CN1766677A - 滤光片 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种滤光片，其包括：一基体层及第一膜层，该基体层内混合有纳米材料，第一膜层形成于基体层的任一表面，该第一膜层为抗反射膜。该基体层内含有的纳米材料可为二氧化硅SiO2、氧化锌ZnO，利用该纳米材料对光中的紫外线、红外线的吸收作用，可减少镀膜工序中的复杂工艺。
Description
【技术领域】
本发明是关于一种滤光片。
【背景技术】
随着多媒体技术的发展，数码相机、摄影机越来越为广大消费者青睐，在人们对数码相机、摄影机追求小型化的同时，对其拍摄出物体的影像质量提出更高要求。
数码相机一般包括透镜或透镜组及影像感测组件(电荷耦合器Charge Coupled Device，下称CCD，或者补充性氧化金属半导体Complementary Metal-Oxide Semiconductor，下称CMOS)，由于CCD或CMOS影像感测组件的波长感应光谱范围约为350～1500nm，而可见光的波长范围为400～700nm，波长范围大于700nm～1000000nm为红外线波长范围，即CCD或CMOS影像感测组件不仅可感测到可见光，而且也可感测到部分红外线，因而使拍摄的影像受红外线的干扰产生噪声。
为解决以上所述的色彩失真问题，现有的数码相机通常通过一红外截止滤光片来滤除照射至CCD或CMOS影像感测组件的红外光，该红外截止滤光片用以阻止红外线通过，避免于正常拍摄时红外线入射至影像感测组件干扰产生噪点，以利于色彩还原。
现有的红外线截止滤光片虽可克服其于正常拍摄时由于红外线干扰导致色彩失真的问题，但是传统红外线截止滤光片通常藉由镀膜技术将高折射率材料镀于低折射率材料的基材上，为较好控制红外线滤光片的效果，需要40层镀膜程序，镀膜过程较为复杂，且易因光学设计不良或制程控制不当，使可见光穿透率低而红外线部分穿透率太高，影响成像性能。
有鉴于此，提供一种制作简单、提高滤光片性能的滤光片实为必要。
【发明内容】
本发明的目的在于提供一种制作简单、提高滤光片性能的滤光片。
一种滤光片，其包括：一基体层，该基体层内混合有纳米材料，第一膜层形成于基体层的任一表面。
所述纳米材料添加到基体层所占比例为0.1％-10％范围内，其优选的纳米材料所占比例为1％。
该纳米材料为二氧化硅SiO2、氧化锌ZnO等可吸收红外光或紫外线等材料，该膜层为抗反射膜。
相较现有技术，本发明滤光片藉由在基体层内加入纳米吸收材料，不仅使其可减少膜层的复杂工序，而且也可对噪声光吸收较为完全。
【附图说明】
图1是本发明滤光片的组成示意图。
【具体实施方式】
本发明滤光片包括第一膜层10、一基体层20及第二膜层30，第一膜层10和第二膜层30分别附着于基体层的一表面。
基体层20内混合具有所需过滤波长的纳米材料，纳米是法定计量中的一种长度单位名称，其单位符号为nm，1纳米等于10亿分之一米，相当于10个氢原子相挨排成直线的长度。当物质结构单元小到纳米级时，物质的性能就发生了重大的变化，不仅大大改善了原有材料的性能，甚至具有新的性能或效应。
本实施例的纳米材料可吸收红外线或紫外线。该纳米材料的纳米粒子具纳米级尺寸，一般为1-100nm，该纳米粒子均匀分散于基体层中，形成复合材料，由于纳米粒子尺寸小，因此其具有独特性能。
纳米材料添加到基体层20所占的比例为0.1％-10％范围内，其优选之纳米材料所占比例为1％，此时，即可有效的过滤空气中所需的波长，同时可有效减少滤光片的成本。
纳米材料可采用二氧化硅SiO2，该纳米SiO2的团聚体是无定型白色粉末表面分子状态呈三维网状结构，其具有极强的紫外线吸收、红外线反射性能。纳米材料可采用氧化锌ZnO，该氧化锌纳米材料的性能可屏蔽紫外线，吸收红外线的作用。
第一膜层10和第二膜层30形成于基体层20的一表面，因在基体层20内混合有吸收红外线或紫外线的纳米材料，故该第一膜层10或第二膜层30可仅用简单的抗反射薄膜(AR Coating)来取代即可。
抗反射膜的作用为由于石英的折射率与空气不同，在界面上会产生反射而减低入射光的强度，为降低反射所造成的损失，一般要在表面镀上抗反射膜以提高光的穿透率，从而提高取像品质。
可以理解，本发明滤光片并不限于过滤红外线，在滤光片基材中也可加入其它所需的纳米材料，达到过滤所需光线的作用。
Claims (8)
1.一种滤光片，包括一基体层和第一膜层，所述第一膜层形成于该基体层的任一表面，其特征在于：该基体层含有可吸收所需过滤波长的纳米材料。
2.如权利要求1所述的滤光片，其特征在于：该纳米材料所占比例为0.1％-10％。
3.如权利要求2所述的滤光片，其特征在于：该纳米材料所占比例为1％。
4.如权利要求1所述的滤光片，其特征在于：该第一膜层为一层抗反射膜。
5.如权利要求1所述的滤光片，其特征在于：该滤光片进一步包括一第二膜层，该第二膜层形成于与第一膜层相对的一端。
6.如权利要求5所述的滤光片，其特征在于：第二膜层为一层抗反射膜或红外截止滤光膜。
7.如权利要求1至6项中任一项所述的滤光片，其特征在于：该基体层所含的纳米材料为二氧化硅SiO2。
8.如权利要求1至6项中任一项所述的滤光片，其特征在于：该基体层所含的纳米材料为氧化锌ZnO。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CNA2004100520727A CN1766677A (zh) | 2004-10-30 | 2004-10-30 | 滤光片 |
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| CNA2004100520727A CN1766677A (zh) | 2004-10-30 | 2004-10-30 | 滤光片 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN1766677A true CN1766677A (zh) | 2006-05-03 |
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Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CNA2004100520727A Pending CN1766677A (zh) | 2004-10-30 | 2004-10-30 | 滤光片 |
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2004
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