CN1718273A - 全氟化合物废气加强处理系统 - Google Patents

全氟化合物废气加强处理系统 Download PDF

Info

Publication number
CN1718273A
CN1718273A CN 200410062366 CN200410062366A CN1718273A CN 1718273 A CN1718273 A CN 1718273A CN 200410062366 CN200410062366 CN 200410062366 CN 200410062366 A CN200410062366 A CN 200410062366A CN 1718273 A CN1718273 A CN 1718273A
Authority
CN
China
Prior art keywords
pipe
water
gas
unit
exhaust
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN 200410062366
Other languages
English (en)
Inventor
陈怡蓉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Individual
Original Assignee
Individual
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Individual filed Critical Individual
Priority to CN 200410062366 priority Critical patent/CN1718273A/zh
Publication of CN1718273A publication Critical patent/CN1718273A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02C—CAPTURE, STORAGE, SEQUESTRATION OR DISPOSAL OF GREENHOUSE GASES [GHG]
    • Y02C20/00—Capture or disposal of greenhouse gases
    • Y02C20/30—Capture or disposal of greenhouse gases of perfluorocarbons [PFC], hydrofluorocarbons [HFC] or sulfur hexafluoride [SF6]

Landscapes

  • Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
  • Treating Waste Gases (AREA)

Abstract

一种全氟化合物废气加强处理系统。为提供一种能去除废气中夹带的全氟化合物、降低对环境污染、适用范围广的半导体制造辅助设备，提出本发明，它设置于废气处理设备的一侧；其包含基台本体及设置于基台本体外部的进、排气管；进气管与废气处理设备连接；排气管接设用以将基台本体内部的气体排出的抽气单元；基台本体内部设有集水箱、与基台本体外部进气管连接的前段冷凝管、触媒处理单元、水处理单元及与基台外部的排气管连接的后段冷凝管；集水箱包括与前段冷凝管及触媒单元连接连接的第一集水箱及与水处理单元及后段冷凝管连接的第二集水箱；触媒单元与水处理单元之间以管路连接。

Description

全氟化合物废气加强处理系统
技术领域
本发明属于半导体制造辅助设备，特别是一种全氟化合物废气加强处理系统。
背景技术
半导体工业，包含微处理器、存储器、集成电路等高科技电器元件俨然成为现代工业的发展中心，但半导体工业需大量用水、用电的需求及危险性、有害性化学品的使用。
尤其在制造过程中，需要使用大量有危险性及有害性化学药剂，如甲基三乙氧基矽烷(TEOS)、氢氟酸(HF)、氮氧化物(NOX)、磷化氢(PH3)砷化氢(AsH3)及全氟化合物(PFC)等有害性物质，而全氟化合物(Per FluorineCompound简称PFC)，如三氟化氮(NF3)、六氟化硫(SF6)、四氟化碳(CF4)、C3F8及C2F6等有毒物质，若无妥善处理而直接排于大气中，不仅对环境造成污染，更造成温室效应的扩大。
因而，在制程中，必须利用废气处理设备对制造后所产生的有毒气体进行处理。如图1所示，传统的废气处理设备概分为两类：一者为单一式的处理设备，一种为复合式的处理设备。
单一式处理设备包含电热式、水洗式、触媒式、电浆式、吸附式、燃烧式。
复合式处理设备主要将两种以上单一式处理设备加以结合，如电热加水洗及吸附加水洗等复合式处理设备。
然，不论单一式处理设备，如水洗式，或复合式，如电热加水洗式处理设备，仅针对制程中所产生的废气进行处理，但却无法有效地去除废气中夹带的的全氟化合物(PFC)，而单用触媒式却无法有效处理除(PFC)以外其它半导体制程废气，而无法广泛应用于半导体工业中废气的处理。
发明内容
本发明的目的是提供一种能去除废气中夹带的全氟化合物、降低对环境污染、适用范围广的全氟化合物废气加强处理系统。
本发明设置于废气处理设备的一侧；其包含基台本体及设置于基台本体外部的进、排气管；进气管与废气处理设备连接；排气管接设用以将基台本体内部的气体排出的抽气单元；基台本体内部设有集水箱、与基台本体外部进气管连接的前段冷凝管、触媒处理单元、水处理单元及与基台外部的排气管连接的后段冷凝管；集水箱包括与前段冷凝管及触媒单元连接连接的第一集水箱及与水处理单元及后段冷凝管连接的第二集水箱；触媒单元与水处理单元之间以管路连接。
其中：
触媒处理单元内部设有触媒管。
水处理单元内部设有喷水管及吸附元件。
水处理单元区隔为上、下层，且各层中连接设有喷水管及吸附元件。
吸附元件为由陶瓷构成，
第一集水箱及第二集水箱分别利用导接管与废气处理设备连接。
进气管与排气管之间连接设有气动阀；进气管与前段冷凝管、排气管与后段冷凝管之间皆连接设有手动阀。
进气管外侧设置用以侦测进气管内部的压力的压力侦测器。
触媒处理单元外侧进一步设有用以感测触媒处理单元内部温度的温度感测器。
后段冷凝管外侧进一步设有用以检测是否有残留含有全氟化合物气体未被完全的解离的气体侦测器。
基台本体一侧设置用以控制基台本体内部的各动作元件的控制单元。
控制单元上进一步设置数个控制按钮。
由于本发明设置于废气处理设备的一侧；其包含基台本体及设置于基台本体外部的进、排气管；进气管与废气处理设备连接；排气管接设用以将基台本体内部的气体排出的抽气单元；基台本体内部设有集水箱、与基台本体外部进气管连接的前段冷凝管、触媒处理单元、水处理单元及与基台外部的排气管连接的后段冷凝管；集水箱包括与前段冷凝管及触媒单元连接连接的第一集水箱及与水处理单元及后段冷凝管连接的第二集水箱；触媒单元与水处理单元之间以管路连接。使用时，将本发明设置于废气处理设备的一侧，当经由废气处理设备处理后含有全氟化合物的气体经由进气管进入基台本体内部时，利用前段冷凝管将含有全氟化合物气体内所夹带的水气转换为水溶状态，使水溶液留滞于第一集水箱中，而使含有全氟化合物的气体得以保持干燥进入触媒处理单元，借以将含有全氟化合物气体进行解离；尔后，经过解离后的气体，再经由管路引导至水处理单元内部，以对解离后的副产物进行水处理，并予以降温；然后将无毒性气体及水分导引至第二集水箱中，使水分得以留滞于第二集水箱中，最后再经由后段冷凝管解决所夹带的水气，并利用抽气单元将无毒性的气体经由排气管排于大气中，据以使排出后的气体不会对环境及人体造成危害。不仅能去除废气中夹带的全氟化合物、降低对环境污染，而且适用范围广，从而达到本发明的目的。
附图说明
图1、为习知的废气处理设备结构示意立体图。
图2、为本发明使用状态示意图。
图3、为本发明结构示意立体图。
图4、为本发明结构示意剖视图。
具体实施方式
本发明为设置于如图1所示的废气处理设备1的一侧。如图2、图3所示，本发明包含基台本体10，基台本体10的外部设有进气管11及排气管12。进气管11与废气处理设备1连接，用以导引废气处理设备1所排出的气体。排气管12接设抽气单元13，用以将基台本体10内部的气体排出。
如图4所示，基台本体10内部设有集水箱14、与基台本体10外部进气管11连接的前段冷凝管15、触媒处理单元16、水处理单元17及与基台外部10的排气管12连接的后段冷凝管18。
集水箱14包括与前段冷凝管15及触媒单元连接16连接的第一集水箱141及与水处理单元17及后段冷凝管18连接的第二集水箱142；触媒单元16与水处理单元17之间以管路19连接。
触媒处理单元16内部设有触媒管161。
水处理单元17内部设有喷水管171及吸附元件171。
第一集水箱141及第二集水箱142分别利用导接管20与废气处理设备1连接。
据以，当经由废气处理设备1处理后含有全氟化合物(PFC)的气体(如NF3、SF6、C2F6等气体)经由进气管11进入基台本体10内部时，利用前段冷凝管15将含有全氟化合物(PFC)气体内所夹带的水气转换为水溶状态，使水溶液留滞于第一集水箱141中，而使含有全氟化合物(PFC)的气体得以保持干燥进入触媒处理单元16，并利用触媒处理单元16内部的触媒管161将含有全氟化合物(PFC)，如NF3、SF6、C2F6气体进行解离，其化学式如下所示：
尔后，经过解离后的气体，再经由管路19引导至水处理单元17内部，由于水处理单元17内部设置喷水管171及吸附元件172(本实施例中将水处理单元17区隔为上、下层，且各层中连接设有喷水管171及吸附元件172)，俾可借由喷水管171进行洒水作业，而对解离后的副产物，如HF、F2、NOX、SOX、Si FX等气体进行水处理，并予以降温，其化学式如下：
HF(g)→HF(ag)
经由触媒处理单元16解离后的HF、F2、Si FX等气体，再经由水处理单元17将其转换为如HF(ag)、O2等无毒性气体后，将无毒性气体及水分导引至第二集水箱142中，使水分得以留滞于第二集水箱142中，最后再经由后段冷凝管18解决所夹带的水气，并利用抽气单元13将无毒性的气体经由排气管12排于大气中，据以使排出后的气体不会对环境及人体造成危害。
如上所述，由于水处理单元17内部设有吸附元件172，且吸附元件172为由陶瓷(即拉西环)构成，俾可借由吸附元件172增加水与解离后的气体，如HF、F2、Si FX等气体的接触面积及滞留时间，使解离后的气体，如HF、F2、Si FX等气体得以完全于水处理单元17中被分解为无毒气体。
此外，如图2、图3、图4所示，进气管11与排气管12之间连接设有气动阀30。气动阀30平常使用时呈关闭状态，而进气管11与前段冷凝管15、排气管12与后段冷凝管18之间皆连接设有手动阀40。手动阀40平常使用时呈开启状态。借此，当基台本体10内部发生故障的情形或进行保养或更换触媒管161时，得以利用将手动阀40截断进气管11与前段冷凝管15及排气管12与后段冷凝管18之间的通路，强迫气体由气动阀导30引至排气管12而排出，进而避免造成基台本体10内部损坏。
且进气管11外侧进一步设置压力侦测器50，用以侦测进气管11内部的压力。而触媒处理单元16外侧进一步设有温度感测器60，用以感测触媒处理单元18内部的温度，避免造成触媒处理单元16温度过高，造成触媒处理单元16的毁损；同时，于后段冷凝管18外侧进一步设有气体侦测器70，用以检测是否有残留含有全氟化合物(PFC)的气体未被完全的解离，以保持整体废气处理系统的的正常运作。
另外，在基台本体10外侧壁面上，设置控制单元80，控制单元80上进一步设置数个控制按钮81，控制按钮81用以控制基台本体10内部的各组件，以使整体废气处理系统在使用上得以更加便利。

Claims (12)

1、一种全氟化合物废气加强处理系统，它设置于废气处理设备的一侧；其特征在于它包含基台本体及设置于基台本体外部的进、排气管；进气管与废气处理设备连接；排气管接设用以将基台本体内部的气体排出的抽气单元；基台本体内部设有集水箱、与基台本体外部进气管连接的前段冷凝管、触媒处理单元、水处理单元及与基台外部的排气管连接的后段冷凝管；集水箱包括与前段冷凝管及触媒单元连接连接的第一集水箱及与水处理单元及后段冷凝管连接的第二集水箱；触媒单元与水处理单元之间以管路连接。
2、根据权利要求1所述的全氟化合物废气加强处理系统，其特征在于所述的触媒处理单元内部设有触媒管。
3、根据权利要求1所述的全氟化合物废气加强处理系统，其特征在于所述的水处理单元内部设有喷水管及吸附元件。
4、根据权利要求3所述的全氟化合物废气加强处理系统，其特征在于所述的水处理单元区隔为上、下层，且各层中连接设有喷水管及吸附元件。
5、根据权利要求3所述的全氟化合物废气加强处理系统，其特征在于所述的吸附元件为由陶瓷构成，
6、根据权利要求1所述的全氟化合物废气加强处理系统，其特征在于所述的第一集水箱及第二集水箱分别利用导接管与废气处理设备连接。
7、根据权利要求1所述的全氟化合物废气加强处理系统，其特征在于所述的进气管与排气管之间连接设有气动阀；进气管与前段冷凝管、排气管与后段冷凝管之间皆连接设有手动阀。
8、根据权利要求1所述的全氟化合物废气加强处理系统，其特征在于所述的进气管外侧设置用以侦测进气管内部的压力的压力侦测器。
9、根据权利要求1所述的全氟化合物废气加强处理系统，其特征在于所述的触媒处理单元外侧进一步设有用以感测触媒处理单元内部温度的温度感测器。
10、根据权利要求1所述的全氟化合物废气加强处理系统，其特征在于所述的后段冷凝管外侧进一步设有用以检测是否有残留含有全氟化合物气体未被完全的解离的气体侦测器。
11、根据权利要求1所述的全氟化合物废气加强处理系统，其特征在于所述的基台本体一侧设置用以控制基台本体内部的各动作元件的控制单元。
12、根据权利要求11所述的全氟化合物废气加强处理系统，其特征在于所述的控制单元上进一步设置数个控制按钮。
CN 200410062366 2004-07-06 2004-07-06 全氟化合物废气加强处理系统 Pending CN1718273A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN 200410062366 CN1718273A (zh) 2004-07-06 2004-07-06 全氟化合物废气加强处理系统

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN 200410062366 CN1718273A (zh) 2004-07-06 2004-07-06 全氟化合物废气加强处理系统

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN1718273A true CN1718273A (zh) 2006-01-11

Family

ID=35930299

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN 200410062366 Pending CN1718273A (zh) 2004-07-06 2004-07-06 全氟化合物废气加强处理系统

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN1718273A (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104437077A (zh) * 2014-11-10 2015-03-25 中国科学院生态环境研究中心 一种研究光催化处理挥发性有机物的装置
WO2023010643A1 (zh) * 2021-08-06 2023-02-09 福建德尔科技股份有限公司 一种高内聚能氟化物吸附剂、制备及应用

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104437077A (zh) * 2014-11-10 2015-03-25 中国科学院生态环境研究中心 一种研究光催化处理挥发性有机物的装置
WO2023010643A1 (zh) * 2021-08-06 2023-02-09 福建德尔科技股份有限公司 一种高内聚能氟化物吸附剂、制备及应用
JP7445764B2 (ja) 2021-08-06 2024-03-07 福建徳尓科技股▲ふん▼有限公司 高凝集エネルギーフッ化物吸着剤の製造方法及び応用

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100806011B1 (ko) 과불화물의 처리 방법 및 그 처리 장치
WO2011162023A1 (ja) ガス処理システム
WO2009125457A1 (ja) シラン系ガス及びフッ素系ガス含有排ガスの処理方法及び該方法を用いた排ガス処理装置
JP2023535850A (ja) ＦＴｒＰＳＡによるＨＦ／ＨＣｌ含有エッチング排ガスの分離と回収循環再利用方法
CN109078459A (zh) 一种吸收-吸附-解吸循环资源化回收挥发性有机气体的装置及技术
KR101410914B1 (ko) 과불화화합물의 분리 및 재활용시스템
CN1718273A (zh) 全氟化合物废气加强处理系统
TWI628358B (zh) 真空泵送及減量系統及沖洗一真空泵送及減量系統之一真空泵送配置之方法
CN109155233B (zh) 利用氧等离子体清洁循环的等离子体减量固体回避法
TWI542405B (zh) Condensate treatment equipment for organic gaseous pollutants
CN209501328U (zh) 一种废气处理装置
US20040185661A1 (en) Scrubber system for pretreatment of an effluent waste stream containing arsenic
CN210495655U (zh) 一种工业废气采集装置
CN208878234U (zh) 一种工业涂装废气处理装置
FI88462C (fi) Foerfarande foer avskiljning av dioxiner fraon gaser
CN219481979U (zh) 事故排风净化处理装置及系统
KR101092962B1 (ko) 플라즈마 배기가스 순환 시스템
CN118122114A (zh) 一种半导体生产加工中废气处理系统
CN216799341U (zh) 一种用于双螺杆挤出机的烟气处理装置
CN211987538U (zh) 一种塑料生产线用排烟装置
TWI682894B (zh) 氫氣回收再利用系統
CN214764475U (zh) 一种酸碱、有机废气排气系统
CN214437916U (zh) 一体化vocs废气处理装置
CN215585910U (zh) 一种VOCs有机废气处理装置
CN214422482U (zh) 一种地下水空气注入修复系统

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication