CN1525803A - 常压射频和直流混合型冷等离子体系统及其喷枪 - Google Patents
常压射频和直流混合型冷等离子体系统及其喷枪 Download PDFInfo
- Publication number
- CN1525803A CN1525803A CNA031047300A CN03104730A CN1525803A CN 1525803 A CN1525803 A CN 1525803A CN A031047300 A CNA031047300 A CN A031047300A CN 03104730 A CN03104730 A CN 03104730A CN 1525803 A CN1525803 A CN 1525803A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- electrode
- radio frequency
- direct current
- ground electrode
- radio
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
Abstract
一种常压射频和直流混合型冷等离子体系统及其喷枪,包括喷枪、射频电源、直流电源、供气源,其特征在与:该喷枪包括一外壳,该外壳一端与供气源连接,另一端设有喷口,于该外壳内设有射频电极和包覆在该射频电极外围的地电极,以及在地电极以外的直流电极,该射频电极与射频电源连接,该地电极接地,该直流电极与直流电源连接,该射频电极,该地电极和该直流电极之间分别设有绝缘体,该射频电极与该地电极之间形成射频放电区间,该地电极和该直流电极之间形成直流放电区间,该射频放电区间一端与进气导管相通,该进气导管与供气源连通,另一端通过地电极多孔喷口与该直流加速段贯通,经射频放电区间击穿电离后的等离子体,通过地电极多孔喷口流入直流加速段,再经直流加速段直流电场的进一步电离和加速后由外壳喷口向外喷出冷等离子体,放电是在常压下进行的。本发明能在大气压下稳定工作并产生低电压、大面积、由射频击穿电离,并有直流偏压进一步加速和电离的冷等离子体束流,从而为等离子体技术在清洗、杀菌、消毒等广泛领域的应用开辟了道路。
Description
【技术领域】
本发明涉及一种等离子体发生装置,尤指一种常压射频和直流混合型冷等离子体系统及其喷枪。
【背景技术】
等离子体技术是在近年才迅速发展起来的,并已得到广泛的应用,例如可用于:(1)微电子工业硅片清洗,替代目前的酸和去离子水清洗。(2)清洗所有的生化污染表面,包括被生化武器污染的表面和空间。(3)替代湿化学法,可用于制药和食品行业原位消毒。(4)用于医疗器件消毒和皮肤病的治疗。(5)用于清洗放射性材料表面,试验证明等离子体技术是目前唯一可行的手段,而目前世界上的废弃放射性材料只能填埋处理。(6)食品保鲜杀菌。(8)纺织企业衣料改性。(9)材料表面的改性。(10)刻蚀金属、半导体和电介质材料等。
在空气中,要使气体击穿电离产生等离子体需要几千伏的高压。目前生成等离子体主要有两种方式:一种是利用电弧产生等离子体,电弧放电时气体温度将高达3000℃以上,产生的直流热平衡等离子体炬,可用于金属的切割、焊接和表面喷涂。但高温的等离子体炬也限制了它的用途,因为它会烧毁所有面对的物品。另一种方式是利用电晕放电产生等离子体,但电晕放电难以产生均匀大面积等离子体,在几千伏的高压下,电流范围仅为微安培量级,一般只是用来产生臭氧作消毒用。现有的等离子体技术要使气体在非高压下击穿产生等离子体,并维持稳定大面积非热放电,只能在真空室中进行,从而限制了它的应用。
【发明内容】
本发明的目的在于提供一种常压射频和直流混合型冷等离子体系统及其喷枪,能在大气压下稳定工作并能产生多孔喷出的冷等离子体束流,从而为等离子体技术在清洗、杀菌、消毒等广泛领域的应用开辟了道路。
为了达到上述目的,本发明提供一种常压射频和直流混合型冷等离子体系统,包括喷枪、射频电源、直流电源、供气源,其特征在于:该喷枪包括一外壳,该外壳一端封闭,另一端设有喷口,于该外壳内设有射频电极和包覆在该射频电极外围的地电极,以及直流电极。该射频电极与该地电极之间设有绝缘体,该直流电极和该地电极之间也设有绝缘体,该射频电极与该地电极之间设有射频放电区间,该直流电极与该地电极之间设有直流放电区间,该直流放电区间称为直流加速段。该射频放电区间一端与进气导管相通,该进气导管与供气源连通,另一端通过地电极的多孔喷口与直流放电区间相通,该直流电极和地电极之间的绝缘体也设有一通孔,该通孔一段与供气源连通,另一端与直流加速段贯通,部分反应气体可由该通孔引入到直流加速段,经射频放电区电离后的等离子体再流经直流加速段对该等离子体进一步电离和加速后,经直流电极的喷口和外壳喷口喷出,放电是在常压下进行的。
所述的常压射频和直流混合型冷等离子体系统,其特征在于:该射频电源是13.56MHz或27.12MHz的射频电源。该等离子体放电是在正常大气压下进行的,并且是有射频低电压击穿气体,气体被射频击穿时的均方根电压为50伏至250伏范围。
所述的常压射频和直流混合型冷等离子体系统,其特征在于:经射频源击穿后的气体形成等离子体,该等离子体再经直流加速段偏压电场的进一步电离和加速后向外喷出,直流电源的功率小于500W。
所述的常压射频和直流混合型冷等离子体系统,其特征在于:该供气源所供气体是氩气或氦气。
所述的常压射频和直流混合型冷等离子体系统,其特征在于:该供气源所供气体是氩气或氦气与少量的反应气体或液体的混合气体。
所述的常压射频和直流混合型冷等离子体系统,其特征在于:该部分反应气体可通过直流电极和地电极之间的绝缘材料内的通气孔引入。
所述的常压射频和直流混合型冷等离子体系统,其特征在于:该射频电极,地电极和直流电极外围分别设有冷却循环水管。
本发明还提供一种常压射频和直流混合型冷等离子体喷枪,包括一外壳,该外壳一端封闭,另一端设有喷口,其特征在于:于该外壳内设有射频电极,中空的地电极和中空的直流电极,三个电极由金属材料制成并用绝缘材料相互绝缘,地电极包覆在该射频电极外围,该射频电极为圆锥形,其朝向外壳封闭端的一端的外径较大,朝向喷口的一端外径较小,该地电极的内腔具有与该射频电极对应的形状,该射频电极与射频电源连接,该地电极接地,该射频电极与该地电极之间位于外壳的封闭端处设有绝缘体,该射频电极与地电极之间形成射频放电区间,该射频放电区间一端与通气孔连通,该通气孔经进气导管通过减压阀与供气源连通,另一端与地电极的多口喷口相通。该直流电极与该地电极之间也设有绝缘体,该绝缘体内设有一空腔,该空腔设有对应地电极多孔喷口相同或较大的孔径,在该孔径内形成直流加速段,在该直流电极和该地电极之间的绝缘体内设有一通气孔,该通气孔一端通过进气导管与供气源连通,另一端与直流加速段相通,该直流加速段对喷出地电极后的等离子体和直接引入的部分反应气体起到进一步加速和电离的作用,经由直流加速段加速或电离后的冷等离子体通过直流电极喷口及外壳喷口向外喷出。放电是在常压下进行的。
本发明还提供一种常压射频和直流混合型冷等离子体喷枪,包括一外壳,其特征在于:于该外壳内设有射频电极,地电极和直流电极,该地电极包覆在该射频电极外围,该直流电极包覆在该地电极外围,该射频电极,该地电极和该直流电极均为中空的圆筒形,三个电极由金属材料制成并用绝缘材料相互绝缘,该射频电极的内腔通过绝缘材料通气孔与进气导管连通,该射频电极与该地电极之间设有圆筒形绝缘体,该绝缘体设有一沿其轴向贯通的长条形贯通槽,在该贯通槽形成射频放电区间,该射频电极周壁上对应该贯通槽设有多个通气孔,该地电极周壁上也设有多个对应该贯通槽的喷口;该地电极与该直流电极之间也设有圆筒形绝缘体,该绝缘体设有一与上述长条形贯通槽对应的沿其轴向贯通的长条形贯通槽,在该贯通槽形成直流加速段,该直流电极周壁上对应该直流加速段贯通槽设有多数喷口,通过射频放电区所产生的等离子体经由地电极的多个喷口流入直流加速段,再由直流加速段进一步电离和加速后,经直流电极的多数喷口及外壳喷口喷出。该射频电极与射频电源连接,该地电极接地,该直流电极与直流电源连接,该进气导管通过减压阀与供气源连通。
本发明还提供一种常压射频和直流混合型冷等离子体喷枪,包括一外壳,其特征在于:于该外壳内设有射频电极,地电极和直流电极,三个电极由金属材料制成并用绝缘材料相互绝缘,地电极包覆在该射频电极外围,该射频电极与地电极之间设有绝缘体,该射频电极包括互相连接的中空的小径段、过渡段及大径段,该小径段为外径较小的圆筒形,该过渡段为喇叭形,该大径段为外径较大的圆筒形,该大径段具有周壁和端壁,于该大径段的端壁上设有多数贯通孔,该小径段的内腔通过绝缘材料通气孔与进气导管连通,该进气导管通过减压阀与供气源连通,该地电极为圆形且具有与该射频电极对应的周壁和端壁,该地电极端壁上设有多数贯通孔,该射频电极与该地电极之间设有绝缘体,该绝缘体在相对该射频电极的端壁与该地电极的端壁之间设有一对应的一贯通孔,在该通孔形成射频放电区间,该射频电极大径段的端壁与该地电极的端壁平行;该直流电极为圆板形,该直流电极圆板面与该地电极的端壁平行,该直流电极与该地电极之间设有一绝缘体,该绝缘体内对应上述地电极多数通孔设有一直径相同或较大空腔,在该空腔内形成直流加速段,该直流电极设有对应该空腔的多数通孔,在该直流电极和该地电极之间的绝缘体内设有一通孔,该通孔一段与供气源连通,另一端与直流加速段连通。通过射频放电区所产生的冷等离子体经地电极的多个喷口流入直流加速段,再由直流加速段进一步电离和加速后,经过直流电极的多数喷口及外壳喷口喷出。该直流电极与直流电源连接,该地电极接地,该射频电极与射频电源连接。
所述的常压射频和直流混合型冷等离子体喷枪,其特征在于:该射频电源是13.56MHz或27.12MHz的射频电源。
所述的常压射频和直流混合型冷等离子体喷枪,其特征在于:经射频击穿后的气体形成等离子体,该等离子体再经直流加速段进一步电离和加速后向外喷出,直流电源的功率小于500W。
所述的常压射频和直流混合型冷等离子体喷枪,当其功率超过300瓦时,可在该射频电极,地电极和直流电极外围分别设冷却循环水管。
本发明的常压射频和直流混合型冷等离子体系统能在大气压下稳定工作,其优点是:1,采用射频电源在常压下能产生均匀大面积的冷等离子体,过去此类冷等离子体只能在真空室里发生。2,采用直流加速段,目的是对由射频源所产生的冷等离子体进一步电离和加速作用。3,所采用直流电源的放电功率小于500W,目的是用较小的直流偏压功率加速和电离后的等离子体仍是冷等离子体。4,部分反应气体可以通过直流电极和地电极之间的绝缘体内通孔引入直流放电区,目的是提高反应气体所占气体总量的比例。5,不但能用氦气作为载入工作气体,而且可以用氩气作为载入工作气体,并可以添加其它任何反应气体和液体成份。6,其喷出的等离子体束流温度通常小于200摄氏度,而喷出束流中几乎不含有离子成份。7,直接可以采用13.56MHz或27.12MHz的射频电源来激发放电,其击穿放电时的均方根电压仅为50伏至250伏之间,因此它不同于高压电晕放电,起辉频率范围为1至100千赫兹,起辉均方根电压为1至5千伏。
本发明的常压射频和直流混合型冷等离子体喷枪可喷出含有大量的亚稳态的活性成份的冷等离子体束流,由于是在大气压下,因此该束流几乎不含有离子成份。本发明的主要用途是:通过喷出的含有大量活性成份的大面积等离子体束流,可用于清洗所有有机物质所带来的表面污染和生物病毒或细菌所造成的表面污染,例如,用氧气作为反应气体时,其活性氧能很快与有机和生物体反应形成二氧化炭和水,由于束流温度较低,所以用它对被污染物体表面进行清洗和灭菌时不会对基底造成破坏,也不会带来二次污染。通过采用不同的反应气体,该等离子体喷枪可用于对物体表面进行改性,刻蚀有机和无机材料以及化学气相沉积薄膜材料。该等离子体喷枪所产生的大面积冷等离子体束流用于清洗所有有机物质所带来的表面污染和生物病毒或细菌所造成的表面污染时,具有无任何污染、清洗速度快(是传统湿化学方法的10至30倍)、不会对基底材料有任何损害、不受污染体空间和形状的限制,具有穿透性、成本非常低等优点。
通过改变放电功率,气体流量,气体成份可以控制等离子体束流喷出的长度和避免电极之间的拉弧现象。
【附图说明】
图1为本发明的第一种实施例的结构剖视示意图;
图2为本发明的第二种实施例的结构剖视示意图;
图3为本发明的第三种实施例的结构剖视示意图。
首先,请参阅图1,本发明的常压射频和直流混合型冷等离子体系统及其喷枪,包括喷枪、射频电源101、供气源102,该喷枪包括一外壳,该外壳由绝缘体104、地电极105、绝缘体111和绝缘体113构成,于该外壳内设有射频电极103,中空的地电极105和直流电极112,该射频电极103为圆锥形,其朝向外壳封闭材料104的一端的外径较大,朝向地电极多孔喷口115的一端外径较小,地电极105包覆在该射频电极103外围,该地电极105的内腔具有与该射频电极103对应的形状并在其端面上开设有多孔喷口115(图中黑白间隙所示,小圆孔的直径取值可为0.5至2.5毫米范围,在其端面上均布),该射频电极103通过射频电缆109与射频电源101连接,该地电极105接地,该射频电极103与地电极105之间靠近外壳的封闭端处设有绝缘体104,该绝缘体104内设有对称通孔120,该通孔与进气导管107连接,该进气导管107通过减压控制阀门106与供气源102连通,该射频电极103与地电极105之间形成射频放电区间108,该射频放电区间108一端与该地电极多孔喷口115相通。该直流电极112由绝缘材料111和绝缘材料113包覆,该绝缘材料113设有一喷口117,绝缘材料111内设有一内通气孔119,该内通气孔与进气导管122连通,该进气导管122通过气阀121和减压阀门106与供气源102连通,该直流电极平面上设有多孔喷口116(图中黑白间隙所示,小圆孔的直径取值可为0.5至2.5毫米范围,在其平面上均布),该直流电极与直流电源118连结,在该直流电极和该地电极端面之间的绝缘材料111的空腔114内形成直流放电区间,该直流放电空腔114称为直流加速段。该直流电极112,该地电极105及该射频电极103可由金属材料,如不锈钢,铝,铜等加工制成,绝缘体104、111及113可用陶瓷、聚四氟乙烯等绝缘材料。
射频电源101可采用13.56MHz或27.12MHz或其它频率的射频电源来激发放电,放电是在常压下进行的。
本发明的常压射频冷等离子体系统及其喷枪的射频电极103为圆锥形,建立圆锥筒形的放电区间108,因放电区间108的曲率半径不同,因此更有利于气体的击穿,设有直流加速段114,有利于进一步提高电离率和提高喷出等离子体束流的速度,进而提高喷出等离子体的长度;该射频电极103由射频源电缆109连接射频电源101。可采用氩气或氦气作为载入气体,并混入部分反应气体,气体流量可由控制减压阀门106和气体流量计来控制,进气导管107和122可采用外径为6毫米内径为4毫米或其它接近直径的气体导管,与喷枪连接处用橡皮圈密封。绝缘体104还起到密封电极术端的作用,绝缘体111和绝缘体113还起到对外绝缘直流电极112的绝缘保护作用,混合气体经过放电区间108后,由地电极多孔喷口115喷向直流加速段114,调节直流加速段的放电功率和电压,使喷出直流电极多孔喷口和外壳喷口117的冷等离子体束流适合各种应用的目的。
请参阅图2,本发明的第二种实施例。该喷枪射频电极202,地电极205和直流电极213均为中空的圆筒形,该射频电极202与该地电极205之间设有圆筒形绝缘体204,该直流电极213与该地电极205之间设有圆筒形绝缘体212,该射频电极202的内腔通过绝缘材料204内通气孔209与进气导管连通,该进气导管通过控制减压阀门206与供气源203连通,该绝缘体204设有一沿其轴向贯通的长条形贯通槽222,在该贯通槽222形成射频放电区间,该绝缘体212设有一沿其轴向对应贯通槽222的长条形贯通槽233,在该贯通槽233形成直流放电区间,称为直流加速段,该直流电极与直流电源218连接。在射频电极202周壁,地电极205周壁以及直流电极213周壁上分别对应该贯通槽222和贯通槽233设有多数通气孔221,223以及234(图中黑白间隙所示,小圆孔的直径取值可为0.5至2.5毫米范围,沿其周壁上均布),该上下贯通槽和二个电极上的多数通气孔相互贯通。该射频电极202由射频源电缆208连接射频电源201。
绝缘体215分别与三个电极之间的左侧端部由橡皮圈密封,绝缘材料215包覆在射频电极202端部和直流电极212端部使该两个电极对外绝缘。绝缘体214包覆直流电极213也是为了使该电极对外绝缘,在绝缘体214上对应直流电极213的多数喷口设有一个大喷口216。
混合气体被引入到射频电极空腔2020后,经过射频电极多个喷口221后进入到射频放电区间222,气体经射频电离后形成等离子体,该等离子体由地电极205周壁上所设的多数对应的喷口223喷向直流加速段233,调节直流加速段的放电功率和电压,使喷出直流电极多孔喷口234和外壳喷口216的冷等离子体束流适合各种应用的目的。
射频电源201可采用13.56MHz或27.12MHz或其它频率的射频电源来激发放电,放电是在常压下进行的。
上述第二实施例,其放电是在三个同心金属圆筒之间形成两个条状的放电区间放电区间,目的是把集中在一个较大的喷口的等离子体束流,分解为直径较小的等离子体束流,并使其分布在一个条形的区间向外喷出。直流加速段233对喷出地电极多数喷口223的等离子体起到进一步加速作用,该喷枪可以大大提高喷出束流的线宽度。
请参阅图3,本发明的第三种实施例的常压射频和直流混合型冷等离子体系统及其喷枪,该射频电极303包括互相连接的中空的小径段3031、过渡段3032及大径段3033,该小径段3031为外径较小的圆筒形,过渡段3032为喇叭形,该大径段3033为外径较大的圆筒形,该大径段3033具有周壁3034和端壁3035,于该大径段的端壁3035上设有多数贯通孔3036(图中黑白间隙所示,小圆孔的直径取值可为0.5至2.5毫米范围,在其端面上均布),该小径段3031的内腔305通过绝缘材料312内通气孔3042与该进气导管309连通,该进气导管309通过控制阀门307与供气源302连通,该射频电极303由射频源电缆308连接射频电源301。包覆在该射频电极303外围的地电极306亦为圆筒形且具有与该射频电极对应的周壁3061和端壁3062,该射频电极303与地电极306之间设有绝缘体304,该绝缘体304在相对该射频电极的端壁3035与该地电极的端壁3062之间设有一与上述贯通孔相对应的一通孔3041,在该通孔3041形成射频放电区间,该射频电极的端壁3035和该地电极的端壁3062平行,该地电极的端壁3062上对应通孔3041设有多数喷口311(图中黑白间隙所示,小圆孔的直径取值可为0.5至2.5毫米范围,在其端面上均布),包覆在地电极的右端部设有圆板形直流电极3210和绝缘体3501,该直流电极3210与地电极端壁3062平行,该绝缘材料3501内设有一对应地电极多数喷口311的通孔3052,在该通孔3052内形成直流加速段,该直流电极平面上对应直流加速段3052的通孔设有多数喷口313(图中黑白间隙所示,小圆孔的直径取值可为0.5至2.5毫米范围,在其平面上均布),直流电极3210通过导线与直流电极333连接,该绝缘材料3501内设有一内空3070,该内孔一端与进气导管3072连通,并通过控制阀门3071与供气源302连通,另一端与直流加速段3052贯通。缘材料312包覆射频电极303后端并用橡皮圈密封,绝缘体3501和绝缘材料3503包覆直流电极3210目的是使直流电极对外绝缘,绝缘材料3503设有对应直流电极的多数喷口313的外壳喷口339。
本使用新型可以在常压下直接击穿混合气体形成等离子体,混合气体通过射频电极喷口3036后进入到射频放电区间3041形成冷等离子体,该冷等离子体由地电极306端壁上的多数喷口311喷向直流加速段3052,调节直流加速段的放电功率和电压,使喷出直流电极多孔喷口313和外壳喷口339的冷等离子体束流适合各种应用的目的。部分反应气体可以通过绝缘材料3501的内孔3070直接引入到直流加速段3052,以便提高反应气体所占气体总量的比例,同时会避免直接引入过多反应气体(如超过总气体流量的5%)到射频放电区就容易形成电极之间拉弧或等离子体消失的现象。
射频电源301可以分别采用频率为27.12MHz和13.56MHz电源,两种电源都可以与等离子喷枪单独使用,在常压下可直接激发氩气形成稳定的冷氩等离子体。
上述第三实施例是使集中在一个较大的喷口的等离子体束流,分解为直径较小的多个等离子体束流向外喷出。该喷枪不但可大大提高了喷出束流的宽度,而且可以大大提高喷出束流的面积。
可以采用氩气或氦气作为载入工作气体,另外,可根据不同的需要,混合加入少量的反应气体或液体成份,如氧气,氮气,炭氟四,水等,反应气体所占总气体量的比例为5%以内。气体在放电区间被电离形成等离子体,然后通过喷口向外喷出带有大量活性原子和分子束流。根据需要选择放电时喷出等离子体的束流长度。
在放电功率大于300瓦时,应对两个电极采用水冷,例如在该射频电极和地电极外围分别设冷却循环水管。当放电功率小于300瓦时,没有必要使用水冷。
Claims (14)
1、一种常压射频和直流混合型冷等离子体系统,包括喷枪、射频电源、直流电源、供气源,其特征在于:该喷枪包括一外壳,该外壳一端封闭,另一端设有喷口,于该外壳内设有射频电极、包覆在该射频电极外围的地电极,以及直流电极。该射频电极与射频电源连接,该地电极接地,该直流电极与直流电源连接。该射频电极与地电极之间设有绝缘体,该直流电极和该地电极之间也设有绝缘体,该射频电极与地电极之间设有射频放电区间,该直流电极与该地电极之间设有直流放电区间,该直流放电区间称为直流加速段,该射频电极与该地电极之间的放电区间一端与进气导管相通,该进气导管与供气源连通,由该射频放电区间所产生的等离子体通过该地电极的多孔喷口进入直流加速段,再由直流加速段的直流偏压电场进一步加速和电离等离子体,后经由外壳喷口向外喷出冷等离子体,放电是在常压下进行的。
2、如权利要求1所述的常压射频和直流混合型冷等离子体系统,其特征在于:该射频电源采用是13.56MHz或27.12MHz的射频电源。该等离子体放电是在正常大气压下进行的,气体被射频击穿时的均方根电压为50伏至250伏范围。
3、如权利要求1所述的常压射频和直流混合型冷等离子体系统,其特征在于:经射频击穿后的气体形成等离子体,再经直流偏压段的偏压电场进一步电离和加速后向外喷出,直流偏压电源的放电功率小于500W。
4、如权利要求1所述的常压射频和直流混合型冷等离子体系统,其特征在于:该喷枪的外壳与地电极设计为一体。
5、如权利要求1所述的常压射频和直流混合型冷等离子体系统,其特征在于:该供气源所供气体是氩气或氦气。
6、如权利要求1所述的常压射频和直流混合型冷等离子体系统,其特征在于:该供气源所供气体是氩气或氦气与少量的反应气体或液体的混合气体
7、如权利要求1所述的常压射频和直流混合型冷等离子体系统,其特征在于:部分反应气体可通过直流电极和地电极之间的绝缘材料内的通气孔引入。
8、如权利要求1所述的常压射频和直流混合型冷等离子体系统,其特征在于:该射频电极,地电极以及直流电极外围分别设有水冷管。
9、一种常压射频和直流混合型冷等离子体系统及其喷枪,包括一外壳,该外壳一端封闭,另一端设有喷口,其特征在于:于该外壳内设有射频电极,中空的地电极和中空的直流电极,地电极包覆在该射频电极外围,该射频电极为圆锥形,该地电极的内腔具有与该射频电极对应的形状,该射频电极与射频电源连接,该地电极接地,该射频电极与地电极之间位于外壳的封闭端处设有绝缘体,在该绝缘体内设有通孔,该通孔与进气导管连通,该进气导管通过气体流量开关和气体减压阀与供气源连通,在该射频电极与地电极之间形成放电区间,该放电区间一端与进气导管相通,另一端与地电极多孔喷口相通;在该直流电极和该地电极之间设有绝缘材料,该绝缘材料内设有一空腔,在该空腔形成直流加速放电区,经过地电极多孔喷口喷出的等离子体进入直流电极与地电极之间的直流加速段,等离子体经直流加速段进一步电离和加速后,再经过直流电极多孔喷口和外壳喷口喷出。部分反应气体可由该直流电极和地电极之间的绝缘材料内的通孔引入到直流加速段。
10、一种常压射频和直流混合型冷等离子体喷枪,包括一外壳,其特征在于:该外壳是圆筒形,沿其轴向设有一条形喷口,于该外壳内设有射频电极,地电极和直流电极,该地电极包覆在该射频电极外围,该直流电极包覆在该地电极周围,该射频电极,该地电极和该直流电极均为中空的圆筒形,该射频电极的内腔通过绝缘材料通孔与进气导管连通,该进气导管通过减压阀与供气源连通。该射频电极与该地电极之间设有圆筒形绝缘体,该绝缘体设有一沿其轴向贯通的长条形贯通槽,在该贯通槽形成射频放电区间,该射频电极周壁上对应该贯通槽设有多数通气孔,该地电极周壁上也设有多数对应该贯通槽的喷口;该地电极与该直流电极之间也设有圆筒形绝缘体,该绝缘体设有一与上述对应的贯通槽沿其轴向贯通的长条形贯通槽,在该贯通槽内形成直流加速段,该直流电极周壁上对应该直流加速段贯通槽设有多数喷口,经射频放电区电离后的等离子体流过直流加速段,并得到进一步电离加速后经直流电极多数喷口和外壳喷口喷出。该射频电极与射频电源连接,该地电极接地,该直流电极与直流电源连接。
11、一种常压射频和直流混合型冷等离子体喷枪,包括一外壳,其特征在于:于该外壳内设有射频电极,地电极和直流电极,该地电极包覆在该射频电极外围,该射频电极与该地电极之间设有绝缘体,该直流电极与该地电极之间也设有绝缘体,该射频电极包括互相连接的中空的小径段、过渡段及大径段,该小径段为外径较小的圆筒形,该过渡段为喇叭形,该大径段为外径较大的圆筒形,该大径段具有周壁和端壁,于该大径段的端壁上设有多数贯通孔,该小径段的内腔通过绝缘材料通孔与进气导管连通,该进气导管通过减压阀与供气源连通,该地电极为圆筒形且具有与该射频电极对应的周壁和端壁,该射频电极和该地电极的端壁上设有多数喷口,该射频电极与该地电极之间设有绝缘体,该绝缘体在对应该射频电极的端壁与该地电极的端壁之间设有一贯通孔,在该通孔形成射频放电区间;该直流电极为圆板形且具有与该地电极端壁相对应的通孔,该直流电极平面与该地电极的端壁平行,在该直流电极与该地电极之间设有绝缘体,在该绝缘体内设有一与上述贯通孔相对应的一空腔,在该空腔形成直流加速段,在该绝缘体内还设有一内孔,该内孔一端与进气导管连通,另一端与直流加速段贯通,部分反应气体还可以通过直流电极和地电极之间的绝缘体内通孔引入到该直流加速段,该直流电极由绝缘材料包覆,并设有一对应外壳喷口。直流电极与直流电源连接,地电极接地,射频电极与射频电源连接。
12、如权利要求8或9或10所述的常压射频和直流混合型冷等离子体喷枪,其特征在于:该射频电源是13.56MHz或27.12MHz的射频电源,气体被击穿的均方根电压为50伏至250伏。
13、如权利要求8或9或10所述的常压射频和直流混合型冷等离子体喷枪,其特征在于:该射频电极,地电极和直流电极的对应放电面上有多数均布的小孔,小孔的直径取值可为0.5至2.5毫米范围。
14、如权利要求8或9或10所述的常压射频和直流混合型冷等离子体喷枪,其特征在于:经射频源击穿后的气体形成等离子体,该等离子体流经直流加速段得到直流电场的进一步电离和加速向外喷出冷等离子体束流。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CNA031047300A CN1525803A (zh) | 2003-02-27 | 2003-02-27 | 常压射频和直流混合型冷等离子体系统及其喷枪 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CNA031047300A CN1525803A (zh) | 2003-02-27 | 2003-02-27 | 常压射频和直流混合型冷等离子体系统及其喷枪 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN1525803A true CN1525803A (zh) | 2004-09-01 |
Family
ID=34282345
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CNA031047300A Pending CN1525803A (zh) | 2003-02-27 | 2003-02-27 | 常压射频和直流混合型冷等离子体系统及其喷枪 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN1525803A (zh) |
Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100405879C (zh) * | 2006-06-07 | 2008-07-23 | 清华大学 | 基于双气体源的大气压放电冷等离子体发生器 |
CN100484361C (zh) * | 2006-02-24 | 2009-04-29 | 清华大学 | 基于缩放通道结构的大气压放电冷等离子体发生器及阵列 |
CN102065626A (zh) * | 2011-01-21 | 2011-05-18 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 大气压低温等离子体电刷发生装置及其阵列组合 |
CN102291924A (zh) * | 2011-08-10 | 2011-12-21 | 苏州工业职业技术学院 | 一种新型等离子体处理装置 |
CN102896113A (zh) * | 2011-07-26 | 2013-01-30 | 中国科学院微电子研究所 | 一种新型的双介质阻挡常压等离子体自由基清洗喷枪 |
CN102921676A (zh) * | 2011-08-10 | 2013-02-13 | 中国科学院微电子研究所 | 一种新型的具有排气功能的常压等离子体自由基清洗喷枪 |
CN102921674A (zh) * | 2011-08-10 | 2013-02-13 | 中国科学院微电子研究所 | 一种新型的水冷常压等离子体自由基清洗喷枪 |
CN102921675A (zh) * | 2011-08-10 | 2013-02-13 | 中国科学院微电子研究所 | 一种新型的大面积放电的常压等离子体自由基清洗喷枪 |
WO2013149482A1 (zh) * | 2012-04-05 | 2013-10-10 | 中国科学院微电子研究所 | 一种新型常压双射频电极的等离子体自由基清洗喷枪 |
CN105555001A (zh) * | 2015-12-08 | 2016-05-04 | 上海至纯洁净系统科技股份有限公司 | 一种常压辉光等离子体装置 |
CN106647182A (zh) * | 2016-12-26 | 2017-05-10 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种处理基板表面碳化光阻的方法及装置 |
WO2017186119A1 (zh) * | 2016-04-27 | 2017-11-02 | 烟台海灵健康科技有限公司 | 一种冷等离子体疾病治疗系统及其使用方法 |
CN109088213A (zh) * | 2018-07-03 | 2018-12-25 | 镇江市华展电子科技有限公司 | 弯式射频连接器外壳 |
CN109587921A (zh) * | 2018-11-16 | 2019-04-05 | 中国科学院合肥物质科学研究院 | 一种耦合高能电子的等离子体射流发生装置 |
CN109890120A (zh) * | 2019-03-22 | 2019-06-14 | 西安交通大学 | 一种高低压等离子体发生器及密闭爆发器 |
KR20200095906A (ko) * | 2019-02-01 | 2020-08-11 | 국방과학연구소 | 플라즈마 발생장치 및 플라즈마를 이용한 코팅장치 |
CN113556855A (zh) * | 2021-07-22 | 2021-10-26 | 重庆大学 | 一种三电极双源激励等离子体发生装置 |
WO2021226751A1 (zh) * | 2020-05-09 | 2021-11-18 | 蒂森灭菌科技(孝感)有限公司 | 一种可调连续流等离子体消毒灭菌方法及其对应的消毒灭菌设备 |
-
2003
- 2003-02-27 CN CNA031047300A patent/CN1525803A/zh active Pending
Cited By (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100484361C (zh) * | 2006-02-24 | 2009-04-29 | 清华大学 | 基于缩放通道结构的大气压放电冷等离子体发生器及阵列 |
CN100405879C (zh) * | 2006-06-07 | 2008-07-23 | 清华大学 | 基于双气体源的大气压放电冷等离子体发生器 |
CN102065626A (zh) * | 2011-01-21 | 2011-05-18 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 大气压低温等离子体电刷发生装置及其阵列组合 |
CN102065626B (zh) * | 2011-01-21 | 2012-12-19 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 大气压低温等离子体电刷发生装置及其阵列组合 |
CN102896113A (zh) * | 2011-07-26 | 2013-01-30 | 中国科学院微电子研究所 | 一种新型的双介质阻挡常压等离子体自由基清洗喷枪 |
CN102921676A (zh) * | 2011-08-10 | 2013-02-13 | 中国科学院微电子研究所 | 一种新型的具有排气功能的常压等离子体自由基清洗喷枪 |
CN102921674A (zh) * | 2011-08-10 | 2013-02-13 | 中国科学院微电子研究所 | 一种新型的水冷常压等离子体自由基清洗喷枪 |
CN102921675A (zh) * | 2011-08-10 | 2013-02-13 | 中国科学院微电子研究所 | 一种新型的大面积放电的常压等离子体自由基清洗喷枪 |
CN102291924B (zh) * | 2011-08-10 | 2013-03-20 | 苏州工业职业技术学院 | 一种新型等离子体处理装置 |
CN102291924A (zh) * | 2011-08-10 | 2011-12-21 | 苏州工业职业技术学院 | 一种新型等离子体处理装置 |
WO2013149482A1 (zh) * | 2012-04-05 | 2013-10-10 | 中国科学院微电子研究所 | 一种新型常压双射频电极的等离子体自由基清洗喷枪 |
CN105555001A (zh) * | 2015-12-08 | 2016-05-04 | 上海至纯洁净系统科技股份有限公司 | 一种常压辉光等离子体装置 |
WO2017186119A1 (zh) * | 2016-04-27 | 2017-11-02 | 烟台海灵健康科技有限公司 | 一种冷等离子体疾病治疗系统及其使用方法 |
CN106647182A (zh) * | 2016-12-26 | 2017-05-10 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种处理基板表面碳化光阻的方法及装置 |
CN106647182B (zh) * | 2016-12-26 | 2018-11-23 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种处理基板表面碳化光阻的方法及装置 |
CN109088213A (zh) * | 2018-07-03 | 2018-12-25 | 镇江市华展电子科技有限公司 | 弯式射频连接器外壳 |
CN109587921A (zh) * | 2018-11-16 | 2019-04-05 | 中国科学院合肥物质科学研究院 | 一种耦合高能电子的等离子体射流发生装置 |
KR20200095906A (ko) * | 2019-02-01 | 2020-08-11 | 국방과학연구소 | 플라즈마 발생장치 및 플라즈마를 이용한 코팅장치 |
KR102211843B1 (ko) * | 2019-02-01 | 2021-02-03 | 국방과학연구소 | 플라즈마 발생장치 및 플라즈마를 이용한 코팅장치 |
CN109890120A (zh) * | 2019-03-22 | 2019-06-14 | 西安交通大学 | 一种高低压等离子体发生器及密闭爆发器 |
CN109890120B (zh) * | 2019-03-22 | 2020-06-19 | 西安交通大学 | 一种高低压等离子体发生器及密闭爆发器 |
WO2021226751A1 (zh) * | 2020-05-09 | 2021-11-18 | 蒂森灭菌科技(孝感)有限公司 | 一种可调连续流等离子体消毒灭菌方法及其对应的消毒灭菌设备 |
CN113556855A (zh) * | 2021-07-22 | 2021-10-26 | 重庆大学 | 一种三电极双源激励等离子体发生装置 |
CN113556855B (zh) * | 2021-07-22 | 2022-06-10 | 重庆大学 | 一种三电极双源激励等离子体发生装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN1525803A (zh) | 常压射频和直流混合型冷等离子体系统及其喷枪 | |
US5961772A (en) | Atmospheric-pressure plasma jet | |
Selwyn et al. | Materials Processing Using an Atmospheric Pressure, RF‐Generated Plasma Source | |
CN2604846Y (zh) | 常压射频圆筒形外射冷等离子体发生器 | |
JP5891341B2 (ja) | プラズマ生成装置及び方法 | |
US20020129902A1 (en) | Low-temperature compatible wide-pressure-range plasma flow device | |
US6262523B1 (en) | Large area atmospheric-pressure plasma jet | |
US20050093458A1 (en) | Method of processing a substrate | |
US4902870A (en) | Apparatus and method for transfer arc cleaning of a substrate in an RF plasma system | |
KR20040048272A (ko) | 대기압 플라즈마를 이용한 표면처리장치 | |
CN2604845Y (zh) | 常压射频和直流混合型冷等离子体发生器 | |
JP4044397B2 (ja) | プラズマ表面処理装置 | |
CN1223241C (zh) | 常压射频冷等离子体系统及其喷枪 | |
US7754994B2 (en) | Cleaning device using atmospheric gas discharge plasma | |
CN2604847Y (zh) | 常压射频圆筒形内射冷等离子体发生器 | |
JPH10199697A (ja) | 大気圧プラズマによる表面処理装置 | |
CN2571127Y (zh) | 常压射频冷等离子体发生器 | |
CN2604848Y (zh) | 一种新型的常压射频冷等离子体发生器 | |
CN2682773Y (zh) | 常压射频低温冷等离子体放电通道装置 | |
KR100420129B1 (ko) | 다중전극 배열을 이용한 플라즈마 표면처리장치 | |
US20050008550A1 (en) | Low-power atmospheric pressure mini-plasma and array for surface and material treatment | |
Li et al. | Radio‐Frequency, Atmospheric‐Pressure Glow Discharges: Producing Methods, Characteristics and Applications in Bio‐Medical Fields | |
JPH05506836A (ja) | オゾン発生装置用誘電体と誘電体への成膜方法 | |
KR20050024172A (ko) | 대기압 플라즈마 표면처리장치 및 표면처리방법 | |
JP2002151476A (ja) | レジスト除去方法及びその装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |