背景技术
图1表示一典型的硬盘驱动器。在现有的硬盘驱动器中,磁读/写头102通常集成在滑块102中,所述滑块被设计成响应于随旋转盘104移动的气流,滑块102在所述旋转盘上行进。磁头/滑块102靠近盘104的表面飞行。在制造这种磁头/滑块102的过程中,通常需要测试头102的流体动力学特性以检验它们的性能。头102运行的不能离盘104表面太远或太近很重要。此外,防止头102以关于盘表面104的不适当的角运行也是重要的。头102在盘表面104上运行的太高将导致低于期望的面密度。头102运行的太低可引起头102和盘104之间的界面故障。
为了测试磁头的飞行高度,通常使用飞行高度测试仪。通常利用光干涉技术来确定磁头和盘之间的距离。一单色光源被指向一以类似于磁盘的旋转速度旋转的透明代用盘,例如玻璃盘,正被测试的磁头组件以其相对于盘的正常飞行方位固定在一个支架上。单色光被以与盘表面成预定的角度射向盘。所述光被最靠近磁头的盘表面反射,以及从飞行磁头本身的表面反射,并到达光敏检测器上。
由从盘和滑块表面结合的反射产生的干涉效应提供了飞行高度信息。计算机从飞行高度测试仪接收数据并计算感知的飞行高度和磁头的角度。随着硬盘驱动器变得越来越小和数据存储容量的增加,期望的磁头飞行高度不断降低。因此,飞行高度测试仪的精度,并因此其校准的精度就变成了主要问题。
图2表示用于校准飞行高度测试仪的典型装置。通常利用例如在美国专利第5552884号中所描述的调校标准器。如从图2a可以看出,所述调校标准器包括通过加载弹簧52与透明盘44接触的模拟头48。透明盘44具有多个形成在面对模拟头48的表面中的凹槽60。一盖壳56在一端被附接至玻璃盘44并对模拟头48组件和透明盘44之间的界面提供密封的环境。对于利用该装置存在若干个问题。例如,在建立H1 204的过程中,所述H1对于评估飞行高度是重要的(下述),设计的性质由于使用光干涉装置而会引起问题。一定不能将H1的测量205设置得太靠近脊64的边缘,否侧测量光束返回路径206、208之一(或二者)将有一部分通过空气(通过120和124处的壁分开)传播。空气和透明盘(玻璃等)之间的光学属性的差异会干涉传播路径,因此会引起不精确的光学干涉测量结果(即,结果得到的光束206和208不在正确的位置处和/或远离精确测量的正确距离)。因此,只能朝向脊64的中心采取H1测量(在任何程度上(if at all))。这防止了对模拟盘48的表面不规则性76的适当补偿。此外,必须使用分开的装置来确定飞行高度测试仪的最小和最大光强度,其是在校准中必需的步骤,如下所述。该分开的装置增加了校准处理的成本和复杂性。
因此期望具有一种校准飞行高度测试仪的系统和方法,其能避免上述的问题,还具有附加的益处。
发明内容
在本发明的一个方面中,一种用于校准间隙测量工具的方法包括:提供一调校标准器,其包括至少一个将与一模拟盘接触的模拟滑块,所述滑块包括一凹陷部分,所述凹陷部分是关于一盘表面凹陷的滑块表面;确定在至少一个位置处的所述盘和所述滑块的凹陷部分的表面之间的实际距离;通过光学测量确定在所述位置中所述至少一个位置处的所述盘和所述滑块的凹陷部分的表面之间的观测距离;和将每个所述位置处的所述观测距离与所述实际距离进行比较。
在本发明的另一个方面中,一种用于校准间隙测量工具的系统包括:一调校标准器,其包括至少一个将与一模拟盘接触的模拟滑块,所述滑块包括一凹陷部分,所述凹陷部分是关于一盘表面凹陷的滑块表面,其中在至少一个位置处确定所述盘和所述滑块的凹陷部分的所述表面之间的实际距离;通过光学测量确定在所述位置中所述至少一个位置处的所述盘和所述滑块的凹陷部分的所述表面之间的观测距离;和将每个所述位置处的所述观测距离与所述实际距离进行比较。
在本发明的又一个方面中,一种用于校准间隙测量工具的方法包括:提供一调校标准器,其包括至少一个将与一模拟盘接触的模拟滑块,所述滑块包括具有一倾斜表面的模拟滑块,所述倾斜表面用于维持随所述盘和所述滑块之间的位置而变化间隙;在至少一个位置处确定所述盘和所述倾斜表面之间的实际间隙尺寸;通过光学测量确定在所述位置中所述至少一个位置处的所述盘和所述倾斜表面之间的观测间隙尺寸;产生多条表示关于所述倾斜表面上的位置的光强的曲线,每条曲线与一特定的光频率相关联;和对于多个位置中的每一个,将光强值的组合与它们各自的测量间隙尺寸相关联。
具体实施方式
图3表示根据本发明实施例的飞行高度测试仪调校标准器。如从图3a可以看出,在一个实施例中,调校标准器100包括透明的模拟盘10和通过一个或多个负载弹簧40以与模拟盘10基本接触放置的一个或多个模拟头20。在该实施例中,利用盖50来保护标准器免受污染物例如灰尘和碎片的影响。在本实施例中,使用两个螺钉71、72将盖50(并因此,将模拟头20)固定到模拟盘10上。在该实施例中,模拟盘10由基本上平滑、透明的材料例如玻璃制成。此外,在本实施例中,通过薄膜化学沉积为模拟头20提供一保护涂层以模仿磁头/滑块的光学性能。
在一个实施例中,高度标准器100扮演两个角色:光强校准工具和高度校准工具。作为光强校准工具,利用了在一个或多个模拟头20上的倾斜表面22。如图3b所示,在一个实施例中,飞行高度测试仪的光源80沿倾斜表面22移动(关于标准器)。随着测试仪通过倾斜表面22,光学干涉技术(下述)产生一种振动,即包含高强度光片段和暗色光段的连续光谱。从该连续光谱,能够为在解码器90处接收的最大光强和最小光强建立值。在该实施例中,光强值被存储在与飞行高度测试仪相关联的计算机(未示)中。
在为飞行高度测试仪建立光强范围之后,在一个实施例中,使用飞行高度测试仪测量至少一个表面凹槽302的深度(飞行高度)以确定盘10和凹陷部分302的表面23之间的至少一个“观察”距离。在本实施例中,可通过类似原子力显微镜(AFM)的装置来确定模拟头20的物理尺寸,因此,盘10和凹陷部分302的表面23之间的“实际”距离能够与“观测”距离进行比较用于校准飞行高度测试仪。“实际”和“观测”距离之间的差值可用于调节飞行高度测试仪以进行校准。在一个实施例中,布置有多个不同深度(高度)的凹陷部分以改进校准(用于不同高度的校准)。此外,因为倾斜表面22的尺寸是已知的,所以它也能用于执行间隙校准(即,任意位置x处的深度已知)。
如上所述,在本发明的一个实施例中,为了校准飞行高度测试仪,调校标准器100被放置在飞行高度测试仪中以代替测试仪的原始玻璃盘(未示)并位于测试仪的光源80的下面。如图3b和3c所示,在校准飞行高度测试仪的过程中,通过所述测试仪进行高度测量,从而产生“观测”距离。将“观测”距离与那些位置处的“实际”距离进行比较。在一个实施例中,利用一线性翻译器和计算机(未示)来近似的定位标准器100用于进行测量。在该实施例中,在每个测量点,单色光88a通过光源80引向(透明的)模拟盘10,如图3b所示。光88a以与第一模拟盘表面12入射θ角入射到盘10上并沿路径88b通过(玻璃)模拟盘10继续传播至第二模拟盘表面11,在此它分裂开并被部分反射。反射的部分遵循路径88c通过盘10到达第一表面12,和遵循路径88d到达飞行高度测试仪的传感器90(未示)。剩下的光遵循路径88e到达模拟滑块(头)表面22,在此所述光通过路径88f被反射至模拟盘10。所述光到达模拟盘10的第二表面11、遵循路径88g通过盘10和遵循路径88h到达测试仪传感器90。由于Snell效应将在空气/盘表面处的路径之间产生略微的角度偏差。为了说明的目的,高度h2和入射角θ在图3b中都被夸大了。对于典型的飞行高度测试仪来说,路径88a实际上基本垂直于模拟盘表面12。
图4表示表面不规则性补偿并对根据本发明实施例的两个模拟头提供了进一步详细的图示。如图4a所示,由于每个模拟头20的顶部的表面不规则性,从盘到模拟头表面21的距离He随位置改变。在本发明的一个实施例中,可通过诸如轮廓曲线仪的装置来确定模拟头的表面轮廓。该表面轮廓与(通过AFM等)知道的模拟头20的“实际”尺寸相结合能够改进校准。模拟头20的凹陷部分的真实深度Ha略微不同于表观深度H1(因为模拟头20表面上的高点402)。利用Ha作为“实际”距离提供了更加精确的值。在一个实施例中,所获得的表面不规则信息可由飞行高度测试仪计算机使用以提供用于校准的校正因数或一系列的校正因数。
图4b和4c进一步表示根据本发明实施例的具有凹陷表面23和倾斜表面22的模拟头滑块20(参见图4b)和具有一系列以变化深度形成的凹陷表面(凹槽)23的模拟头滑块20(参见图4c)。在一个实施例中,凹陷表面23长度L1大于50微米,凹陷表面23深度(飞行高度)H1大于2纳米。在一个实施例中,倾斜表面高度(上升)H2在12和13微英寸(.31-.33微米)之间,倾斜表面22长度(大体)L2接近100密耳(2540微米)。如上所述,可在调校标准器100中一起使用多个模拟头20(参见图3a),或者它们可以在调校标准器100中单独使用。
图5表示根据本发明实施例原理的对于提供与头/盘间隙的范围相关的唯一取值的组合的连续光谱所利用的“唯一相称”解的曲线图。在一个实施例中,将多个波长的光(例如,三个波长501、502、503)引向将被测量的表面。在一个实施例中,当改变模拟头和模拟盘之间的距离以获得最大和最小光强(用于光强校准)时,可显示出多条曲线。在以不同的波长(均衡幅度)校准光强之后,叠加显示的波长提供了可用于“唯一相称”解光谱的多个曲线。通过光学干涉,通过检测器接收的光强524随着测量距离的增加(或降低)而在最大值526和最小值528之间重复振动。虽然每个曲线随着测量距离的增加(或降低)在可能的值范围内都通过相同的光强值多次,但通过多波长光源提供的值511、512、513的组合对于可能的距离范围522中的每个距离是唯一的。该“唯一相称”解提供了一个光强组合范围,其与将被测量的可能距离范围直接且唯一的相关的。
根据本发明的实施例,向校准装置提供了光强/唯一相称理论值(倾斜表面;参见例如图4b)和特定的深度(飞行高度)测量标度(凹陷表面;参见例如图4c)。在该实施例中,两个模拟头都提供在相同的调校标准器中(与需要单独的标准器/装置相反)。如先前所述,现有技术中典型的调校标准器仅仅提供一系列的用于间隙校准的凹槽(在盘侧,而不是在磁头侧)。为了光强校准和理论曲线的研制,需要添加单独的部件(楔形零件),从而增加了制造和操作的成本。因此,除了具有模拟头上改变深度的凹槽(与模拟盘上的相反,如上所述)的优点之外,从复杂性和成本的观点来说,将所有部件集成在单一调校标准器中是有利的。此外,由于其硬度,在例如玻璃模拟盘中形成凹槽(例如通过离子磨或化学蚀刻)的处理比在模拟头(基底)中形成类似的凹槽更加困难。此外,用种方法蚀刻玻璃产生的表面粗糙度(不规则性)将大至0.4微英寸(~10纳米)或更大,从而加剧了校准难度。
此外,例如现有技术(参见图2a)中采用利用模拟盘44中形成的校准凹槽60的光学干涉技术将引起相当大的误差。如果测量位置太靠近脊64的边缘,则光束返回路径中的一个或多个可通过空气212(玻璃-空气-玻璃,而非仅仅是玻璃),从而改变了光的路径(参见图2c)。因为一条光束传播通过空气的距离定义了感知的高度测量,所以光应该通过穿过玻璃的一致路径进行传播(即,一致厚度的模拟盘,例如本发明)。
图6表示根据本发明一可选择实施例的模拟头设计。在该实施例中,模拟头20具有两个分离的倾斜表面22、24。在该实施例中它们是通过不同的斜度(H2/L2和H4/L4)形成的。具有浅斜面的倾斜表面22、24可用于进行精确的调节校准,具有陡峭斜面的倾斜表面22、24可用于进行大范围的调节。
图7表示根据本发明可选择实施例的三个模拟头设计。如图7a所示,在一个实施例中,模拟头20具有一个圆柱形的凸出(弯曲)的部分702和一个凹陷的表面部分704。在该实施例中,圆柱形部分702用于光强校准和间隙光谱校准(通过光强曲线,如上所述)。在该实施例中,可通过AFM和已知的几何学原理确定圆柱形部分702的尺寸以产生“实际”(飞行高度)距离H 706(类似于倾斜表面22,参见图3b)。类似于上述,在该实施例中,凹陷部分704用于特定的飞行高度校准。如图7b所示,在另一个实施例中,在调校标准器中利用了一个具有圆柱形部分702的模拟头20。在该实施例中,圆柱形部分702被用于光强校准、间隙光谱校准(通过光强曲线)和特定的飞行高度校准。在该实施例中,特定的间隙测量校准是在期望的位置进行的(通过“实际”与“测量”的差)。如所述的,通过例如AFM的装置可获知“实际”距离。在另一个实施例中,图7a和7b中所示的设计的弯曲表面702是球形(凸出)表面。在一可选择实施例中,如图7c所示,弯曲表面702(例如,球形的、圆柱形的,等等)占据了具有倾斜表面部分的模拟头20的顶部,从而提供了进一步的校准灵活性。
虽然此处已经特定描述和说明了若干个实施例,但应该意识到在不脱离本发明的精神和预期范围的情况下,通过上面的教导并且在后附权利要求的范围内,可对本发明做出各种修改和变形。