CN1506211A - 具有侦测窗口的研磨垫的制造方法 - Google Patents
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Abstract
一种具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,此方法首先提供一模具及一透明热固性塑料,其中模具具有一模腔,且透明热固性塑料未完全硬化。接着,于模具内预埋入透明热固性塑料,然后于模具的模腔中注入一高分子发泡体,其中高分子发泡体及透明热固性塑料同时完全硬化。之后,于模具脱膜后即形成具有一侦测窗口的一研磨垫。此外,透明侦测窗口也可以设计成其中心位置较厚而边缘位置较薄,以抵抗研磨垫上因侦测窗口与其它区域不同材质在一体成型后可能会造成的形变的情形。
Description
技术领域
本发明是有关于一种研磨垫(Polishing Pad)的制造方法,且特别是有关于一种具有侦测窗口的研磨垫的制造方法。
背景技术
对于集成电路的半导体晶圆制造而言,为了提高电子元件密度与降低生产成本,促使在元件的制作工艺上有提升深宽比(Aspect ratio)及增加导线层数的趋势。但在形成这样多层导线结构时,同时晶圆的凹凸及扭曲程度也会变大。为了降低晶圆的凹凸及扭曲程度通常使用化学机械研磨(Chemical Mechanical Polishing,CMP)的方法来操作,而化学机械研磨的方法在目前唯一能提供大规模集成电路(Very Large SemiconductorIntegration,VLSI),甚至超大规模集成电路(Ultra Large SemiconductorIntegration,ULSI)制作工艺全面性平坦化(Global Planarization)的一种新技术。最早提出这个技术的是美国的IBM公司。IBM公司不但开发出化学机械研磨法,并提出应用化学机械研磨法来制作埋入导线的金属镶嵌法(Damascene)。
一般而言,化学机械研磨是通过悬浊细小粒子的研磨液与具有弹性、硬度适当的研磨垫的相对运动、作用在芯片表面来进行平坦化(Planarization)。研磨垫在晶圆表面移动时,接触的粒子被压在晶圆的表面上,通过晶圆表面与粒子之间的摩擦滑动而有磨耗的作用,来研磨晶圆表面凹凸不平的地方,进而使晶圆表面平坦、光滑。
承上所述,研磨垫上某部分区域通常会设置有一透明窗口,其功能是当研磨垫进行研磨时,使用者可通过机台设定而透过透明窗口来控制并侦测研磨垫的研磨情况与磨耗情形,因此可将此透明窗口作为研磨垫研磨的终点侦测(End-Point Detection)。
公知于研磨垫上制作侦测窗口的方法如美国专利5,605,760号所揭示,在其中一实施例描述研磨垫为一种以固态均匀聚合物制出透明片的方法。而于另一实施例中描述研磨垫于另外不透明垫中包括有一透明窗口,其中透明窗口是由模制研磨垫中的透明聚合物材料的棒或塞所形成的。而棒或塞可模制插入研磨垫内,或是在模制操作之后才装入研磨垫的缺口内。
承上所述,将棒或塞的透明窗口于模制时插入研磨垫内,可能因透明窗口与研磨垫材质的差异或其它因素而造成研磨垫与透明窗口间的收缩不一致,进而导致透明窗口产生弯曲或变形。此外,倘若是于模制操作之后才将透明窗口装入研磨垫的缺口内,研磨垫和透明窗口之间可能因为接触性不佳而造成研磨液渗漏,进而影响到晶圆的研磨品质。
另外,美国专利5,893,796号揭示一种已知的研磨垫,其具有一透明窗口架设于研磨垫内。透明窗口可作为模制于研磨垫中的固体插入物预备一体成型,在此透明窗口使用对磨耗具有特有耐磨耗性的材料所制成。而研磨垫其余部分材料则具有较低抗磨耗性。
如上所述,研磨垫其余部分会在半导体晶圆研磨时缓慢研磨去除,而透明窗口会以较低的研磨速度被研磨去除。最后,造成透明窗口与研磨垫之间产生高度差,结果晶圆在不均匀的研磨情况下,造成晶圆的表面产生缺陷,因而影响到后续的制作工艺的精确度。而研磨垫的磨耗速率不同于透明窗口的磨耗速率,这将导致研磨时透明窗口周围的研磨垫裂开。
发明内容
本发明的目的之一就是在提供一种具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,以改善公知方法会有透明窗口产生弯曲或变形的问题。
本发明的目的之二就是在提供一种具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,以解决公知方法因研磨垫和透明窗口之间接触性不佳而造成研磨液渗漏的问题。
本发明的目的之三就是在提供一种具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,以使具有侦测窗口的研磨垫的研磨均匀度提高。
因此,本发明提出一种具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,此方法首先提供一模具及一透明热固性塑料,其中模具具有一模腔,且透明热固性塑料未完全硬化,而透明热固性塑料的材质例如是一全透明高分子材质或一半透明高分子材质,且透明热固性塑料的形状例如是椭圆形、方形或圆形等任何适用的形状,并且其侧缘为一凹凸面。接着,于模具内预埋入透明热固性塑料。然后,于模具的模腔中注入一高分子发泡体,并且使高分子发泡体与透明热固性塑料同时完全硬化,其中所注入的高分子发泡体的材质例如是聚脲酯(PU)发泡体,关于聚脲酯发泡体的制作方法及其相关参数,本申请人已公开在台湾专利申请号第91117406号中。之后,于模具脱模之后即形成具有一侦测窗口的一研磨垫。其中,研磨垫的研磨速度是等于侦测窗口的研磨速度。
本发明再提出一种具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,此方法首先提供一模具及一透明热固性塑料,其中模具具有一模腔,且透明热固性塑料未完全硬化,其中透明热固性塑料的材质例如是一全透明高分子材质或一半透明高分子材质,而透明热固性塑料的形状例如是椭圆形、方形或圆形等任何适用的形状,且其侧缘为一凹凸面。接着,于模具内预埋入此透明热固性塑料。然后,于模具的模腔中注入一高分子发泡体,并待高分子发泡体稍微硬化。其中,高分子发泡体的材质例如是聚脲酯(PU)发泡体,关于聚脲酯发泡体的制作方法及其相关参数,本申请人已公开在台湾专利申请号第91117406号中。之后,于模腔内的高分子发泡体上注入另一高分子材质层,其中高分子发泡体、高分子材质层及透明热固性塑料同时完全硬化,而高分子材质层的材质例如是聚脲酯(PU)、硅橡胶(Silicone rubber)、聚丁基橡胶(PBR)、聚氯乙烯乳胶(PVC latex)或聚丙烯酸系胶乳(PMMAlatex)。在此,高分子发泡体的硬度大于高分子材质层的硬度,高分子材质层用来作为缓冲层之用。之后,于模具脱模之后即形成具有一侦测窗口的一研磨垫,且此研磨垫为一具有两层结构的研磨垫。其中,研磨垫的研磨速度等于侦测窗口的研磨速度。
本发明另提出一种具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,此方法首先提供一模具及一透明热固性塑料,其中模具具有一模腔,且透明热固性塑料未完全硬化,而透明热固性塑料的材质例如是一全透明高分子材质或一半透明高分子材质,且透明热固性塑料的形状例如是椭圆形、方形或圆形等任何适用的形状,并且其侧缘为一凹凸面。接着,于模具内预埋入此透明热固性塑料,且于透明热固性塑料的侧缘涂布一未完全反应材料,而未完全反应材料例如是一热感式黏胶。然后,于模具的模腔中注入一高分子发泡体,并使未完全反应材料与高分子发泡体化学连结,其中未完全反应材料、透明热固性塑料与高分子发泡体同时完全硬化,在此,高分子发泡体的材质例如是聚脲酯发泡体,关于发泡体的制作方法及其相关参数,本申请人已揭露在台湾专利申请号第91117406号中。之后,于模具脱膜后即形成具有一侦测窗口的一研磨垫。其中,研磨垫的研磨速度等于侦测窗口的研磨速度。
除此之外,上述所形成的透明侦测窗口亦可设计成透明侦测窗口的底部为曲面,换言之,透明侦测窗口的中心位置的厚度较厚而其边缘位置的厚度较薄,此种设计可以抵抗研磨垫的侦测窗口与其它部分因材质相异可能在一体成型后会造成形变的情形。
由于本发明通过透明热固性塑料可以与高分子发泡体同时硬化的因素,降低透明热固性塑料与高分子发泡体产生不同时间硬化所产生形变的问题,以减少研磨垫与透明窗口产生形变或翘曲的现象,进而可以增加研磨垫的平坦度。
另外,由于本发明在透明热固性塑料上可涂布一未完全反应材料,进而增加透明热固性塑料与高分子发泡体的黏着性,同时可以降低研磨液从透明热固性塑料与高分子发泡体之间的缝细渗漏。而研磨垫的研磨速率等于透明窗口的研磨速率,可以增加研磨时晶圆的平坦度。
再者,由于本发明于透明热固性塑料的侧缘做成凹凸不平的形状以增加其与高分子发泡体的接触面积,因此可以使透明热固性塑料与高分子发泡体的接触性更好、黏着性更佳。此外,设计者还可以依设计来改变透明热固性塑料的形状。
为让本发明的上述和其它目的、特征、和优点能更明显易懂,下文特举一较佳实施例,并配合附图,作详细说明。
附图说明
图1至图4是依照本发明第一实施例具有侦测窗口的研磨垫的制造方法的流程示意图;
图5绘示透明热固性塑料的侧缘形状示意图;
图6绘示透明热固性塑料的侧缘涂布未完全反应材料示意图;
图7至图11是依照本发明第二实施例具有侦测窗口的研磨垫的制造方法的流程示意图;
图12绘示透明热固性塑料的侧缘涂布未完全反应材料示意图;
图13绘示透明热固性塑料的中心位置的厚度较后,而边缘位置的厚度较薄的设计示意图。
标示说明:
100、200:模具 102、202:模腔
110、210:透明热固性塑料 120、220:高分子发泡体
140、240:研磨垫 131、231:螺旋面
133、233:波纹面 135、235:颗粒面
150、250:热感式黏胶 222:高分子材质层
具体实施方式
第一实施例
图1至图4是依照本发明第一实施例具有侦测窗口的研磨垫的制造方法的流程示意图。
首先,请参照图1,提供一模具100及一透明热固性塑料110,其中此模具100具有一模腔102,且模腔102可以容纳物体放置其内,而此时透明热固性塑料110未完全硬化。如上所述的透明热固性塑料110的材质例如是一全透明高分子材质或一半透明高分子材质,而透明热固性塑料110的材质例如是压克力树脂(PMMA)、聚脲酯(PU)、聚氯乙烯(PVC)、环氧树脂(Epoxy)或不饱和聚酯(UP),且透明热固性塑料110的硬度例如是70 Shore A至75 Shore D。
之后,请参照图2,将透明热固性塑料110预先放置于模具100内,且使透明热固性塑料110可以贴平模具100的底壁,并且使透明热固性塑料110固定以增加后续制作工艺的稳定性及准确性。
然后,请参照图3,设计者可通过模制方法注入一高分子发泡体120于模具100的模腔102中,并使高分子发泡体120可以包覆透明热固性塑料110,高分子发泡体120及透明热固性塑料110同时完全硬化。在本实施例中,高分子发泡体120的材质例如聚脲酯发泡体。此外,上述的模制方法包括热塑性注模、热固性注模(通常为反应注模)、热塑或热固注入吹模、热模压制(压模)或其它类似方法。
特别是,为了使透明热固性塑料110与高分子发泡体120的接触性更好,本发明将透明热固性塑料110的侧缘设计为凹凸面,而此凹凸面例如是一螺旋面131、一波纹面133或一颗粒面135(如图5所示)。这是因为,若是将透明热固性塑料110的侧缘作成凹凸面的话,可以增加透明热固性塑料110与高分子发泡体120的接触面积,进而增加两者的紧密度。
此外,本发明的透明热固性塑料110的形状还可以依照实际所需而设计成椭圆形、圆形、方形或是任何适用的形状。在本实施例中,透明热固性塑料110较佳的是椭圆形状。
再来,请参照图4,待高分子发泡体120及透明热固性塑料110同时完全硬化后,进行模具100脱模的动作。在将完成后的一研磨垫140取出后即形成具有一侦测窗口的研磨垫140,其中透明热固性塑料110处即作为侦测窗口之用,而且整个研磨垫140的研磨速率都是一致的,也就是研磨垫140中高分子发泡体120的研磨速率等于侦测窗口的研磨速率。
为了使透明热固性塑料110与高分子发泡体120的黏着性更好,因此本发明还包括在透明热固性塑料110的侧缘涂布上一未完全反应材料,此未完全反应材料例如一热感式黏胶150,如图6所示。其中,热感式黏胶150的功能可以使透明热固性塑料110与高分子发泡体120的化学连结,进而增加透明热固性塑料110及高分子发泡体120的黏着性。
第二实施例
图7至图12是依照本发明第二实施例具有侦测窗口的研磨垫的制造方法的流程示意图。首先,请参照图7,提供一模具200及一透明热固性塑料210,其中此模具200具有一模腔202,且模腔202可以容纳物体放置其内,而透明热固性塑料210未完全硬化。如上所述的透明热固性塑料210的材质例如是一全透明高分子材质或一半透明高分子材质,而透明热固性塑料210的材质例如压克力树脂(PMMA)、聚脲酯(PU)、聚氯乙烯(PVC)、环氧树脂(EPOXY)或不饱和聚酯(UP),且透明热固性塑料210的硬度例如是70 ShoreA至75 Shore D。
之后,请参照图8,将透明热固性塑料210预先放置于模具200内,且使透明热固性塑料210可以贴平模具200的底壁,并且使透明热固性塑料210固定以增加后续制作工艺的稳定性及准确性。
然后,请参照图9,设计者可通过模制方法注入一高分子发泡体220于模具200的模腔202中,并使高分子发泡体220的侧缘可以与透明热固性塑料210的侧缘接触,并且使高分子发泡体220硬化约3分钟到5分钟。其中,高分子发泡体220的材质例如是聚脲酯发泡体。此外,上述的模制方法包括热塑性注模、热固性注模(通常为反应注模)、热塑或热固注入吹模、热模压制(压模)或其它类似方法。
再来,请参照图10,通过模制方法注入另一高分子材质层222于模具200中的高分子发泡体220上,并使高分子材质层222的侧缘可以与透明热固性塑料210的侧缘接触,并且覆盖高分子发泡体220。接着再使高分子发泡体220、透明热固性塑料210及高分子材质层222同时完全硬化。在本实施例中,高分子发泡体220的硬度大于高分子材质层222的硬度,因此高分子材质层222用来作为一缓冲层之用,其材质例如是聚脲酯(PU)、硅橡胶(Silicone rubber)、聚丁基橡胶(PBR)、聚氯乙烯乳胶(PVC latex)或聚丙烯酸系乳胶(PMMA latex)。其中,高分子发泡体220的硬度介于30 Shore D至80 Shore D之间,而高分子材质层的硬度介于5 Shore A至60 Shore A之间。此外,上述之模制方法例如是热塑性注模、热固性注模(通常为反应注模)、热塑或热固注入吹模、热模压制(压模)或其它类似方法。
特别是,为了使透明热固性塑料210与高分子发泡体220及高分子材质层222的接触性更好,本发明可将透明热固性塑料210的侧缘设计为凹凸面,而此凹凸面例如是一螺旋面131、一波纹面133或一颗粒面135(如图5所示)。这是因为,若是将透明热固性塑料210的侧缘作成凹凸面的话,可以增加透明热固性塑料210、高分子发泡体220及高分子材质层222的接触面积,进而增加三者黏着的紧密度。
此外,本发明的透明热固性塑料210的形状还可以依照实际所需而设计成椭圆形、圆形、方形或是任何适用的形状。在本实施例中,透明热固性塑料210较佳的是椭圆形状。
再来,请参照图11,待高分子发泡体220、透明热固性塑料210及高分子材质层222同时完全硬化后,进行模具200脱模的动作。在将完成后的一研磨垫240取出后即形成具有一侦测窗口的研磨垫240,其中透明热固性塑料210处即作为侦测窗口之用,而且整个研磨垫240的研磨速率都是一致的,也就是研磨垫240中高分子发泡体220的研磨速率等于侦测窗口的研磨速率。
为了使透明热固性塑料210、高分子发泡体220及高分子材质层222的黏着性更佳,因此本发明还包括在透明热固性塑料210的侧缘涂布上一未完全反应材料,而此未完全反应材料例如是一热感式黏胶250,如图12所示。其中,热感式黏胶250的功能可以使透明热固性塑料210、高分子发泡体220及高分子材质层222的化学连结,进而增加透明热固性塑料210、高分子发泡体220及高分子材质层222的黏着性。
特别值得一提的是,在第一实施例与第二实施例中的透明侦测窗口110、210,亦可以将成其底部设计成曲面的底部(如图13所示)。换言之,透明侦测窗口110、210中心位置的厚度较厚而其边缘位置的厚度较薄,此种设计可以抵抗因研磨垫140、240上侦测窗口110、210与其它部分因材质相异而可能在一体成型后会造成形变的情形。
综上所述,本发明至少具有下列优点:
1、本发明的具有侦测窗口的研磨垫的制造方法可通过透明热固性塑料与高分子发泡体同时硬化的因素,以减少透明热固性塑料与高分子发泡体间产生形变或翘曲的现象,进而可以增加研磨垫的平坦度。
2、本发明的具有侦测窗口的研磨垫的制造方法可以在透明热固性塑料上涂布一未完成反应材料,进而增加透明热固性塑料与研磨垫的黏着性,因此可以降低研磨液从透明热固性塑料及高分子发泡体之间的缝细渗漏。而研磨垫的研磨速率等于于透明窗口的研磨速率,可以降低研磨垫研磨时晶圆表面产生缺陷的机会,进而使晶圆表面更平坦、更光滑。
3、本发明的具有侦测窗口的研磨垫的制造方法可将透明热固性塑料的侧缘做成凹凸面的形状,增加其与高分子发泡体的接触面积,使两者之间的接触性更好。
虽然本发明已以一较佳实施例公开如上,然其并非用以限定本发明,任何熟悉此技术者,在不脱离本发明的精神和范围内,当可作各种的更动与润饰,因此本发明的保护范围当视权利要求书所界定者为准。
Claims (35)
1、一种具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,其特征在于:该方法包括:
提供一模具及一透明热固性塑料,其中该模具具有一模腔,且该透明热固性塑料未完全硬化;
于该模具内预埋入该透明热固性塑料;
于该模具的该模腔中注入一高分子发泡体,其中该高分子发泡体及该透明热固性塑料同时完全硬化;
于该模具脱模后即形成具有一侦测窗口的一研磨垫。
2、如权利要求1所述的具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,其特征在于:该透明热固性塑料的材质选自一全透明高分子材质及一半透明高分子材质其中之一。
3、如权利要求1所述的具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,其特征在于:该透明热固性塑料的材质选自压克力树脂(PMMA)、聚脲酯(PU)、聚氯乙烯(PVC)、环氧树脂(EPOXY)以及不饱和聚酯(UP)其中之一。
4、如权利要求1所述的具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,其特征在于:该透明热固性塑料的硬度为70 ShoreA至75 Shore D。
5、如权利要求1所述的具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,其特征在于:该透明热固性塑料的中心位置的厚度较其边缘位置的厚度厚。
6、如权利要求1所述的具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,其特征在于:该高分子发泡体的材质包括聚脲酯(PU)发泡体。
7、如权利要求1所述的具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,其特征在于:该透明热固性塑料的形状选自椭圆形、方形及圆形其中之一。
8、如权利要求1所述的具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,其特征在于:透明热固性塑料的侧缘为一凹凸面。
9、如权利要求8所述的具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,其特征在于:该凹凸面选自螺旋面、波纹面及颗粒面其中之一。
10、如权利要求1所述的具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,其中该研磨垫的研磨速度等于该侦测窗口的研磨速度。
11、一种具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,其特征在于:该方法包括:
提供一模具及一透明热固性塑料,其中该模具具有一模腔,且该透明热固性塑料未完全硬化;
于该模具内预埋入该透明热固性塑料;
于该模具的该模腔中注入一高分子发泡体;
于该模腔内的该高分子发泡体上注入另一高分子材质层,其中该高分子发泡体、该高分子材质层以及该透明热固性塑料同时完全硬化;
于该模具脱模后即形成具有一侦测窗口的一研磨垫。
12、如权利要求11所述的具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,其特征在于:该透明热固性塑料的材质选自一全透明高分子材质及一半透明高分子材质其中之一。
13、如权利要求11所述的具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,其特征在于:该透明热固性塑料的材质选自压克力树脂(PMMA)、聚脲酯(PU)、聚氯乙烯(PVC)、环氧树脂(EPOXY)以及不饱和聚酯(UP)其中之一。
14、如权利要求11所述的具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,其特征在于:该透明热固性塑料的硬度为70 Shore A至75 Shore D。
15、如权利要求11所述的具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,其特征在于:该透明热固性塑料的中心位置的厚度较其边缘位置的厚度厚。
16、如权利要求11所述的具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,其特征在于:该高分子发泡体的材质包括聚脲酯发泡体。
17、如权利要求11所述的具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,其特征在于:该高分子材质层的材质选自聚脲酯(PU)、硅橡胶(Silicone rubber)、聚丁基橡胶(PBR)、聚氯乙烯乳胶(PVC latex)以及聚丙烯酸系乳胶(PMMAlatex)其中之一。
18、如权利要求11所述的具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,其特征在于:该透明热固性塑料的形状选自椭圆形、方形及圆形其中之一。
19、如权利要求11所述的具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,其特征在于:该透明热固性塑料的侧缘为一凹凸面。
20、如权利要求19所述的具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,其特征在于:该凹凸面选自螺旋面、波纹面及颗粒面其中之一。
21、如权利要求11所述的具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,其特征在于:该高分子发泡体的硬度大于该高分子材质层的硬度。
22、如权利要求21所述的具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,其特征在于:该高分子发泡体的硬度介于30 Shore D至80 Shore D之间。
23、如权利要求21所述的具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,其特征在于:该高分子材质层的硬度介于5 Shore A至60 Shore A之间。
24、如权利要求11所述的具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,其特征在于:该研磨垫的研磨速度等于该侦测窗口的研磨速度。
25、一种具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,其特征在于:该方法包括:
提供一模具及一透明热固性塑料,其中该模具具有一模腔,且该透明热固性塑料未完全硬化;
于该模具内预埋入该透明热固性塑料,且于该透明热固性塑料的侧缘涂布一未完全反应材料;
于该模具的该模腔中注入一高分子发泡体,并使该未完全反应材料与该高分子发泡体化学连结,其中该未完全反应材料、该透明热固性塑料与该高分子发泡体同时完全硬化;
于该模具脱模后即形成具有一侦测窗口的一研磨垫。
26、如权利要求25所述的具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,其特征在于:该透明热固性塑料的材质选自一全透明高分子材质及一半透明高分子材质其中之一。
27、如权利要求25所述的具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,其特征在于:该透明热固性塑料材质选自压克力树脂(PMMA)、聚脲酯(PU)、聚氯乙烯(PVC)、环氧树脂(EPOXY)以及不饱和聚酯(UP)其中之一。
28、如权利要求25所述的具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,其中该透明热固性塑料的硬度为70 Shore A至75 Shore D。
29、如权利要求25所述的具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,其特征在于:该透明热固性塑料的中心位置的厚度较其边缘位置的厚度厚。
30、如权利要求25所述的具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,其特征在于:该高分子发泡体材质包括聚脲酯发泡体。
31、如权利要求25所述的具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,其特征在于:该未完全反应材料包括一热感式黏胶。
32、如权利要求25所述的具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,其特征在于:该透明热固性塑料的形状选自椭圆形、方形及圆形其中之一。
33、如权利要求25所述的具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,其特征在于:该透明热固性塑料的侧缘为一凹凸面。
34、如权利要求33所述的具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,其特征在于:该凹凸面选自螺旋面、波纹面及颗粒面其中之一。
35、如权利要求25所述的具有侦测窗口的研磨垫的制造方法,其特征在于:该研磨垫的研磨速度等于该侦测窗口的研磨速度。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN 02155402 CN1285457C (zh) | 2002-12-06 | 2002-12-06 | 具有侦测窗口的研磨垫的制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN 02155402 CN1285457C (zh) | 2002-12-06 | 2002-12-06 | 具有侦测窗口的研磨垫的制造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN1506211A true CN1506211A (zh) | 2004-06-23 |
CN1285457C CN1285457C (zh) | 2006-11-22 |
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ID=34235894
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN 02155402 Expired - Lifetime CN1285457C (zh) | 2002-12-06 | 2002-12-06 | 具有侦测窗口的研磨垫的制造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN1285457C (zh) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101669195B (zh) * | 2007-05-16 | 2012-05-23 | 东洋橡胶工业株式会社 | 研磨垫的制造方法 |
CN102133734B (zh) * | 2010-01-21 | 2015-02-04 | 智胜科技股份有限公司 | 具有侦测窗的研磨垫及其制造方法 |
CN108453970A (zh) * | 2018-03-27 | 2018-08-28 | 成都时代立夫科技有限公司 | 一种化学机械抛光垫的制造方法及其产品和模具 |
CN109420974A (zh) * | 2017-08-22 | 2019-03-05 | 智胜科技股份有限公司 | 研磨垫、研磨垫的制造方法及研磨方法 |
JP2019508272A (ja) * | 2016-02-26 | 2019-03-28 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 薄い研磨パッド内の窓 |
CN110785259A (zh) * | 2017-07-11 | 2020-02-11 | Skc株式会社 | 窗口的硬度类似于抛光层的抛光垫 |
US11161218B2 (en) | 2016-02-26 | 2021-11-02 | Applied Materials, Inc. | Window in thin polishing pad |
CN114450126A (zh) * | 2019-09-30 | 2022-05-06 | 富士纺控股株式会社 | 研磨垫及其制造方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7105334B2 (ja) * | 2020-03-17 | 2022-07-22 | エスケーシー ソルミックス カンパニー,リミテッド | 研磨パッドおよびこれを用いた半導体素子の製造方法 |
-
2002
- 2002-12-06 CN CN 02155402 patent/CN1285457C/zh not_active Expired - Lifetime
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101669195B (zh) * | 2007-05-16 | 2012-05-23 | 东洋橡胶工业株式会社 | 研磨垫的制造方法 |
US8348724B2 (en) | 2007-05-16 | 2013-01-08 | Toyo Tire & Rubber Co., Ltd. | Polishing pad manufacturing method |
CN102133734B (zh) * | 2010-01-21 | 2015-02-04 | 智胜科技股份有限公司 | 具有侦测窗的研磨垫及其制造方法 |
JP2019508272A (ja) * | 2016-02-26 | 2019-03-28 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 薄い研磨パッド内の窓 |
US11161218B2 (en) | 2016-02-26 | 2021-11-02 | Applied Materials, Inc. | Window in thin polishing pad |
US11826875B2 (en) | 2016-02-26 | 2023-11-28 | Applied Materials, Inc. | Window in thin polishing pad |
CN110785259A (zh) * | 2017-07-11 | 2020-02-11 | Skc株式会社 | 窗口的硬度类似于抛光层的抛光垫 |
CN110785259B (zh) * | 2017-07-11 | 2022-03-04 | Skc索密思株式会社 | 窗口的硬度类似于抛光层的抛光垫 |
CN109420974A (zh) * | 2017-08-22 | 2019-03-05 | 智胜科技股份有限公司 | 研磨垫、研磨垫的制造方法及研磨方法 |
US11498181B2 (en) | 2017-08-22 | 2022-11-15 | Iv Technologies Co., Ltd. | Polishing pad and manufacturing method of polishing pad and polishing method |
CN108453970A (zh) * | 2018-03-27 | 2018-08-28 | 成都时代立夫科技有限公司 | 一种化学机械抛光垫的制造方法及其产品和模具 |
CN114450126A (zh) * | 2019-09-30 | 2022-05-06 | 富士纺控股株式会社 | 研磨垫及其制造方法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
CN1285457C (zh) | 2006-11-22 |
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---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
CX01 | Expiry of patent term |
Granted publication date: 20061122 |
|
CX01 | Expiry of patent term |