CN1521564A - 曝光装置及其用以制作彩色滤光片的方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种光致抗蚀剂涂覆及曝光的方法，包括有下列步骤：首先，提供一基板，之后，再提供一光致抗蚀剂涂覆器，以在此基板上涂覆多个条状光致抗蚀剂区，接着，提供一曝光装置，该曝光装置含有一光源，用来产生一曝光用的光线，另含有一具有预定图案的光掩模，置于此光源与此基板之间。然后，对此多个条状光致抗蚀剂区进行一曝光程序，通过此基板与此光掩模的一相对性移动，使此光掩模上的预定图案被转写成此基板上的一条状曝光图案。

Description

曝光装置及其用以 制作彩色滤光片的方法

技术领域

本发明涉及一种曝光装置及一种光致抗蚀剂涂覆及曝光的方法，特别是涉及一种应用在制作液晶显示面板的彩色滤光镜(color filter)的曝光装置及其方法。

背景技术

薄膜晶体管平面显示器，特别是薄膜晶体管液晶显示器(以下简称TFT-LCD)，主要是利用成矩阵状排列的薄膜晶体管，配合适当的电容、转接垫等电子组件来驱动液晶像素，以产生丰富亮丽的图形。由于TFT-LCD具有外型轻薄、耗电量少以及无辐射污染等特性，因此被广泛地应用在笔记本计算机(notebook)、个人数字助理(PDA)等便携式信息产品上，甚至已有逐渐取代传统桌上型计算机的CRT监视器的趋势。

传统的TFT-LCD基本上包括有一下基板，其上具有许多排列成数组的薄膜晶体管、像素电极(pixel electrode)、互相垂直交错(orthogonal)的扫描线(scan or gate line)以及信号线(data or signal line)、一具有彩色滤光镜(colorfilter)的上基板、以及填充于下基板与上基板之间的液晶材料，其中上基板与下基板可为透明的玻璃基板。而在TFT-LCD所使用的材料中，彩色滤光镜的成本约占三分之一。一般而言，彩色滤光镜的制作是先在下基板涂覆负光致抗蚀剂材料，然后经过曝光及显影制作工艺而形成。由于目前所使用的光掩模尺寸过大，因此在制作光掩模上必须花费大笔的成本。而目前市场上TFT-LCD的竞争激烈，各家厂商都尽全力在降低制作成本，以降低售价来吸引消费者，因此如何减小光掩模尺寸便成为可降低成本的方向之一。

请参照图1与图2，图1与图2为现有制作液晶显示面板的曝光装置的示意图。一般而言，图1为现有制作液晶显示面板中彩色滤光镜的曝光装置，而图2为现有制作液晶显示面板中薄膜晶体管基板的曝光装置。如图1所示，一曝光装置10包括有一固定不动的光源12、一光掩模14位于光源12下方以及一基板16位于光掩模14下方，并且光掩模14与基板16的大小相当。其中基板16可为一玻璃基板，其上并设有黑色条纹(black matrix，BM)(未显示)，用以提高LCD对比以及防止TFT组件产生光漏电流与遮掩LCD显示时的一些斜漏光。此外，基板16上还涂覆有一负光致抗蚀剂层并覆盖住黑色条纹，其中负光致抗蚀剂层用来作为彩色滤光镜上的R/G/B色层。

然后进行一曝光程序，以将光掩模14上的预定图案转移至基板16上的负光致抗蚀剂层。接着进行一显影制作工艺，以去除未被光源照射的负光致抗蚀剂层。重复前述的曝光及显影制作工艺数次，彩色滤光镜上的R/G/B色层便可形成在基板16上。其中该曝光程序是将光掩模14与基板16同时固定不动，以使光源12较长时间且全面地照射到整个光掩模14，进而将光掩模14上的预定图案完整地转移至基板16上的负光致抗蚀剂层。该曝光程序采用一近接式(proximity)曝光技术，其中光掩模14与基板16的间距g约为100～200微米(μm)。其中，光掩模14的大小与基板16的大小约略相等。

如图2所示，一曝光装置20包括有一固定不动的光源22、一光掩模24位于光源22下方以及一基板26位于光掩模24下方，并且光掩模24的大小约为基板26的四分之一，而光掩模24与基板26间还设置有一光学系统28，用以将通过光掩模24的光线传递至基板26上。如同前面所述，基板26为一玻璃基板，其上可视实际需要涂覆一负光致抗蚀剂层或正光致抗蚀剂层。其中基板26包括有四个液晶显示面板的玻璃基板。

首先进行一曝光程序，将光掩模24对准基板26上的区域26a后，再以相同的速度同步地移动光掩模24与基板26，以使光掩模24上的预定图案转移至基板26的区域26a。待完成区域26a的曝光程序之后，移动基板26使光掩模24对准基板26上的区域26b，再重复前述的曝光程序。待依序完成基板26上各个区域的曝光程序后，接着进行一显影制作工艺，以去除未被光源照射的负光致抗蚀剂层。其中，光掩模24的大小约等于一个区域26a的大小，所以以图2为例，光掩模24的大小约等于基板26的1/4。

由于在制作TFT-LCD的制作工艺中，预定图案转移的分辨率(resolution)要求并不像半导体制作工艺那么高，因此前述的两种现有技术都可能广泛地应用在制作彩色滤光镜上。然而基板16与基板26的大小约为620mm×750mm，其相对应所使用的光掩模的费用相当高昂。因此，若能有效地减小光掩模的尺寸，势必能大幅度地减少TFT-LCD的制作成本。

另外，在基板上覆盖一负光致抗蚀剂层或正光致抗蚀剂层，一般是以旋转式来进行涂覆(spin coating)的。作法是将基板放置在一旋转台上，旋转台下方的轴心可带动旋转台转动，且轴心里提供一适当的真空度以吸住基材，而光致抗蚀剂液则自基板上方洒下，利用基板转动的离心力，而往基板外围移动，最后形成一层厚度均匀的光致抗蚀剂层。然而，现今的基板尺寸越来越大，要转动基板越来越不易，因此传统的旋转式涂覆已无法使光致抗蚀剂层的厚度达到完全均匀。

发明内容

本发明的目的在于提供一种曝光装置及一种光致抗蚀剂涂覆及曝光的方法，不但可减小光掩模的尺寸，更可使制作的液晶显示面板容易分割，进而降低制作成本。

根据本发明的目的，提出一种光致抗蚀剂涂覆及曝光的方法，包括有下列步骤：首先，提供一基板。之后，提供一光致抗蚀剂涂覆器，以在此基板上涂覆多个条状光致抗蚀剂区。接着，提供一光源，用来产生一曝光用的光线。之后，提供一具有预定图案的光掩模，置于此光源与此基板之间。然后，对此多个条状光致抗蚀剂区进行一曝光程序，通过此基板与此光掩模产生的相对性移动，使此光掩模上的预定图案被转写成此基板上的一条状曝光图案。

根据本发明的另一目的在于提供一种光致抗蚀剂涂覆装置，用来在一基板上均匀涂覆光致抗蚀剂液。此涂覆装置包括有一光致抗蚀剂涂覆器、一光致抗蚀剂供应器、以及一基座。光致抗蚀剂涂覆器具有多个栅状开口，光致抗蚀剂供应器用以供应光致抗蚀剂液至光致抗蚀剂涂覆器，而基座是用以乘载此基板。其中，此基板可与此光致抗蚀剂涂覆器产生一相对移动以使此光致抗蚀剂涂覆器可在此基板上涂覆出多个条状光致抗蚀剂区。

根据本发明的再一目的在于提出一种曝光装置，用来对一基板上的一光致抗蚀剂层进行曝光。此曝光装置包括有一光源、一光掩模、以及一基座。光源用以产生一曝光用的光线。光掩模置于此光源及此基板之间，其具有一预定图案。而基座则是用以乘载此基板。其中，当对此光致抗蚀剂层进行曝光程序时，通过此基板与此光掩模的一相对性移动，使此光掩模上的此预定图案被转写成此基板上的一条状曝光图案。

由于本发明将光掩模尺寸缩小至与光掩模上的受光区域的大小相当，并同时固定光掩模与光源，通过移动承载基板的基座以将光掩模上的图案转移至基板上。因此可达到减小光掩模的尺寸，进而降低制作成本的功效。另外，本发明另提供一种气浮式系统以稳定地承载基板，此气浮式系统可分别应用在曝光装置与光致抗蚀剂涂覆装置的基座上。

附图说明

图1及图2为现有制作液晶显示面板的曝光系统的示意图；

图3为本发明较佳实施例的曝光装置的示意图；

图4A为图3中气浮式系统的示意图；

图4B为图4A中光致抗蚀剂涂覆器的放大示意图；

图5为图3的曝光装置简化后的放大示意图；

图6A及图6B为本发明一较佳实施例的以非旋转式涂覆法制作n块液晶显示面板的示意图；

图7A为PA型基座的示意图；

图7B为PV型基座的示意图；

图7C为本发明一较佳实施例的气浮式系统的示意图。

具体实施方式

本发明提供一种曝光装置，通过使基板与光掩模间产生相对性移动，即可使该光掩模上的预定图案被转写成基板上的一条状曝光图案。如此，可缩小光掩模的尺寸使其大小仅为基板的十分之一左右。此外，此曝光装置可另含一气浮式系统以稳定带动基板，使基板对光掩模产生相对性的移动。再者，本发明较佳可再另含一光致抗蚀剂涂覆器用以均匀涂覆多个条状光致抗蚀剂区于基板上，以使本发明也可使制作液晶显示面板的过程更为简易。

请参照第3图，其绘示本发明的较佳实施例的曝光装置的示意图。曝光装置30用来对一基板36上的一光致抗蚀剂层进行曝光。曝光装置30包括有一光源31、一光掩模32与一基座35。光源31用以产生一曝光用的光线。光掩模32置于光源31及基板36之间，其具有一预定图案。基座35则是用以乘载基板36。一弧形的受光区域33形成在光掩模32上。其中，光掩模32上具有多个呈规则排列的开口(slit)32a。当对光致抗蚀剂层进行曝光程序时，通过基板36与光掩模32的一相对性移动，使光掩模32上的预定图案被转写成基板36上的一条状曝光图案。

其中，基座35还包括一气浮式系统38(air-float system)(显示于图7A与图7B中)与一传动部37(显示于图4A中)。请参照图4A，其绘示图3中气浮式系统的示意图。如图4A所示，基座35上还具有具有与传动部37耦接的一固定部34a，固定部34a用以带动基板36。传动部37透过固定部34a带动基板36。气浮式系统38用以乘载基板36，使基板36悬浮于基座35上方，并保持一定间距，而传动部37则与气浮式系统38连接，用以承载并带动基板36，使基板36可在基座35上方稳定地来回移动。此外，基座35上方也可架设一光致抗蚀剂涂覆器34b。关于基座35内与传动部37连接的气浮式系统38，将配合图7A与图7B，在下文中说明。

请同时参照图4B，其为图4A中光致抗蚀剂涂覆器的放大示意图。光致抗蚀剂涂覆器34b与一管线34g连接，并利用压力泵34c将光致抗蚀剂液34d输送至光致抗蚀剂涂覆器34b，然后经由下方开口(lip)34e将光致抗蚀剂液均匀涂覆在基板36上。若光致抗蚀剂涂覆器34b与基板36之间距离均一，基板36本身稳定地移动，以及光致抗蚀剂涂覆器34b本身的开口均一，则在基板36上可形成一具有均匀厚度的光致抗蚀剂层34f。

另外，图3中光源31与光掩模32之间还可包括一塑光光学系统(beamforming optical system)(未显示)，用来将光源31所发射出的光线转换成一弧形光束(arcuate beam)33a，然后投射至光掩模32上而形成受光区域33。在本发明的另一实施例中，前述的塑光光学系统(未显示)也可将光源31所投射出的光线转换成一矩形光束(rectangular beam)。当进行曝光程序时，光源31与光掩模32都固定不动，通过基座35上的传动部37移动悬浮的基板36，以逐步地将光掩模32上的图案转移至基板36上以形成条状曝光图案。其将在以下详细描述曝光程序。

请参照图5，其绘示图3的曝光装置简化后的放大示意图。如图5所示，曝光装置中有一基板36上包括有四个液晶显示面板的玻璃基板36a、36b、36c及36d，其上设有黑色条纹(未显示)，并涂覆有一负光致抗蚀剂层。首先进行一曝光程序，先利用基座35移动基板36，以使基板36上的区域36a移动至光掩模32及受光区域33下方适当的位置。接着，基座35的传动部以一预定速度将基板36沿着箭头A所指的方向移动，以使光掩模32上的预定图案逐步地转移至区域36a上的负光致抗蚀剂层。待完成区域36a的曝光程序后，再将基板36继续沿着箭头A所指的方向移动，以使光掩模32上的预定图案继续逐步地转移至区域36b上的负光致抗蚀剂层。待完成区域36a与区域36b的曝光程序后，接着移动基板36，以使基板36上的区域36c移动至光掩模32及受光区域33下方适当的位置。然后，基板36沿着箭头A所指的方向移动，以使光掩模32上的预定图案逐步地转移至区域36c及区域36d上的负光致抗蚀剂层。

弧形的受光区域33垂直于基板36移动方向的左右两端的间距与光掩模32的长度大致相同。弧形的受光区域33平行于基板36移动方向的前后两端之间距与光掩模32的宽度大致相同。同样地，若使用矩形受光区时，矩形的受光区域垂直于基板36移动方向的左右两端之间距与光掩模32的长度大致相同。而矩形的受光区域平行于基板36移动方向的前后两端之间距与光掩模32的宽度大致相同。

其中，上述区域36a、36b、36c及36d的曝光顺序可以对调，其主要的特征是在于固定光源31与光掩模32，通过基座35移动基板36以完成曝光程序。其中光掩模32的宽度及长度分别为W及L，受光区域的宽度、长度及开口宽度分别为W’、L’及t，而任一玻璃基板36a、36b、36c及36d的宽度及长度分别为W”及L”。在本发明的较佳实施例中，W’略小于W，L’略小于L，t约等于条状的彩色滤光片的宽度，而W约为W”的1/3至1/4，L约略等于L”，即光掩模32的尺寸大小仅为基板36的十分之一左右，远比现有技术中所需的光掩模缩小许多。

接着，进行一显影制作工艺，以去除基板36上未被光线所照射的负光致抗蚀剂层。重复上述涂覆负光致抗蚀剂层、曝光及显影制作工艺数次，便可将彩色滤光镜的R/G/B色层制作于玻璃基板36a、36b、36c及36d上。其中，如图5所示，基板36上的周边区域36e用来区隔液晶显示面板36a、36b、36c及36d，因此是不希望受光的区域，使显影后此周边区域36e的负光致抗蚀利层被洗去。为顺利分割液晶显示面板36a、36b、36c及36d，可利用以下几种方式：

(1)在曝光过程中，以活动式的挡片(Dynamic mask blade)在适当的时间点插入基材上方以挡住光线，使周边区域36e上的负光致抗蚀剂层不会受到光的照射。

(2)在曝光过程中，另外加入一遮蔽装置(shield frame)，如一框架式光掩模于光掩模32与基板36之间，以使周边区域36e上的负光致抗蚀剂层不会受到光的照射。

(3)利用非旋转式涂覆将负光致抗蚀剂层有间距地覆盖在基板上以形成多个条状光致抗蚀剂区，然后再进行曝光。

(4)使用动态光掩模(active mask)如液晶型光掩模，利用电压让液晶分子转向以挡住光线、或是让光线通过。

(5)RGB使用正型光致抗蚀剂(positive type resist)，并对周边区域36e另进行曝光。

在上述方法中，又以第(3)种方式最具经济效益，不但简便、省时，分割效果也最好。以下即针对如何利用非旋转式涂覆法在一大片基板上涂覆9块液晶显示面板的光致抗蚀剂层的方法做进一步之叙述。

本发明使用一光致抗蚀剂涂覆装置来完成上述的第(3)种方式。光致抗蚀剂涂覆装置用来在基板76上均匀涂覆光致抗蚀剂液，其包括有光致抗蚀剂涂覆器71、一光致抗蚀剂供应器与基座35。光致抗蚀剂涂覆器71具有多个栅状开口。光致抗蚀剂供应器可以如图4A所示，由管线与压力泵等所组成，用以供应光致抗蚀剂液至光致抗蚀剂涂覆器71。而基座35则如上文所述，用以乘载基板76。其中，基板76可与光致抗蚀剂涂覆器71产生一相对移动以使光致抗蚀剂液在基板76上形成多个条状光致抗蚀剂区。

将本发明使用光致抗蚀剂涂覆装置，来形成光致抗蚀剂层的方法叙述如下。首先，如图6A所示，利用光致抗蚀剂涂覆器71在基板76上沿着Y方向进行光致抗蚀剂液涂覆，其中光致抗蚀剂涂覆器71具有3个栅状开口，且这些栅状开口相隔一间隙，因此涂覆出三条长条状的光致抗蚀剂区72a、72b、72c。接着，如图6B所示，对基板76进行沿着X方向的条状曝光(stripeexposure)，曝光时基板的移动方向与光致抗蚀剂涂覆器71的涂覆方向垂直，且曝光区域及曝光方向如箭号E1、E2、E3所示。由于负光致抗蚀剂照光的部分在显影后会留下，且条状的负光致抗蚀剂之间留有空隙，因此曝光显影后，会产生区域78a、78b、78c、78d、78e、78f、78g、78h、78i，每个区域对应至一块液晶显示面板。换句话说，基板76上会自然形成9块液晶显示面板的光致抗蚀剂分布区，而不需要以其它成本较昂贵等方式(如(1)、(2)、(4)、(5)等方式)来挡住基板76上不希望受光的周边区域，就能达到液晶面板顺利分离的效果。

其中，当对基板76上的此三个条状光致抗蚀剂区进行曝光时，假设曝光的顺序为区域78a、78d、78g，78b、78e、78h，与78c、78f、78i，则本发明的曝光程序如下。首先，进行步骤(a)，移动基板76以使光掩模32位于至区域78a的上方。接着，进行步骤(b)，沿着X方向移动基板76以使光掩模32与基板76产生相对移动，以完成区域78a的光致抗蚀剂的曝光动作，使光掩模32上由多个规则排列的开口所形成的预定图案，得以转写成区域78a中的条状曝光图案(即是彩色滤光片的条状图案)。然后，步骤(c)，将基板76继续X沿着方向平移，以使光掩模32位于至区域78d的上方。接着，进行步骤(d)，沿着X方向移动基板76以使光掩模32与基板76产生相对移动，来完成区域78d的光致抗蚀剂的曝光动作，以形成区域78d中的条状曝光图案。之后，进行步骤(e)，将基板76沿着X方向平移，以使光掩模32位于至区域78g的上方，并持续使光掩模32与基板76产生相对移动，以形成区域78g中的条状曝光图案。经由由步骤(a)～(e)所组成的第一次条状曝光制作工艺，将完成区域78a、78d、与78g的曝光动作。

同理，接着将光掩模32放置于区域78b的上方，并进行第二次的条状曝光制作工艺，以完成区域78b、78e、与78h的曝光动作。之后，再将光掩模32放置在区域78c的上方，并进行第三次的条状曝光制作工艺，以完成区域78c、78f、与78i的曝光动作。两行区域之间存在有非曝光区(可由光掩模的非开口区来阻挡光线，让光线无法穿透至此非曝光区中)，以隔离沿着Y方向相邻的两个区域。其中，三个条状光致抗蚀剂区的延伸方向为Y方向，而条状曝光图案的延伸方向为沿着X方向，二者相互垂直。

另外，本发明的基座35上的气浮式系统38，可依照气浮原理分成PA型基座和PV型基座。图7A为PA型基座的示意图。PA型基座35中，气体自喷孔流出如箭号a1、a2、a3、a4、a5所示，再自相邻孔洞释放到常压(release to atmosphere)如箭号b1、b2、b3、b4、b5所示。图7B为PV型基座的示意图。PV型基座35中，气体自喷孔喷出如箭号c1、c2、c3、c4、c5所示，再以抽真空方式(vacuum)将气体自相邻孔洞抽出如箭号d1、d2、d3、d4、d5所示。由上述可知：PA型基座与PV型基座的主要差别在于：PV型基座以抽气方式将气体抽出。因此，置于PV型基座上方的基板36会受到较强的吸力而更靠近基座35。一般而言，PA型基座中，基板36与基座35的距离约为50～200μm，而PV型基座中，基板36与基座35的距离约为30～100μm。

在实际应用上，气浮式系统可结合PA型基座与PV型基座。请参照图7C，其绘示依照本发明一较佳实施例的气浮式系统的示意图。如图7C所示，基座35由PA型-PV型-PA型所组成。当基板36自左向右移动，经过PV型区域时，由于受到一向下吸力而可更稳定地移动，因此可在PV型区域对基板36进行重要的制作程序，如利用光致抗蚀剂涂覆器34b进行基板36的光致抗蚀剂涂覆。另外，除了光致抗蚀剂涂覆器，基座35还可加装如紫外光装置，用以对基板进行紫外线照射，或者加装侦测装置，用以检查基板36与基座35之间的距离是否维持一定值。

与现有技术相比，本发明将光掩模尺寸缩小至与光掩模上的受光区域的大小相当，并同时使基板与光掩模间产生相对运动，以使光掩模上的预定图案逐步地转写成基板上的一条状曝光图案。现有所使用的光掩模大约为本发明所使用的光掩模尺寸的数倍，因此，改用本发明后将可大幅度地降低制作彩色滤光镜所用的光掩模成本。另外，运用气浮式系统可稳定地承载基板，而非旋转式的光致抗蚀剂涂覆器可使液晶面板的制作过程更为简易，且面板分离效果更为良好。

综上所述，虽然结合以上较佳实施例揭露了本发明，然而其并非用以限定本发明，任何熟悉本领域技术人员在不脱离本发明的精神和范围内，可作各种的更动与润饰，因此本发明的保护范围应以权利要求所界定的为准。

Claims (21)

1.一种光致抗蚀剂涂覆及曝光的方法，包括有下列步骤：

提供一基板；

提供一光致抗蚀剂涂覆器，以在该基板上涂覆多个条状光致抗蚀剂区；

提供一光源，用来产生一曝光用的光线；

提供一具有预定图案的光掩模，置于该光源与该基板之间；以及

对该多个条状光致抗蚀剂区进行一曝光程序，通过该基板与该光掩模的一相对性移动，使该光掩模上的预定图案被转写成该基板上的一条状曝光图案。

2.如权利要求1所述的方法，其中该多个条状光致抗蚀剂区与该条状曝光图案互相垂直。

3.如权利要求1所述的方法，其中该基板由一基座乘载，该基座包括：

一气浮式系统，用以乘载该基板，使该基板悬浮于该基座上方一间距；及

一传动部，与该气浮式系统连接，用以带动该基板。

4.如权利要求1所述的方法，其中该预定图案具有多个呈规则排列的开口。

5.如权利要求1所述的方法，其中该光源会形成一弧形的受光区域在该光掩模上，其中该受光区域垂直于该基板移动方向的左右两端之间距与该光掩模的长度大致相同。

6.如权利要求1所述的方法，其中该光源会在该光掩模上形成一弧形的受光区域，其中该受光区域平行于该基板移动方向的前后两端的间距与该光掩模的宽度大致相同。

7.如权利要求1所述的方法，其中该光源会在该光掩模上形成一矩形的受光区域，其中该受光区域垂直于该基板移动方向的左右两端的间距与该光掩模的长度大致相同。

8.如权利要求1所述的方法，其中该光源会在该光掩模上形成一矩形的受光区域，其中该受光区域平行于该基板移动方向的前后两端的间距与该光掩模的宽度大致相同。

9.如权利要求1所述的方法，其中该光致抗蚀剂涂覆器具有多个栅状开口，且该些栅状开口间均相隔一间隙。

10.如权利要求1所述的方法，其中该光致抗蚀剂涂覆器以一第一方向在该基板上的涂覆该多个条状光致抗蚀剂区，且该第一方向与该基板进行该曝光程序时的移动方向垂直。

11.如权利要求2所述的方法，其中该气浮式系统还包括一侦测装置，用以检查该基板与该基座的该间距是否维持一定值。

12.一种光致抗蚀剂涂覆装置，用来在一基板上均匀涂覆光致抗蚀剂液，该涂覆装置包括有：

一光致抗蚀剂涂覆器，具有多个栅状开口；

一光致抗蚀剂供应器，用以供应该光致抗蚀剂液至该光致抗蚀剂涂覆器；以及

一基座，用以乘载该基板；

其中，该基板可与该光致抗蚀剂涂覆器产生一相对移动以使该光致抗蚀剂液在该基板上形成多个条状光致抗蚀剂区。

13.如权利要求12所述的涂覆装置，其中该多个栅状开口间均相隔一第一间隙。

14.如权利要求13所述的涂覆装置，其中该多个条状光致抗蚀剂区之间存在一第二间隙，且该第二间隙的大小与该第一间隙相当。

15.一种曝光装置，用来对一基板上的一光致抗蚀剂层进行曝光，该曝光装置包括有：

一光源，用以产生一曝光用的光线；

一光掩模，置于该光源及该基板之间，其具有一预定图案；以及

一基座，用以乘载该基板，

其中，当对该光致抗蚀剂层进行曝光程序时，通过该基板与该光掩模的一相对性移动，使该光掩模上的该预定图案被转写成该基板上的一条状曝光图案。

16.如权利要求15所述的曝光装置，其中该基座包括：

一气浮式系统(air-float system)，用以乘载该基板，使该基板悬浮在该基座上方一间距；以及

一传动部，与该气浮式系统连结，用以带动该基板。

17.如权利要求15所述的曝光装置，其中该预定图案具有多个呈规则排列的开口。

18.如权利要求15所述的曝光装置，其中该光源会在该光掩模上形成一弧形的受光区域，其中该受光区域垂直于该基板移动方向的左右两端的间距与该光掩模的长度大致相同。

19.如权利要求15所述的曝光装置，其中该光源会在该光掩模上形成一弧形的受光区域，其中该受光区域平行于该基板移动方向的前后两端的间距与该光掩模的宽度大致相同。

20.如权利要求15所述的曝光装置，其中该光源会在该光掩模上形成一矩形的受光区域，其中该受光区域垂直于该基板移动方向的左右两端的间距与该光掩模的长度大致相同。

21.如权利要求15所述的曝光装置，其中该光源会在该光掩模上形成一矩形的受光区域，其中该受光区域平行于该基板移动方向的前后两端于垂直方向的间距与该光掩模的宽度大致相同。

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