棱镜11的入射面平行。激光二极管101发射出的线偏振光通过衍射板102后,经分光器10其一部分的反射光入射到功率监控器用的光检测器108上,剩余的透过光经校准透镜104、激光反射镜105、物镜106后被聚光于光磁盘107。
被光磁盘107反射的光接受由磁化方向而产生的克尔旋转,振动面有微小的旋转,再次经物镜106、激光反射镜105、准直透镜104后入射到分光器10上。相对于来自激光二极管101的入射光为P偏振光来说,来自光磁盘的返回光(反射光)因为受到克尔旋转,被分成P偏振光成分和S偏振光成分,经分光器10后分别有一定光量被反射,通过3光束渥拉斯顿棱镜109、柱面镜110后,入射到光检测器111上。而且,图中没有表示出来,光束经衍射板102、3光束渥拉斯顿棱镜109被分割成多个,在光检测器111(OEIC、Optical Electronic(IC光电IC))检出追踪随动系统信号;P偏振光成分、S偏振光成分的差分信号。
接下去,对第1实施形态中的分光器作说明。
图2是第1实施形态中的分光器10的概略示意图。
分光器10包括:配置在从激光二极管101等的光源发射出的光入射侧的,为直角棱镜的光源光入射侧棱镜11;配置在从前述光源光入射侧棱镜11入射,透过分光器10的光源光被MO等光磁盘107反射的反射光入射侧的,为直角棱镜的反射光入射侧棱镜12;在这2个直角棱镜之间反射光入射侧棱镜12的斜面上形成的多层膜13;由把形成了多层膜13的反射光入射侧棱镜12和光源光入射侧棱镜11进行粘接的UV固化粘接剂14a组成的粘接层14。
本实施形态中的光源光入射侧棱镜11及反射光入射侧棱镜12都由同一玻璃材料(株式会社オハラ公司制造、产品名:S-TIM22、n=1.64)构成。另外,UV固化粘接剂14a的折射率为n=1.60。
这里,用UV固化粘接剂14a粘合前述2个棱镜11、12时,若粘接层14的厚度不均一,则会产生粘接层光楔角。此时,如果再加上玻璃材料和粘接剂的折射率相差很大,则波面像差将会恶化。例如,如果对应玻璃材料的折射率n=1.64,粘接剂的折射率为n=1.51,发生0.2°的粘接层光楔角,则波面像差将恶化0.08rmsλ。而玻璃材料和粘接剂的折射率完全没有差的话,即便产生粘接层光楔角,波面像差也不会恶化,所以,尽量使玻璃材料和粘接剂的折射率的差小一点为好。这里,通过使玻璃材料和粘接剂的折射率的差小于或等于0.1,即便发生通常的粘接工程中产生的那种程度的粘接层光楔角,波面像差的恶化也不会很大,能提高分光器的产品合格率。
接下去,对第1实施形态中的分光器10的多层膜13作说明。本实施形态中的多层膜13如前所述,是在反射光入射侧棱镜12的斜面上设置的镀膜,形成了如表1所示的结构。
(表1)
No. | 折射率 | 膜厚(nm) | |
光源光入射侧棱镜(S-TIM22) | 1.64 | ||
UV固化粘接剂 | 1.6 | ||
15 | TiO2 | 2.26 | 50.31 |
14 | MgF2 | 1.38 | 85.72 |
13 | TiO2 | 2.26 | 49.53 |
12 | MgF2 | 1.38 | 240.47 |
11 | TiO2 | 2.26 | 50.26 |
10 | Al2O3 | 1.61 | 144.16 |
9 | MgF2 | 1.38 | 149.64 |
8 | TiO2 | 2.26 | 38.09 |
7 | Al2O3 | 1.61 | 150.21 |
6 | MgF2 | 1.38 | 59.74 |
5 | TiO2 | 2.26 | 65.77 |
4 | Al2O3 | 1.61 | 156.66 |
3 | MgF2 | 1.38 | 58.78 |
2 | TiO2 | 2.26 | 41.42 |
1 | MgF2 | 1.38 | 54.79 |
反射光入射侧棱镜(S-TIM22) | 1.64 |
本实施形态的多层膜13被形成为:因为是利用本实施方案的激光二极管101的波长685nm、发射的有限光(发散光)的发散角度±9°,所以,在射向棱镜的入射波长685±25nm、入射角度0±9°中,来自于激光二极管101的光在所定方向(光检测器108的方向)被输出的反射光的P偏振光的反射率Rp为15%≤Rp≤25%,经光磁盘107反射的光在所定方向(光检测器111的方向)被输出的反射光的P偏振光的反射率R’p为15%≤R’p≤25%,经光磁盘107反射的光在所定方向(光检测器111的方向)被输出的反射光的S偏振光的反射率Rs为Rs≥90%。另外,被形成为使P偏振光和S偏振光的反射相位差Δ为170°≤Δ≤190°。
另外,如本实施形态的粘合棱镜型偏振分光器的情况,利用布儒斯特角θB上P偏振光的反射率为0%。设高折射率层的折射率为nH、低折射率层的折射率为nL、棱镜材料的折射率为ng、对棱镜面(多层膜面)的入射角为θg,当入射角θg满足下式1的关系时,P偏振光的反射率为0%,根据层数和折射率,S偏振光可能达到100%。
Sin2(θg)=(nH2×nL2)/{ng2×(nH2+nL2)}………………………式1
本实施形态中,因为从激光二极管101发射出的光束作为功率监控器检出用和来自于光磁盘107的反射光的P偏振光和S偏振光的差分检出用,都必须要有P偏振光的反射,所以P偏振光的反射率为0%则没有功能。另外,对光磁盘107进行记录再生时所必需用的光量比功率监控器检出用的光量大。因此,多层膜作成反射P偏振光的一部分(10%≤反射率Rp≤40%的范围,本实施形态中的为如前所述15%≤Rp≤25%)。另外,因为S偏振光的反射光对来自光磁盘107的反射光的P偏振光和S偏振光的差分检出用是必须的,所以,形成使S偏振光为高反射率(反射率Rs≥90%)。这时,也形成使来自于光磁盘的反射光的P偏振光的一部分也被反射(10%≤反射率R’p≤40%的范围,本实施形态中的为如前所述15%≤R’p≤25%)。
根据前述式1,因为
设nH=2.26、nL=1.61、ng=1.64时,θg=53.1°;
设nH=2.26、nL=1.38、ng=1.64时,θg=45.9°;
设nH=1.61、nL=1.38、ng=1.64时,θg=39.7°;所以,仅使用TiO2(n=2.26)和MgF2(n=1.38)时,θg=45.9°,对棱镜面的入射角θ=45°时不能提高P偏振光的反射率。在此,除TiO2和MgF2以外,如果组合Al2O3(n=1.61)的话,存在θg=39.7°和θg=53.1°,能提高P偏振光的反射率。而且,为了使θg≠45°,TiO2(n=2.26)和Al2O3(n=1.61)的2种的叠层结构、或Al2O3(n=1.61)和MgF2(n=1.38)的2种的叠层结构也是可以的,但是,为了提高S偏振光的反射率必须要有较大的折射率差,此时,前述2种的组合则不能得到需求的光学特性。另外,因为折射率差越大偏振光分离的带域能取得广一些,所以,能够减小波长依存性。因此,作为多层膜来说,必须要有低折射率层、中折射率层、高折射率层的3种层。
而且,低折射率层中还可以用折射率不同的2种材料,例如,使用MgF2和SiO2,用4种不同的层来构成,高折射率层中也可以用折射率不同的2种材料,例如,使用TiO2和Ta2O5,用4种不同的层来构成。这样,通过适当地选择4种以上不同的层,可以缓和应力和(或)减少散乱等,进一步提高膜的质量。
本发明中,低折射率层是指折射率nL在1.35≤nL<1.6范围的层,中折射率层是指折射率nM在1.6≤nM<2.0范围的层,高折射率层是指折射率nH在2.0≤nH<2.6范围的层。但折射率为波长546nm时的值。
另外,本实施形态的多层膜13是通过真空蒸发形成的,但不限于这种方法,也可以通过喷溅、CVD等其他的成膜方法来形成。本实施形态中,作为构成各层的材料,是使用MgF2作为构成低折射率层的低折射率材料、Al2O3作为构成中折射率层的中折射率材料、TiO2作为构成高折射率层的高折射率材料。此时,MgF2和TiO2的折射率差大到0.88,所以,有利于能减少构成多层膜13的层数。除此之外,也可以使用SiO2作为低折射率材料;Y2O3、SiO、Si2O3作为中折射率材料、Ta2O5、ZrO2、Nb2O3、CeO2、CeF3、HfO2、ZrTiO4等作为高折射率材料,可以根据折射率进行设计使能够得到需求的光学性能。
本实施形态中,多层膜13的形成方法及结构如下。
首先,在真空槽排气至1.0×10-3Pa后,在第1层利用氧气导入量5.0×10-3Pa、蒸发率2.5/sec形成MgF2。接下去,在第2层利用氧气导入量1.0×10-2Pa、蒸发率3/sec形成TiO2。第3层再次形成MgF2、在第4层利用氧气导入量5.0×10-3Pa、蒸发率4/sec形成Al2O3,第5层再次形成TiO2。往后,第6层至第11层按照MgF2、Al2O3、TiO2的顺序反复成膜,第12层用MgF2、第13层用TiO2、第14层用MgF2、第15层用TiO2成膜,由此形成多层膜13。
如上所述,本实施形态中,第3层至第5层是从反射光入射侧起,依次由折射率低的材料MgF2构成的低折射率层、折射率为中等程度的材料Al2O3构成的中折射率层、折射率高的材料TiO2构成的高折射率层叠层起来的特定叠层部,同样,第6层至第8层、第9层至第11层也分别为特定叠层部。这样,第3层至第11层是按MgF2、Al2O3、TiO2顺序反复成膜形成的多个特定叠层部,通过按低折射率材料、中折射率材料、高折射率材料的顺序反复成膜,形成能够减少反射率、透过率及反射相位差的波长依存性并同反射率、透过率及反射相位差的入射角依存性的多层膜13。
在此,以对膜面的入射角为45°,测定了S偏振光、P偏振光的反射率及反射相位差的波长依存性,得到如图4的曲线所示的S偏振光、P偏振光的反射率的波长依存性;如图5的曲线所示的S偏振光、P偏振光的反射相位差的波长依存性。
在测定反射率、反射相位差的波长依存性时,使用了分光椭圆偏振仪(J.A.Woollam公司制造、制品名:VASE)。
将作成的分光器10放在测定用台上,使来自于反射光入射侧棱镜12的为偏振光的任意波长的测定光对膜面成45°地入射,用检波器检出经分光器10反射的光的偏振状态的变化和强度。有关反射率的测定,也可以用分光光度仪(日立制作所、制品名:U-400)配合偏振子进行测定。
并且,以测定波长为685nm,测定了S偏振光、P偏振光的反射率及反射相位差的入射角依存性,S偏振光、P偏振光的反射率的入射角依存性的结果用图6的曲线;S偏振光、P偏振光的反射相位差的入射角依存性的结果用图7的曲线表示。
测定反射率、反射相位差的入射角依存性时,使用分光椭圆偏振仪(J.A.Woollam社制、制品名:VASE)。
将作成的分光器10放在测定用台上,使来自于反射光入射侧棱镜12的为偏振光的λ=685nm的测定光入射,用检波器检出经分光器10反射的光的偏振状态的变化和强度。此时,通过调整光源和检波器的角度,测定任意反射角的反射率、反射相位差。
以下记载的第2实施方案、第3实施方案及第5实施方案的反射率、反射相位差也进行同样的测定。另外,有关S偏振光、P偏振光的透过率的波长依存性的测定及S偏振光、P偏振光的透过率的入射角依存性的测定,因为是和S偏振光、P偏振光的反射率的波长依存性及S偏振光、P偏振光的反射率的入射角依存性为正反一体的,所以,在本实施方案及以下的实施方案中省略图示及说明。
如图4~图7的曲线所示,横轴的入射角是对棱镜接合面的入射角,这个角度为45°±5.5°时,对棱镜的垂直入射面的入射角为0°±9°。根据这些特性曲线,可以知道,这个分光器10是反射率、透过率及反射相位差的波长依存性并同反射率、透过率及反射相位差的入射角依存性小的分光器。
因此,如果这个分光器使用在图1的光拾取装置100中,则能得到良好的记录再生特性。
(第2实施形态)
接下去,对适用于本发明的第2实施形态作说明。
本实施形态中,因为分光器的多层膜以外的结构和前述第1实施方案的相同,所以,省略对相同结构的说明。
以下,对第2实施形态中的分光器的多层膜作说明。
本实施形态的多层膜13和第1实施形态的相同,是在反射光入射侧棱镜12的斜面上设置镀膜,形成了如表2所示的结构。
(表2)
No. | 折射率 | 膜厚(nm) | |
光源光入射侧棱镜(S-TIM22) | 1.64 | ||
UV固化粘接剂 | 1.6 | ||
20 | MgF2 | 1.38 | 116.58 |
19 | Ta2O5 | 2.04 | 173.97 |
18 | Al2O3 | 1.61 | 129.02 |
17 | MgF2 | 1.38 | 172.34 |
16 | Ta2O5 | 2.04 | 65.21 |
15 | Al2O3 | 1.61 | 109.35 |
14 | MgF2 | 1.38 | 133.96 |
13 | Ta2O5 | 2.04 | 65.98 |
12 | Al2O3 | 1.61 | 128.46 |
11 | MgF2 | 1.38 | 112.18 |
10 | Ta2O5 | 2.04 | 62.26 |
9 | Al2O3 | 1.61 | 143.59 |
8 | MgF2 | 1.38 | 72.6 |
7 | Ta2O5 | 2.04 | 69.89 |
6 | Al2O3 | 1.61 | 146.69 |
5 | Ta2O5 | 2.04 | 103.1 |
4 | Al2O3 | 1.61 | 144.91 |
3 | Ta2O5 | 2.04 | 47.12 |
2 | MgF2 | 1.38 | 58.24 |
1 | Ta2O5 | 2.04 | 26.12 |
反射光入射侧棱镜(S-TIM22) | 1.64 |
本实施形态的多层膜13被形成为,与第1实施形态相同,因为是利用激光二极管101的波长685nm、发射的有限光的发散角度±9°,所以,在射向棱镜的入射波长685±25nm、入射角度0±9°中,来自于激光二极管101的光在所定方向(光检测器108的方向)被输出的反射光的P偏振光的反射率Rp为15%≤Rp≤25%,经光磁盘107反射的光在所定方向(光检测器111的方向)被输出的反射光的P偏振光的反射率R’p为15%≤R’p≤25%,经光磁盘107反射的光在所定方向(光检测器111的方向)被输出的反射光的S偏振光的反射率Rs为Rs≥90%。另外,被形成为使P偏振光和S偏振光的反射相位差Δ为170°≤Δ≤190°。
另外,本实施形态的多层膜13和第1实施方案相同,是通过真空蒸发形成的。但不限于这种方法,也可以通过喷溅、CVD等其他的成膜方法来形成。本实施方案中,作为构成各层的材料,使用MgF2作为构成低折射率层的低折射率材料、Al2O3作为构成中折射率层的中折射率材料、Ta2O5作为构成高折射率层的高折射率材料。此时,通过具有拉伸应力的MgF2和Al2O3的各层与具有压缩应力的Ta2O5的层叠层,能缓和膜整体的应力,能制作出不易发生膜剥离和裂纹、耐环境性良好的多层膜。除此之外,也可以使用SiO2作为低折射率材料;Y2O3、SiO、Si2O3作为中折射率材料、TiO2、ZrO2、Nb2O3、CeO2、CeF3、HfO2、ZrTiO4等作为高折射率材料,可以根据折射率进行设计使能够得到需求的光学性能。
本实施形态的多层膜13的形成方法及结构如下。
首先,在真空槽排气至1.0×10-3Pa后,在第1层利用氧气导入量1.0×10-2Pa、蒸发率3/sec形成Ta2O5。接下去,在第2层利用氧气导入量5.0×10-3Pa、蒸发率2.5/sec形成MgF2。第3层再次形成Ta2O5、在第4层利用氧气导入量5.0×10-3Pa、蒸发率4/sec形成Al2O3,第5层用Ta2O5、第6层用Al2O3、第7层用Ta2O5形成。往后,第8层至第19层按照MgF2、Al2O3、Ta2O5的顺序反复成膜,第20层用MgF2成膜,由此形成多层膜13。
如上所述,本实施形态中,第8层至第10层是从反射光入射侧起,依次由折射率低的材料MgF2构成的低折射率层、折射率为中等程度的材料Al2O3构成的中折射率层、折射率高的材料Ta2O5构成的高折射率层叠层起来的特定叠层部,同样,第11层至第13层、第14层至第16层、第17层至第19层也分别为特定叠层部。这样,第8层至第19层是按MgF2、Al2O3、Ta2O5顺序反复成膜形成的多个特定叠层部,通过按低折射率材料、中折射率材料、高折射率材料的顺序反复成膜,形成能减少反射率、透过率及反射相位差的波长依存性并同反射率、透过率及反射相位差的入射角依存性的多层膜13。
在此,以对膜面的入射角为45°,测定了S偏振光、P偏振光的反射率及反射相位差的波长依存性,得到如图8的曲线所示的S偏振光、P偏振光的反射率的波长依存性;如图9的曲线所示的S偏振光、P偏振光的反射相位差的波长依存性。
并且,以测定波长为685nm,测定了S偏振光、P偏振光的反射率及反射相位差的入射角依存性,S偏振光、P偏振光的反射率的入射角依存性的结果用图10的曲线;S偏振光、P偏振光的反射相位差的入射角依存性的结果用图11的曲线表示。
如图8~图11的曲线所示,横轴的入射角是对棱镜接合面的入射角,这个角度为45°±5.5°时,对棱镜的垂直入射面的入射角为0°±9°。根据这些特性曲线,可以知道,这个分光器10是反射率、透过率及反射相位差的波长依存性并同反射率、透过率及反射相位差的入射角依存性小的分光器。
因此,如果这个分光器使用在图1的光拾取装置100中,则能得到良好的记录再生特性。
(第3实施形态)
接下去,对适用于本发明的第3实施形态作说明。
本实施形态中,因为分光器的多层膜以外的结构和前述第1实施形态的相同,所以,省略对相同结构的说明。
以下,对第3实施形态中的分光器的多层膜作说明。
本实施形态的多层膜13和第1实施形态的相同,是在反射光入射侧棱镜12的斜面上设置镀膜,形成了如表3所示的结构。
(表3)
No. | 折射率 | 膜厚(nm) | |
光源光入射侧棱镜(S-TIM22) | 1.64 | ||
UV固化粘接剂 | 1.6 | ||
22 | SiO2 | 1.45 | 187.57 |
21 | TiO2 | 2.26 | 23.68 |
20 | SiO2 | 1.45 | 94.15 |
19 | Al2O3 | 1.61 | 116.03 |
18 | TiO2 | 2.26 | 26.84 |
17 | SiO2 | 1.45 | 156.3 |
16 | TiO2 | 2.26 | 44.87 |
15 | Al2O3 | 1.61 | 120.77 |
14 | SiO2 | 1.45 | 112.41 |
13 | TiO2 | 2.26 | 51.25 |
12 | Al2O3 | 1.61 | 144.21 |
11 | SiO2 | 1.45 | 60.74 |
10 | TiO2 | 2.26 | 70.94 |
9 | Al2O3 | 1.61 | 137.86 |
8 | SiO2 | 1.45 | 49.38 |
7 | TiO2 | 2.26 | 79.86 |
6 | Al2O3 | 1.61 | 156.61 |
5 | SiO2 | 1.45 | 221.15 |
4 | Al2O3 | 1.61 | 166.72 |
3 | TiO2 | 2.26 | 58.61 |
2 | SiO2 | 1.45 | 43.24 |
1 | TiO2 | 2.26 | 24.56 |
反射光入射侧棱镜(S-TIM22) | 1.64 |
本实施形态的多层膜13被形成为,与第1实施形态相同,因为是利用激光二极管101的波长685nm、发射的有限光(发散光)的发散角度±9°,所以,在射向棱镜的入射波长685±25nm、入射角度0±9°中,来自于激光二极管101的光在所定方向(光检测器108的方向)被输出的反射光的P偏振光的反射率Rp为15%≤Rp≤25%,经光磁盘107反射的光在所定方向(光检测器111的方向)被输出的反射光的P偏振光的反射率R’p为15%≤R’p≤25%,经光磁盘107反射的光在所定方向(光检测器111的方向)被输出的反射光的S偏振光的反射率Rs为Rs≥90%。另外,被形成为使P偏振光和S偏振光的反射相位差Δ为170°≤Δ≤190°。
另外,本实施形态的多层膜13与第1实施形态相同,是通过真空蒸发形成的。但不限于这种方法,也可以通过喷溅、CVD等其他的成膜方法来形成。本实施方案中,作为构成各层的材料,使用SiO2作为构成低折射率层的低折射率材料、Al2O3作为构成中折射率层的中折射率材料、TiO2作为构成高折射率层的高折射率材料。此时,通过具有压缩应力的SiO2的层和具有拉伸应力的Al2O3和TiO2的各层叠层,能缓和膜整体的应力,能制作出不易发生膜剥离和裂缝、耐环境性良好的多层膜。除此之外,也可以使用MgF2作为低折射率材料;Y2O3、SiO、Si2O3作为中折射率材料、Ta2O5、ZrO2、Nb2O3、CeO2、CeF3、HfO2、ZrTiO4等作为高折射率材料,可以根据折射率进行设计使能够得到需求的光学性能。
本实施形态的多层膜13的形成方法及结构如下。
首先,在真空槽排气至1.0×10-3Pa后,在第1层利用氧气导入量5.0×10-3Pa、蒸发率3/sec形成TiO2。接下去,在第2层利用氧气导入量1.0×10-2Pa、蒸发率8/sec形成SiO2。第3层再次形成TiO2,在第4层利用氧气导入量5.0×10-3Pa、蒸发率4/sec形成Al2O3。往后,第5层至第16层按照SiO2、Al2O3、TiO2的顺序反复成膜,第17层用SiO2成膜,第18层用TiO2成膜,第19层用Al2O3成膜,第20层用SiO2成膜,第21层用TiO2成膜,第22层用SiO2成膜,由此形成多层膜13。
如上所述,本实施形态中,第5层至第7层是从反射光入射侧起,依次由折射率低的材料SiO2构成的低折射率层、折射率为中等程度的材料Al2O3构成的中折射率层、折射率高的材料TiO2构成的高折射率层叠层起来的特定叠层部,同样,第8层至第10层、第11层至第13层、第14层至第16层也分别为特定叠层部。这样,第5层至第16层是按SiO2、Al2O3、TiO2顺序反复成膜形成的多个特定叠层部,通过按低折射率材料、中折射率材料、高折射率材料的顺序反复成膜,形成能减少反射率、透过率及反射相位差的波长依存性并同反射率、透过率及反射相位差的入射角依存性的多层膜13。
在此,以对膜面的入射角为45°,测定了S偏振光、P偏振光的反射率及反射相位差的波长依存性,得到如图12的曲线所示的S偏振光、P偏振光的反射率的波长依存性;如图13的曲线所示的S偏振光、P偏振光的反射相位差的波长依存性。
并且,以测定波长为685nm,测定了S偏振光、P偏振光的反射率及反射相位差的入射角依存性,S偏振光、P偏振光的反射率的入射角依存性的结果用图14的曲线;S偏振光、P偏振光的反射相位差的入射角依存性的结果用图15的曲线表示。
如图12~图15的曲线所示,横轴的入射角是对棱镜接合面的入射角,这个角度为45°±5.5°时,对棱镜的垂直入射面的入射角为0°±9°。根据这些特性曲线,可以知道,这个分光器10是反射率、透过率及反射相位差的波长依存性并同反射率、透过率及反射相位差的入射角依存性小的分光器。
因此,如果这个分光器使用在图1的光拾取装置100中,则能得到良好的记录再生特性。
(第4实施方案)
接下去,对施用了本发明的第4实施形态作说明。
图3是施用了本发明的第4实施形态中的光拾取装置200的概略示意图。
本实施形态的光拾取装置200具有:作为光源的激光二极管201;衍射板202;与前述第1实施方案相同,由光源光入射侧棱镜11及反射光入射侧棱镜12等构成的分光器10;校准透镜204;激光反射镜205;物镜206;作为信息记录媒体的光磁盘207;光检测器208;波片209;柱面镜210;偏振分光器211;光检测器212、213等。
以下,对光磁盘207上记录的信息进行再生的情况作说明。
激光二极管201发射出的线偏振光的电场振动面被设定为与分光器10的光源光入射侧棱镜11的入射面平行。激光二极管201发射出的线偏振光通过衍射板202后,经分光器10其一部分的反射光入射到功率监控器用的光检测器208上,剩余的透过光经校准透镜204、激光反射镜205、物镜206后被聚光于光磁盘207。
被光磁盘207反射的光接受由磁化的方向引起的克尔旋转,振动面有微小地旋转,再次经物镜206、激光反射镜205、准直透镜204后入射到分光器10上。相对于来自激光二极管201的入射光为P偏振光来说,来自光磁盘的返回光(反射光)因为受到克尔旋转,被分成P偏振光成分和S偏振光成分,经分光器10后分别有一定光量被反射,通过波片209、柱面镜210后,在偏振分光器211被分离成P偏振光成分、S偏振光成分,分别入射到光检测器212、213。而且,分光器10被设定为,从反射光入射侧棱镜12入射的光束的反射相位差为180°、波片的透过相位差为180°(1/2波片),是能够检出P偏振光和S偏振光的差分的结构。
有关本实施形态的分光器,因为与前述第1实施形态的相同,所以省略说明。
(第5实施方案)
接下去,对适用于本发明的第5实施形态作说明。
本实施形态的光拾取装置,光学元件的配置与第4实施形态中的是相同的,但是分光器和波片的相位差不同。分光器被设定为:从反射光入射侧棱镜入射的光束的反射相位差为90°、波片的透过相位差为90°(1/4波片),是能够检出P偏振光和S偏振光的差分的结构。
以下,对第5实施形态中的分光器的多层膜作说明。本实施形态的多层膜13与第1实施方案的相同,是在反射光入射侧棱镜12的斜面上设置镀膜,形成了如表4所示的结构。
(表4)
No. | 折射率 | 膜厚(nm) | |
光源光入射侧棱镜(S-TIM22) | 1.64 | ||
UV固化粘接剂 | 1.6 | ||
16 | MgF2 | 1.38 | 159.71 |
15 | TiO2 | 2.26 | 27.6 |
14 | Al2O3 | 1.61 | 42.99 |
13 | MgF2 | 1.38 | 202.96 |
12 | TiO2 | 2.26 | 64.02 |
11 | Al2O3 | 1.61 | 87.6 |
10 | MgF2 | 1.38 | 144.59 |
9 | TiO2 | 2.26 | 65.84 |
8 | Al2O3 | 1.61 | 96.28 |
7 | MgF2 | 1.38 | 193.08 |
6 | TiO2 | 2.26 | 38.49 |
5 | Al2O3 | 1.61 | 144.1 |
4 | MgF2 | 1.38 | 155.47 |
3 | TiO2 | 2.26 | 32.17 |
2 | Al2O3 | 1.61 | 133.72 |
1 | MgF2 | 1.38 | 127.26 |
反射光入射侧棱镜(S-TIM22) | 1.64 |
本实施形态的多层膜13被形成为:因为是利用激光二极管201的波长685nm、发射的有限光(发散光)的发散角度±9°,所以,在射向棱镜的入射波长685±25nm、入射角度0±9°中,来自于激光二极管101的光在所定方向(光检测器108的方向)被输出的反射光的P偏振光的反射率Rp为15%≤Rp≤25%,经光磁盘107反射的光在所定方向(光检测器111的方向)被输出的反射光的P偏振光的反射率R’p为15%≤R’p≤25%,经光磁盘107反射的光在所定方向(光检测器111的方向)被输出的反射光的S偏振光的反射率Rs为Rs≥90%。另外,被形成为使P偏振光和S偏振光的反射相位差Δ为170°≤Δ≤190°。
另外,本实施形态的多层膜13和第1实施形态相同,是通过真空蒸发形成的。但不限于这种方法,也可以通过喷溅、CVD等其他的成膜方法来形成。本实施形态中,作为构成各层的材料,使用MgO2作为构成低折射率层的低折射率材料、Al2O3作为构成中折射率层的中折射率材料、TiO2作为构成高折射率层的高折射率材料。此时,MgF2和TiO2的折射率差大到0.88,所以,有利于能减少构成多层膜13的层数。除此之外,也可以使用SiO2作为低折射率材料;Y2O3、SiO、Si2O3作为中折射率材料、Ta2O5、ZrO2、Nb2O3、CeO2、CeF3、HfO2、ZrTiO4等作为高折射率材料,可以根据折射率进行设计使能够得到需求的光学性能。
本实施形态的多层膜13的形成方法及结构如下。
首先,在真空槽排气至1.0×10-3Pa后,在第1层利用氧气导入量5.0×10-3Pa,蒸发率2.5/sec形成MgF2。接下去,在第2层利用氧气导入量5.0×10-3Pa,蒸发率4/sec形成Al2O3。在第3层利用氧气导入量1.0×10-2Pa,蒸发率3/sec形成TiO2。往后,第4层至第15层按照MgF2、Al2O3、TiO2的顺序反复成膜,第16层成膜MgF2,由此形成多层膜13。
如上所述,本实施形态中,第1层至第3层是从反射光入射侧起,依次由折射率低的材料MgF2构成的低折射率层、折射率为中等程度的材料Al2O3构成的中折射率层、折射率高的材料TiO2构成的高折射率层叠层起来的特定叠层部,同样,第4层至第6层、第7层至第9层、第10层至第12层、第13层至第15层也分别为特定叠层部。这样,第1层至第15层是按MgF2、Al2O3、TiO2顺序反复成膜形成的多个特定叠层部,通过按低折射率材料、中折射率材料、高折射率材料的顺序反复成膜,形成能减少反射率、透过率及反射相位差的波长依存性并同反射率、透过率及反射相位差的入射角依存性的多层膜13。
在此,以对膜面的入射角为45°,测定了S偏振光、P偏振光的反射率及反射相位差的波长依存性,得到如图16的曲线所示的S偏振光、P偏振光的反射率的波长依存性;如图17的曲线所示的S偏振光、P偏振光的反射相位差的波长依存性。
并且,以测定波长为685nm,测定了S偏振光、P偏振光的反射率及反射相位差的入射角依存性,S偏振光、P偏振光的反射率的入射角依存性的结果用图18的曲线;S偏振光、P偏振光的反射相位差的入射角依存性的结果用图19的曲线表示。
如图16~图19的曲线所示,横轴的入射角是对棱镜接合面的入射角,这个角度为45°±5.5°时,对棱镜的垂直入射面的入射角为0°±9°。根据这些特性曲线,可以知道,这个分光器10是反射率、透过率及反射相位差的波长依存性并同反射率、透过率及反射相位差的入射角依存性小的分光器。
因此,如果这个分光器使用在图3的光拾取装置200中,则能得到良好的记录再生特性。
有关使用波长,前述各实施方案中是使用λ=685nm的激光,但也可以使用其它波长的激光。可以根据使用波长设定膜厚,例如使用λ=405nm的激光时,将前述各实施形态中的各层的膜厚乘于0.59(405÷685=0.59),将得出的膜厚叠层起来便可。
另外,前述各实施形态对只使用1波长的光拾取装置作了说明,但是,在使用多种波长的光拾取装置中,通过调整光学系统和膜的设计,也可以适宜应用。
根据本发明的各实施形态的分光器,因为具有来自于光源的光入射的光源光入射侧棱镜和经信息记录媒体反射的光入射的反射光入射侧棱镜,光源光入射侧棱镜和反射光入射侧棱镜之间,具有由多个从反射光入射侧起,依次为低折射率层、中折射率层、高折射率层叠层起来的特定叠层部组成的多层膜,所以,能减小分光器的反射率、透过率及反射相位差的波长依存性并同反射率、透过率及反射相位差的入射角依存性。
各实施形态中,因为经信息记录媒体反射的光入射,并在所定方向被输出的反射光的S振偏光的反射率Rs≥90%;来自于光源的光入射,并在所定方向被输出的反射光的P偏振光的反射率Rp及经信息记录媒体反射的光入射、并在所定方向被输出的反射光的P偏振光的反射率Rp′分别为10%≤Rp≤40%、10%≤Rp′≤40%;所以,能使适度光量的P偏振光反射,能使较大光量的S偏振光反射。
各实施形态中,因为低折射率层使用以MgF2或SiO2为主要成分的材料,中折射率层使用以Al2O3、Y2O3、SiO、Si2O3中的任何一种为主要成分的材料,高折射率层使用以TiO2、Ta2O5、ZrO2、Nb2O3、CeO2、CeF3、HfO2、ZrTiO4中的任何一种为主要成分的材料,所以,能具体地构成减小分光器的反射率、透过率及反射相位差的波长依存性并同反射率、透过率及反射相位差的入射角依存性的结构。
在第1实施形态中,因为低折射率层使用以MgF2为主要成分的材料,中折射率层使用以Al2O3为主要成分的材料,高折射率层使用以TiO2为主要成分的材料,所以,能加大低折射率层和高折射率层的折射率的差。具体地在低折射率层和高折射率层分别由MgF2和TiO2构成时,能使折射率差大到0.88,因此,有利于减少构成多层膜的层数。
在第2实施形态中,因为低折射率层使用以MgF2为主要成分的材料,中折射率层使用以Al2O3为主要成分的材料,高折射率层使用以Ta2O5为主要成分的材料,所以,通过将具有拉伸应力的以MgF2和Al2O3为主要成分的各层和、具有压缩应力的以Ta2O5为主要成分的层叠层起来,能缓和膜整体的应力,能形成不易发生膜剥离和裂纹等现象的、耐环境性良好的多膜层。
在第3实施形态中,因为低折射率层使用以SiO2为主要成分的材料,中折射率层使用以Al2O3为主要成分的材料,高折射率层使用以TiO2为主要成分的材料,所以,通过将具有压缩应力的以SiO2为主要成分的层和具有拉伸应力的以Al2O3和TiO2为主要成分的各层叠层起来,能缓和膜整体的应力,能形成不易发生膜剥离和裂纹等现象的、耐环境性良好的多膜层。
各实施形态中,因为光源光入射侧棱镜、多膜层及反射光入射侧棱镜之间粘接时使用的粘接剂和反射光入射侧棱镜之间的折射率的差在0.1以下,所以,2个棱镜在用粘接剂粘接时,即便因为粘接层的厚度不均匀引起产生一定的粘接层光楔角的话,波面像差的恶化也小,能提高分光器的产品合格率。
在第1~第4实施形态中,因为S偏振光和P偏振光的反射相位差Δ为-10°≤Δ≤10°或为170°≤Δ≤190°,所以,能正确地检出光磁盘记录媒体上的克尔旋转角,能得到良好的记录再生特性。
在第5实施形态中,因为S偏振光和P偏振光的反射相位差Δ为80°≤Δ≤100°或为260°≤Δ≤280°,所以,能正确地检出光磁盘记录媒体上的克尔旋转角,能得到良好的记录再生特性。
根据本发明的各实施形态的光拾取装置,因为具有前述实施形态的分光器,所以,能得到良好的记录再生特性。
在第5实施方案中,因为光拾取装置具有前述第5实施方案的分光器和1/2波片,所以,能得到良好的记录再生特性,同时,能控制成本。
光拾取装置具有如前述实施形态的分光器和1/4波片的话,能得到良好的记录再生特性,同时,能控制成本。
各实施形态中,因为是使来自于光源的发散光入射到分光器,所以,能得到良好的记录再生特性,同时,能对光拾取装置进行小型化。
根据这些,各实施形态中,能将装备了光拾取装置的机器,在具有良好性能的前提下进行小型化。
本发明不限定于前述实施形态,在不逸出本发明的宗旨的范围中,可以进行种种改良并同设计。
Claims (17)
1.一种分光器,其特征在于,备有:来自于光源的光入射的光源光入射侧棱镜和、经信息记录媒体反射的光入射的反射光入射侧棱镜;在前述光源光入射侧棱镜和前述反射光入射侧棱镜之间,备有由多个从反射光入射侧起,依次为低折射率层、中折射率层、高折射率层叠层起来的特定叠层部组成的多层膜。
2.权利要求1记载的分光器,其中,经信息记录媒体反射的光入射到前述分光器、并在所定方向从前述分光器被输出的反射光的S偏振光的反射率Rs≥90%;来自于光源的光入射到前述分光器、并在所定方向从前述分光器被输出的反射光的P偏振光的反射率Rp及经信息记录媒体反射的光入射、并在所定方向被输出的反射光的P偏振光的反射率R′p分别为10%≤Rp≤40%、10%≤R′p≤40%。
3.权利要求2记载的分光器,其中,前述反射率Rs、Rp、R′p满足以下条件式
Rs≥90%、15%≤Rp≤25%、15%≤R′p≤25%。
4.权利要求1记载的分光器,其中,前述低折射率层使用以MgF2或SiO2为主要成分的材料,中折射率层使用以Al2O3、Y2O3、SiO、Si2O3中的任何一种为主要成分的材料,高折射率层使用以TiO2、Ta2O5、ZrO2、Nb2O3、CeO2、CeF3、HfO2、ZrTiO4中的任何一种为主要成分的材料。
5.权利要求4记载的分光器,其中,前述低折射率层使用以MgF2为主要成分的材料,中折射率层使用以Al2O3为主要成分的材料,高折射率层使用以TiO2为主要成分的材料。
6.权利要求4记载的分光器,其中,前述低折射率层使用以MgF2为主要成分的材料,中折射率层使用以Al2O3为主要成分的材料,高折射率层使用以Ta2O5为主要成分的材料。
7.权利要求4记载的分光器,其中,前述低折射率层使用以SiO2为主要成分的材料,中折射率层使用以Al2O3为主要成分的材料,高折射率层使用以TiO2为主要成分的材料。
8.权利要求1记载的分光器,其中,把前述光源光入射侧棱镜、前述多膜层及前述反射光入射侧棱镜粘合时使用的粘接剂的折射率与前述反射光入射侧棱镜的折射率之间的差为0.1以下。
9.权利要求8记载的分光器,其中,前述折射率的差为0.05以下。
10.权利要求1记载的分光器,其中,S偏振光和P偏振光的反射相位差Δ为-10°≤Δ≤10°或为170°≤Δ≤190°。
11.权利要求10记载的分光器,其中,前述反射相位差Δ为-6°≤Δ≤6°或为174°≤Δ≤186°。
12.权利要求1记载的分光器,其中,S偏振光和P偏振光的反射相位差Δ为80°≤Δ≤100°或为260°≤Δ≤280°。
13.权利要求12记载的分光器,其中,前述反射相位差Δ为84°≤Δ≤96°或为264°≤Δ≤276°。
14.一种光拾取装置,其备有权利要求1记载的分光器。
15.一种光拾取装置,其备有权利要求10记载的分光器和1/2波片。
16.一种光拾取装置,其备有权利要求12记载的分光器和1/4波片。
17.权利要求14的光拾取装置,其中,是来自于光源的发散光入射到前述分光器上。
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