CN1469427A - 选择制造光掩模的掩模制造商的方法 - Google Patents

Abstract

本发明的课题是一种掩模制造商选择方法，包含下述步骤：从掩模制造商的计算机接收描绘面积100％区域数据和单价数据的步骤(S104)；一旦从预定数目以上的掩模制造商的计算机接收到数据(在S108中为“是”)，则根据描绘面积100％区域数据，抽出符合条件的100％代码的步骤(S110)；根据所抽出的100％代码的描绘100％区域和描绘区域数据的描绘区域，算出描绘面积率的步骤(S112)；根据单价数据和描绘面积率，从描绘面积率算出单价的步骤(S114)；以及根据所算出的单价，决定订货目的方的掩模制造商的步骤(S116)。

Description

选择制造光掩模的掩模制造商的方法

技术领域

本发明涉及在半导体器件的订货系统中选择作为半导体器件用晶片的原版而被使用的光掩模的接受订货商的方法，特别是涉及可使光掩模的单价降低的选择方法。

背景技术

迄今，由IC芯片制造商(晶片制造商)生产备有根据客户所要求的规格而变更布线图形的电路的IC(集成电路)芯片。这样的IC芯片是在作为IC芯片的制造工序之一的光刻工序中，将在合成石英衬底上用金属薄膜形成了遮光图形的光掩模作为原版而制造的。由掩模制造商制造该光掩模。与规格有关的信息被存储在磁带等中，从作为订货商的晶片制造商交给、或在线发送给作为接受订货商的掩模制造商。掩模制造商根据送来的与规格有关的信息，生成制造光掩模用的制造数据。另一方面，光掩模的数量、交货期等定货信息从作为订货商的晶片制造商用电话、或在线传递给作为接受订货商的掩模制造商。掩模制造商根据定货信息，按照生产管理中必要的优先顺序，生成包括产品编号、数量、发送目的地和交货期等信息、以及品质管理所必要的信息的管理数据。所建立的管理数据被送给光掩模生产线。光掩模生产线根据基于规格生成的制造数据、以及基于定货信息建立的管理数据，制造光掩模。例如，利用由制造数据控制的电子束曝光装置，制成光掩模。

作为这样的半导体器件的生产方法，有特开2002-41126号公报中公开的生产方法。该公报中公开了的生产方法是在有意愿的接受订货商与有意愿的订货商之间通过网络接收、发送信息，从而进行接受半导体器件的生产的订货，生产半导体器件的方法。该生产方法包括：根据有意愿的订货商的要求，促使有意愿的订货商输入半导体器件的规格的第1步骤；根据由有意愿的订货商所选择的半导体器件的规格，考虑到采用字符投影方式的带电粒子束曝光而复制图形的条件，生成多个电路图形，同时算出关于各电路图形的至少2个图形的设计参数的第2步骤；以及对于各电路图形由有意愿的订货商提示上述至少2个图形的设计参数，促使有意愿的订货商选择满足所期望的条件的电路图形的第3步骤。

如果采取该公报中所记述的生产方法，则委托半导体器件的生产的有意愿的订货商通过网络与有意愿的接受订货商直接连接，可通过模拟进行欲生产的器件的电路图形的生成。此时，分别由有意愿的订货商提示为有意愿的订货商所必须的器件的性能、芯片面积及成本、时限等成为有意愿的订货商委托生产时的判断材料的各参数，由有意愿的订货商作出选择，从而不产生以往在设计人员、工艺技术人员与有意愿的订货商之间所产生的器件设计意识的偏差，对有意愿的订货商来说，可实现最佳的图形的选择和订货。更具体地说，可选择能够廉价或快速生产的图形，以代替器件性能稍差的图形。

可是，在上述公报所公开的生产方法中，采用了字符投影方式。按照该字符投影方式，将电路图形分割成微小的长方形或三角形，重复进行曝光。从而，在进行图形曝光时不必制作专用的掩模。因此，将该公报中公开了的生产方法应用于光掩模的订货系统也看不到效果。

即，在使用光掩模时，光掩模的价格根据图形描绘装置、缺陷检查装置等所使用的制造装置的运行成本来设定。运行成本一般从装置的运转率按简单平均求得。用该方法可得到与芯片的面积的大小无关的恒定的价格。在这种情况下，掩模制造商虽然可得到与芯片面积的差值对应的边际利润，但结果却是掩模价格居高不下。

发明内容

本发明的目的在于提供能决定制造低价格的光掩模的制造商的掩模制造商选择方法。

本发明的另一目的在于提供能容易地决定制造低价格的光掩模的制造商的掩模制造商选择方法。

本发明的又一目的在于提供能准确地决定制造低价格的光掩模的制造商的掩模制造商选择方法。

本发明的掩模制造商选择方法是从制造用于半导体晶片的制造的光掩模的2个以上的掩模制造商中选择1个掩模制造商。该掩模制造商选择方法包含：对2个以上的每一掩模制造商，存储光掩模上所描绘的图形的最大面积的步骤；对2个以上的每一掩模制造商，存储由订货商根据最大面积与光掩模上所描绘的图形的面积的比率为光掩模的制造所支付的价格的步骤；存储包含光掩模的图形的面积的订货规格数据的步骤；对2个以上的每一掩模制造商，算出最大面积与在订货规格数据中所包含的光掩模的图形的面积的描绘比率的步骤；对2个以上的每一掩模制造商，根据所算出的描绘比率和根据所存储的比率而存储的价格，算出对订货规格数据的估计价格的步骤；以及根据对2个以上的每一掩模制造商所算出的、2个以上的估计价格，从2个以上的掩模制造商中选择1个掩模制造商的步骤。

按照本发明，根据掩模图形的最大面积和订货规格数据中所包含的光掩模的图形的面积，算出描绘比率。根据该描绘比率，按照比率算出预先存储的价格。例如，可设定为比率越高，价格越高；比率越低，价格越低。因此，可算出实际订货的图形的面积相对于最大面积越小，估计价格就越低。这样一来，可根据光掩模的描绘比率改变估计价格，选择掩模制造商。其结果是，可提供能容易地决定制造低价格的光掩模的制造商的掩模制造商选择方法。

本发明的另一方面的掩模制造商选择方法是从制造用于半导体晶片的制造的光掩模的2个以上的掩模制造商中选择1个掩模制造商。该掩模制造商选择方法包含：对2个以上的每一掩模制造商，存储光掩模上所描绘的图形的最大面积的步骤；存储包含光掩模的多个图形的面积的订货规格数据的步骤；对2个以上的每一掩模制造商，算出最大面积与在订货规格数据中所包含的光掩模的图形的面积的描绘比率的步骤；对2个以上的每一掩模制造商，建立将多个图形组合起来的可合成信息以使组合图形的描绘比率满足所预定的条件的步骤；以及根据对2个以上的每一掩模制造商所建立的可合成信息，从2个以上的掩模制造商中选择1个掩模制造商的步骤。

按照本发明，根据掩模图形的最大面积和在订货规格数据中所包含的光掩模的图形的面积，可算出描绘比率。例如，可建立将多个图形组合起来的可合成信息，使得该描绘比率不远远超过100％。如果有可能将实际订货的多个图形组合起来制造，则估计价格会降低。这样一来，根据光掩模的描绘比率，可找到被合成的图形，选择掩模制造商。其结果是，可提供能容易地决定制造低价格的光掩模的制造商的掩模制造商选择方法。

附图说明

图1是本发明的第1实施例的掩模制造商选择系统的整体结构图。

图2是表示在光掩模中所描绘的图形的描绘面积的图。

图3是实现图1中所示的服务器的计算机的外观图。

图4是图3中所示的计算机的控制框图。

图5是表示从本发明第1实施例的掩模制造商用计算机发送给服务器并存储起来的描绘面积100％区域数据的图。

图6是表示从本发明第1实施例的掩模制造商用计算机发送给服务器并存储起来的单价数据的图。

图7是表示被存储在本发明第1实施例的服务器中的描绘区域数据的图。

图8是表示在本发明第1实施例的掩模制造商选择系统中所执行的程序的控制结构的流程图。

图9和图10是表示估计价格的比较表的图。

图11是表示在本发明第1实施例的变例的掩模制造商选择系统中所执行的程序的控制结构的流程图。

图12是表示被存储在本发明第2实施例的服务器中的各光掩模工序中的规格和用途数据库的图。

图13是表示被存储在本发明第2实施例的服务器中的光掩模可合成数据的图。

图14是表示在本发明第2实施例的掩模制造商选择系统中所执行的程序的控制结构的流程图。

具体实施方式

以下，参照附图，同时说明本发明的实施例。在以下的说明和附图中，对同一部件标以同一符号。它们的名称和功能也相同。因此，就不对它们重复进行详细的说明了。

(第1实施例)

参照图1，本实施例的掩模制造商选择系统包含：制造光掩模的多个掩模制造商的计算机200；建立光掩模的订货数据，发送给由服务器100选定的掩模制造商的计算机200的订货用计算机300；以及经网络500与这些计算机连接的晶片制造商的服务器100。

服务器100存储包含光掩模的描绘区域的订货明细数据。掩模制造商的计算机200将描绘光掩模的衬底中的最大描绘面积建立为描绘面积100％的区域数据并存储起来。掩模制造商的计算机200建立并存储对应于光掩模的描绘面积与最大描绘面积的比率的光掩模的单价数据。对每一掩模制造商建立这些描绘面积100％区域数据和光掩模的单价数据。

参照图2，说明描绘面积100％区域。在图2所示的光掩模1000中，设定由衬底的尺寸决定的描绘面积的规定值，即描绘面积100％区域1010。在描绘区域1020中描绘实际的图形，使得实际上不远远超过该描绘面积100％区域1010。这时，(描绘区域1020的面积)/(描绘面积100％区域的面积)作为描绘面积率而被算出。

服务器100存储从多个掩模制造商的计算机200接收到的描绘面积100％区域数据和单价数据。服务器100根据包含在所存储的订货明细数据中的光掩模的描绘区域和描绘面积100％区域数据，算出描绘面积率。服务器100根据算出的描绘面积率和单价数据，算出光掩模的单价。对多个掩模制造商的每一个都进行这样的处理，算出与多个掩模制造商对应的价格。根据服务器100算出的价格，实现选择订货的掩模制造商这样的掩模制造商选择功能。

本实施例的掩模制造商选择系统的服务器100中的掩模制造商选择功能在计算机中通过由CPU(中央处理装置)执行规定的程序来实现。

在图3中，示出了实现掩模制造商选择功能的服务器100的一例的计算机系统的外观。参照图3，该计算机系统包含备有FD(软盘)驱动装置106和CD-ROM(小型盘只读存储器)驱动装置108的计算机102、监视器104、键盘110和鼠标112。

在图4中，用框图形式示出了该计算机系统的结构。如图4中所示，计算机102除上述FD驱动装置106和CD-ROM驱动装置108外，还包含用总线相互连接的CPU(中央处理装置)120、存储器122、固定盘124以及与其它计算机通信用的通信接口128。FD116被安装到FD驱动装置106上。CD-ROM118被安装到CD-ROM驱动装置108上。与软件对应的规定的程序被存储在这些FD116和CD-ROM118中。

如已经叙述的那样，具有掩模制造商选择功能的服务器100通过计算机硬件和由CPU120执行的软件来实现。一般来说，如此制作的软件作为程序被存储到FD116、CD-ROM118等的记录介质中并进行流通，由FD驱动装置106或CD-ROM驱动装置108等从记录介质读取并暂时存储到固定盘124中。软件进而从固定盘124被读出到存储器122中，由CPU120执行。

这些计算机的硬件本身是一般的硬件。计算机包括含有CPU的控制电路、存储电路、输入电路、输出电路和OS(操作系统)，是包括执行程序的环境的计算机。本发明的程序是使这样的计算机具有作为掩模制造商选择装置的功能的程序。因此，本发明的最本质的部分通过被记录在FD、CD-ROM、存储卡、固定盘等的记录介质中的程序来实现。

再有，由于图3和图4中所示的计算机本身的工作是众所周知的，此处就不重复对其进行详细的说明了。

图1所示的掩模制造商的计算机200也是一般的计算机系统。由此，在图3和图4中用带有括弧的部分示出了与掩模制造商的计算机200对应的参照符号。

参照图5，说明被存储在本实施例的掩模制造商选择系统的服务器100的固定盘124中的描绘面积100％区域数据。如图5所示，描绘面积100％区域数据是从掩模制造商X公司的计算机200、掩模制造商Y公司的计算机200、掩模制造商Z公司的计算机200和掩模制造商W公司的计算机200经网络500接收到的数据。如图5所示，对于各掩模制造商的每一个，都存储100％代码、100％区域(尺寸(X)、尺寸(Y))、衬底尺寸、掩模种类和遮光膜的种类。

参照图6，说明被存储在服务器100的固定盘120中的单价数据。如图6所示，该单价数据也与上述的描绘面积100％区域数据一样，是从掩模制造商X公司的计算机200、掩模制造商Y公司的计算机200、掩模制造商Z公司的计算机200和掩模制造商W公司的计算机200经网络500接收到的数据。如图6所示，对于各掩模制造商的每一个，都存储100％代码、描绘面积率和对各自的描绘面积率的单价。

再有，图5和图6中所示的描绘面积100％区域数据和单价数据由掩模制造商建立，被发送到服务器100中。

参照图7，说明在服务器100中建立的描绘区域数据。如图7所示，对于委托估算的每个光掩模，描绘区域数据包含估算委托编号、描绘区域(X)、描绘区域(Y)、衬底尺寸、掩模种类和遮光膜的种类。

参照图8，说明用本实施例的掩模制造商选择系统中的晶片制造商的服务器100和掩模制造商的计算机200中执行的程序的控制结构。

在步骤(以下将步骤简称为S)100中，晶片制造商的服务器100的CPU120从订货明细单中抽出描绘区域数据(图7)。在S102中，CPU120将所抽出的描绘区域数据存储在固定盘120中。

在S104中，CPU120判断是否从掩模制造商的计算机200中接收到描绘面积100％区域数据和单价数据。一旦接收到描绘面积100％区域数据和单价数据(在S104中为“是”)，就移送到S106进行处理。如果不是那样(在S104中为“否”)，则返回到S104进行处理，一直等待到从掩模制造商的计算机200中接收到描绘面积100％区域数据和单价数据为止。

在S106中，CPU120将描绘面积100％区域数据和单价数据存储到固定盘120中。

在S108中，CPU120判断是否存储了从预定数目的掩模制造商的计算机200中接收到的数据。一旦存储了从预定数目的掩模制造商的计算机200中接收到的数据(在S108中为“是”)，就移送到S110进行处理。如果不是那样(在S108中为“否”)，则返回到S104进行处理。

在S110中，CPU120根据描绘面积100％区域数据，抽出符合条件的100％代码。在S112中，CPU120根据所抽出的100％代码的描绘面积100％区域和描绘区域数据的描绘区域，算出描绘面积率。在S114中，CPU120根据单价数据和描绘面积率，算出单价。

在S116中，CPU120根据所算出的单价，决定订货目的方的掩模制造商。这时，决定将例如单价最低的掩模制造商作为订货目的方的掩模制造商。

在S118中，CPU120建立订货数据，发送给订货用计算机300。再有，在S118中的处理中，虽然说明了将订货数据发送给订货用计算机300的情况，但不限于此。例如，服务器100的CPU120也可以建立订货数据，并将该订货数据直接发送给掩模制造商的计算机200。

在S200中，掩模制造商的计算机200的CPU220建立描绘面积100％区域数据(图5)。在S202中，CPU220建立单价数据(图6)。在S204中，CPU220将描绘面积100％区域数据和单价数据存储在固定盘220中。在S206中，CPU220将描绘面积100％区域数据和单价数据发送给晶片制造商的服务器100。

根据以上的结构和流程图，说明本实施例的掩模制造商选择系统的工作。

在掩模制造商的计算机200中，由掩模制造商的的操作人员建立描绘面积100％区域数据(图5)，建立单价数据(图6)。这时，在掩模制造商X公司的计算机200中，建立图5所示的X公司的描绘面积100％区域数据，建立图6所示的X公司的单价数据。已建立的描绘面积100％区域数据和单价数据被发送给晶片制造商的服务器100(S206)。

在晶片制造商的服务器100中，从订货明细单抽出描绘区域数据(图7)(S100)，并将所抽出的描绘区域数据存储到固定盘120中(S102)。

服务器100一旦从掩模制造商的计算机200中接收到描绘面积100％区域数据和单价数据(在S104中为“是”)，则描绘面积100％区域数据和单价数据即被存储到服务器100的固定盘120中(S106)。直至存储从预定数目的掩模制造商的计算机200中接收到的数据为止，将反复进行这样的工作。

一旦从预定数目的掩模制造商的计算机200中接收到描绘面积100％区域数据和单价数据(在S108中为“是”)，则根据描绘面积100％区域数据，抽出符合条件的100％代码(S110)。这时，对于图7中所示的描绘区域数据的估算委托编号为“1020625”的掩模，衬底尺寸为“6025”，掩模种类为“Reticle”，遮光膜的种类为“Binary”。当具有从图5所示的掩模制造商各公司接收到的描绘面积100％区域数据的某个掩模的衬底尺寸、掩模种类和遮光膜的种类与上述掩模的衬底尺寸、掩模种类和遮光膜的种类一致时，该掩模即被抽出。其结果是，如图9所示，两种掩模，即X公司的100％代码为“XA”的掩模和W公司的100％代码为”WA”的掩模适合于估算委托编号为“1020625”的掩模。

根据所抽出的100％代码的描绘100％区域和描绘区域数据的描绘区域，算出描绘面积率(S112)。这时，如图9所示，例如对于X公司的100％代码“XA”，可根据估算委托编号为“1020625”的描绘区域(X＝102.55、Y＝48.00)和X公司的100％代码为“XA”的描绘100％区域(X＝110、Y＝100)，算出描绘面积率为63％。采用同样的做法，对于W公司的100％代码“WA”，也可算出描绘面积率为64％。

根据单价数据和描绘面积率，可算出单价(S114)。这时，如图9所示，对于估算委托编号为“1020625”的X公司的100％代码“XA”，其描绘面积率为63％，对于W公司的100％代码“WA”，其描绘面积率为64％。根据这样的描绘面积率和图6中所示的单价数据，选择对应于X公司的100％代码为“XA”的60～80％的描绘面积率的单价80万日元，选择对应于W公司的100％代码为“WA”的40～65％的描绘面积率的单价60万日元。其结果是，如图9所示，对于估算委托编号“1020625”，算出对100％代码为“XA”的单价为80万日元，对100％代码为“WA”的单价为60万日元。

根据所算出的单价，决定订货目的方的掩模制造商。这时，如图9所示，例如可选择单价较低的100％代码为“WA”的掩模制造商W公司。

另外，如图7所示，对于估算委托编号“1020626”，采用同样的做法执行的结果是，所算出的单价示于图10。这时，选择对于估算委托编号“1020626”的单价最低的Z公司作为订货目的方的掩模制造商。

采用以上的做法，如采用本实施例的掩模制造商选择系统，则根据与掩模图形的100％对应的面积和订货规格中所包含的光掩模的图形的实际面积，可算出描绘面积率。根据该描绘面积率和预定的单价，算出估计价格。例如被设定为，该描绘面积率越高，单价越高；描绘面积率越低，单价越低。因此，可算出实际订货的光掩模的图形的面积相对于100％面积越小，估计价格就越低。这样一来，根据光掩模的描绘面积率，可使估计价格改变，从而选择掩模制造商。

(第1实施例的变例)

以下，说明本发明的第1实施例的掩模制造商选择系统的变例。再有，以下所示的变例具有与上述第1实施例的掩模制造商选择系统的硬件结构同样的硬件结构。因此，这里就不对它们重复进行详细的说明了。

参照图11，说明在本变例的晶片制造商的服务器100和掩模制造商的计算机200中执行的程序的控制结构。再有，在图11所示的流程图中，对于与上述的图8的流程图相同的处理标以相同的步骤编号。对它们的处理也是相同的。因此，这里就不对它们重复进行详细的说明了。

在S150中，晶片制造商的服务器100的CPU120将描绘区域数据发送给掩模制造商的计算机200。在S152中，CPU120判断是否从掩模制造商的计算机200中接收到单价信息。一旦接收到单价信息(在S152中为“是”)，就移送到S154进行处理。如果不是那样(在S152中为“否”)，则返回到S152进行处理，等待接收来自掩模制造商的计算机200的单价信息。

在S154中，CPU120将单价信息存储到固定盘124中。

在S156中，CPU120判断是否存储了从预定数目的掩模制造商的计算机200中接收到的单价信息。一旦存储了从预定数目的掩模制造商的计算机200中接收到的单价信息(在S156中为“是”)，就移送到S158进行处理。如果不是那样(在S156中为“否”)，则返回到S152进行处理。

在S158中，CPU120根据在固定盘120中所存储的单价信息，决定订货目的方的掩模制造商。这时，决定将单价最低的掩模制造商作为订货目的方的掩模制造商。

在S250中，掩模制造商的计算机200的CPU220判断是否从晶片制造商的服务器100中接收到描绘区域数据。一旦从晶片制造商的服务器100中接收到描绘区域数据(在S250中为“是”)，就移送到S252进行处理。如果不是那样(在S250中为“否”)，则返回到S250进行处理，一直等待到从晶片制造商的服务器100中接收到描绘区域数据为止。

在S252中，CPU220根据描绘面积100％区域数据，抽出符合条件的100％代码。在S254中，CPU220根据所抽出的100％代码的描绘100％区域和描绘区域数据的描绘区域，算出描绘面积率。

在S256中，CPU220根据单价数据和描绘面积率，算出单价。在S258中，CPU220将包含算出的单价在内的单价信息发送给晶片制造商的服务器100。

根据以上的结构和流程图，说明本变例的掩模制造商选择系统的工作。

在晶片制造商的服务器100中，从订货明细单抽出描绘区域数据(图7)(S100)，并将所抽出的描绘区域数据存储到固定盘120中(S102)。描绘区域数据被发送给掩模制造商的计算机200(S150)，这时，并且被发送给多个掩模制造商的计算机200。

在掩模制造商的计算机200中，建立了描绘面积100％区域数据(图5)(S200)，建立了单价数据(图6)(S202)。描绘面积100％区域数据和单价数据被存储到掩模制造商的计算机200的固定盘220中(S204)。

掩模制造商的计算机200一旦从晶体片制造商的服务器100中接收到描绘区域数据(在S250中为”是”)，则根据描绘面积100％区域数据，抽出符合条件的100％代码(S252)。

根据所抽出的100％代码的描绘100％区域和描绘区域数据的描绘区域，算出描绘面积率(S254)。

根据单价数据和描绘面积率，可从描绘面积率算出单价(S256)。可建立包含所算出的单价在内的单价信息，发送给服务器100(S258)。

在晶片制造商的服务器100中，一旦从掩模制造商的计算机200中接收到单价信息(在S252中为“是”)，则将接收到的单价信息存储到固定盘120中(S254)。直至存储从预定数目的掩模制造商的计算机200中接收到的数据为止，将反复进行这样的工作。一旦从预定数目的掩模制造商的计算机200中接收到单价信息(在S156中为“是”)，则根据单价信息，决定订货目的方的掩模制造商(S158)。

采用以上的做法，在本变例的掩模制造商选择系统中，也与上述的第1实施例一样，在掩模制造商的计算机中算出描绘面积率，根据所算出的描绘面积率，可算出光掩模的单价。所算出的单价作为单价信息从掩模制造商的计算机发送给服务器，在服务器中，根据单价信息，可决定订货目的方的掩模制造商。

(第2实施例)

以下，说明本发明的第2实施例的掩模制造商选择系统。再有，以下所示的数据库和流程图以外的晶片制造商的服务器100和掩模制造商的计算机200的硬件结构与上述第1实施例相同。因此，这里就不对它们重复进行详细的说明了。

参照图12，按掩模制造商的计算机200的固定盘220中所存储的各光掩盖模工序，说明规格和用途数据库。如图12所示，对每一掩模名称和工序名称，该数据库存储器件的芯片尺寸、晶体片制造工序中使用的光掩模的顺序、转印标记的种类和配置、光掩模制造条件、器件的制造用途、器件的制造期和发运目的地。

参照图13，说明在掩模制造商的计算机200中建立并发送给服务器100的可合成的光掩模表格数据。如图13所示，对每一掩模名称和工序名称，可合成的光掩模表格数据存储可合成的掩模名称和工序名称、合成后的描绘区域(X、Y)。

参照图14，说明在本实施例的掩模制造商选择系统的晶片制造商的服务器100和掩模制造商的计算机200中执行的程序的控制结构。再有，在图14所示的流程图中，对于与上述的图11的流程图中所示的处理相同的处理标以相同的步骤编号。对它们的处理也是相同的。因此，这里就不对它们重复进行详细的说明了。

在S170中，晶片制造商的服务器100的CPU120判断是否从掩模制造商的计算机200中接收到可合成的光掩模表格数据(图13)。一旦接收到可合成的光掩模表格数据(在S170中为“是”)，就移送到S172进行处理。如果不是那样(在S170中为“否”)，则返回到S170进行处理，一直等待到从掩模制造商的计算机200中接收到可合成的光掩模表格数据为止。

在S172中，CPU120将可合成的光掩模表格数据(图13)存储到固定盘124中。

在S174中，CPU120根据可合成的光掩模表格数据进行合成的判断。这时，根据晶片制造商的服务器100的监视器104中所显示的内容，根据操作人员所输入的信息，进行合成的判断。

在S270中，掩模制造商的计算机200的CPU220按各光掩模工序建立规格和用途数据库(图12)。在S272中，CPU220算出描绘面积率。在S274中，CPU220根据数据库，算出符合各种条件的的组合。这时，算出总的描绘面积率在100％以下。

在S276中，CPU220建立可合成的光掩模表格数据(图13)。在S278中，CPU220将可合成的光掩模表格数据(图13)发送给晶片制造商的服务器100。

根据以上的结构和流程图，说明本实施例的掩模制造商选择系统的工作。

在晶片制造商的服务器100中，从订货明细单抽出描绘区域数据(图7)(S100)，存储到固定盘120中(S102)。描绘区域数据(图7)被发送给掩模制造商的计算机200(S150)。

在掩模制造商的计算机200中，建立了描绘面积100％区域数据(图5)(S200)，建立了单价数据(图6)(S202)。描绘面积100％区域数据和单价数据被存储到固定盘220中(S204)。

掩模制造商的计算机200一旦从晶片制造商的服务器100中接收到描绘区域数据(在S250中为“是”)，则按各光掩模工序建立规格和用途数据库(S270)。算出描绘面积率(S272)，并根据数据库，算出符合各种条件的组合。例如，如图12所示，发运目的地相同的工序名称“BBB”和工序名称“CCC”为合成对象的工序。这时，还将该组合设定为掩模的总的描绘面积率为100％以下。

掩模制造商的计算机200建立可合成的光掩模表格数据(图13)(S276)，发送给晶片制造商的服务器100(S278)。

在晶片制造商的服务器100中，一旦接收到可合成的光掩模表格数据(图13)(在S170中为“是”)，则可合成的光掩模表格数据就被存储到固定盘124中(S172)。根据可合成的光掩模表格数据(图13)，判断是否进行光掩模的合成(S174)。

采用以上的做法，如采用本实施例的掩模制造商选择系统，则在描绘面积率不远远超过100％的范围，对光掩模进行合成，在1块衬底上制造多个掩模。据此，可降低光掩模的单价。

Claims (10)

1.一种掩模制造商选择方法，读掩模制造商选择方法可用来从制造使用于半导体晶片的制造的光掩模的2个以上的掩模制造商中选择1个掩模制造商，其特征在于：

上述掩模制造商选择方法包含：

对上述2个以上掩模制造商的每一个，存储光掩模上所描绘的图形的最大面积的步骤；

对上述2个以上掩模制造商的每一个，根据上述最大面积与在光掩模上所描绘的图形的面积的比率，对上述光掩模的制造，存储订货商支付的价格的步骤；

存储包含上述光掩模的图形的面积的订货规格数据的步骤；

对上述2个以上掩模制造商的每一个，算出上述最大面积与上述订货规格数据中所包含的光掩模的图形的面积的描绘比率的步骤；

对上述2个以上掩模制造商的每一个，根据上述算出的描绘比率和按照上述被存储了的上述比率而被存储了的价格，算出对上述订货规格数据的估计价格的步骤；以及

根据对上述2个以上掩模制造商的每一个算出的2种以上的上述估计价格，从上述2个以上掩模制造商中选择1个掩模制造商的步骤。

2.如权利要求1所述的掩模制造商选择方法，其特征在于：

上述掩模制造商选择方法还包含从上述掩模制造商中接收与上述最大面积和上述比率对应的价格的步骤。

3.如权利要求1所述的掩模制造商选择方法，其特征在于：

上述掩模制造商选择方法还包含将对每一上述掩模制造商所算出的估计价格发送给上述订货商的步骤。

4.如权利要求1所述的掩模制造商选择方法，其特征在于：

上述掩模制造商选择方法还包含建立对上述选定了的上述1个掩模制造商的订货数据的步骤。

5.如权利要求1所述的掩模制造商选择方法，其特征在于：

上述掩模制造商选择方法还包含将上述已建立的上述订货数据发送给上述掩模制造商的步骤。

6.一种掩模制造商选择方法，该掩模制造商选择方法可用来从制造使用于半导体晶片的制造的光掩模的2个以上的掩模制造商中选择1个掩模制造商，其特征在于：

上述掩模制造商选择方法包含：

对上述2个以上掩模制造商的每一个，存储光掩模上所描绘的图形的最大面积的步骤；

存储包含上述光掩模的多个图形的面积的订货规格数据的步骤；

对上述2个以上掩模制造商的每一个，算出上述最大面积与上述订货规格数据中所包含的光掩模的图形的面积的描绘比率的步骤；

对上述2个以上掩模制造商的每一个，建立将上述多个图形组合起来的可合成信息，以使组合图形的描绘比率满足预定条件的步骤；以及

根据对上述2个以上掩模制造商的每一个所建立的可合成信息，从上述2个以上掩模制造商中选择1个掩模制造商的步骤。

7.如权利要求6所述的掩模制造商选择方法，其特征在于：

上述掩模制造商选择方法还包含从上述掩模制造商接收上述最大面积的步骤。

8.如权利要求6所述的掩模制造商选择方法，其特征在于：

上述掩模制造商选择方法还包含将对每一上述掩模制造商所建立的可合成信息发送给上述订货商的步骤。

9.如权利要求6所述的掩模制造商选择方法，其特征在于：

上述掩模制造商选择方法还包含建立对上述选定了的上述1个掩模制造商的订货数据的步骤。

10.如权利要求6所述的掩模制造商选择方法，其特征在于：

上述掩模制造商选择方法还包含将上述已建立的上述订货数据发送给上述掩模制造商的步骤。

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