CN1376727A - 一种生物降解型抛光膜及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明是一种生物降解抛光膜,其特点是将生物降解树脂溶于水或有机溶剂中,制得树脂胶,再将常用的磨料微粉与树脂胶混匀制成涂料,然后将涂料涂布在生物降解塑料薄膜基带表面,经干燥后即得所需的产品。本发明的抛光膜埋弃处理后可通过水或土壤环境中的微生物自然分解成对土壤环境无害的成分,是一种对环境不会造成污染的一种抛光膜。
Description
本发明涉及抛光膜，更确切地说，是一种生物降解型抛光膜。许多高科技元器件的精密加工都离不开研磨抛光，尤其是利用抛光带或者抛光片的加工方式趋于增加，如各种音像数据记录的磁盘、磁带、磁头、光纤联接器、耦合器、终止器、单晶硅片以及其他精密硬质器件；抛光膜不仅是研磨抛光，而且还可以清洁器件表面的异物，如半导体硅片的测试探针、集成块测试插座以及液晶显示板表面的清洁处理都用到抛光膜。
传统使用的抛光膜是以塑料薄膜为基带，用树脂胶配以溶剂和固化剂，并与研磨混合，然后涂布其上，经干燥制成，其中，基带的主要材料有：聚脂、聚氯乙烯、尼龙、聚乙烯、聚丙烯等塑料薄膜；树脂胶包括：聚脂、聚氯乙烯、聚氨酯、硝化绵、聚丙烯酸酯、环氧树脂中的一种或者两种以上的混合物；研磨剂又称磨料，主要有：百刚玉、碳化硅、氧化铬、氧化铁、氧化硅、氧化铈、金刚石等微粉。这些抛光膜使用后的废物处理，主要采用燃烧或者埋弃等办法。但是，燃烧时放出热量或者产生有害气体，对大气环境有害；埋弃土中时会造成半永久性的残留，而埋弃场所有限，因此不是好的处理方法。
本发明的目的是克服已有技术的缺点，提出了一种能够为微生物自然分解、对环境没有污染的抛光膜及其制造方法。
实现本发明目的的技术方案：选用能被微生物分解的塑料薄膜作用基带，选用具有微生物分解性能的高分子树脂作为固定研磨剂的涂料胶，选用一般的对土壤环境无害的研磨剂，使研靡剂在涂料胶中充分混合后，涂布于基带上，经干燥后即制成生物降解型抛光膜。
本发明提供的抛光膜是由下述方法制得：
一种生物降解型抛光膜，其特征在于该抛光膜是由下述方法制备获得：将生物降解树脂溶于水或有机溶剂中，制得含10-90％树脂的树脂胶，再将磨料微粉与树脂胶以1～9∶9～1重量比混匀后涂布在厚度为25-500μm(最好是100-200μm)的生物降解塑料薄膜基带表面，经干燥后即得到所需的产品。
本发明提供的抛光膜的制备方包括以下步骤：
(1)将生物降解树脂溶解于水或有机溶剂中，制得含10-90％树脂的树脂胶，
(2)磨料微粉与步骤(1)制得的树脂与1～9∶9～1重量比混合，用球磨机、沙磨机或超声波分散机充分混合分散，制成涂料，
(3)将步骤(2)制得的涂料用辊式涂工机或喷涂机均匀地涂布在厚度为25-500μm的生物降解塑料薄膜基带表面，经干燥后即得到涂层厚度为3-300μm的生物降降抛光膜。
本发明的方法中所用的生物降解塑料薄膜是利用国内外已知的生物降解树脂，采用公知的薄膜挤出机生产出不同厚度的薄膜如MITSUBISHI RESIN公司生产的商品名为ECOLOJU(聚乳酸)以及脂肪族聚酯、羟基聚酯塑料薄膜等，它们在市场上都可以买到。
本发明的方法中所用的生物降解树脂为合成树脂(特开平4-146929公报)或天然高分子树脂(特开平9-77910公报)，世界各国均有生产如日本DAISERU CHEMICAL公司生产的SERUGREEN产品，具体的包括聚乳脂、脂肪族聚酯、羟基聚酯以及包括马铃薯淀粉、小麦淀粉、米淀粉在内的天然高分子树脂，它们都能从市场上买到(类似于微生物降解塑料、医院手术用的生物降解缝合线、皮下植入剂的基质材料等)。它们可为水或土壤等环境中的微生物所分解。
本发明的方法中所用的磨料为常用的百刚玉、碳化硅、氧化铁、氧化硅、金刚玉微粉，其粒度为1-40μm，它们都是对土壤环境无害的研磨剂。
本发明的方法所用的有机溶剂包括甲苯、二甲苯、甲乙酮、醋酸乙酯在内的一种或两种以上的混合物。
本发明的方法中所用的设备都是常用的已知设备。
本发明的优点：
本发明的抛光膜由于所用的树脂和塑料薄膜基带均具有生物降解性能，所用的研磨剂又是对土壤环境无害物质，因此本发明的抛光膜埋弃处理后可通过水或土壤环境中的微生物自然分解成对土壤环境无害的成分，是一种对环境不会造成污染的抛光剂。
下面通过具体实例进一步说明本发明的特点。
实例1
在800g甲苯/甲乙酮/醋酸乙酯1∶1∶1)的混合溶剂中加颗粒状的生物降解树脂(聚乳酸树脂)200g，室温放置一天后，搅拌4小时完全溶解，再加入粒度为15微米的碳化硅微粉500g，继续搅拌1小时，即为涂料；然后利用反向滚筒式涂工机，把上述涂料涂于50微米厚的聚乳酸薄膜(MITSUBISHE RESIN公司生产的ECOLOJU)上，在70℃下干燥后形成20微米厚的磨料涂层的生物降解型抛光膜。该抛光膜总厚度70μm，表面粗糙度Ra为2.5μm。
实例2
在200g甲乙酮-醋酸乙酯(1∶2)的混合溶剂中，加入粉状的羟基聚酯(特开平4-146929)700g，微热，放置二天后，搅拌至全溶，再加入粒度为30μm的百刚玉微粉100g，用超声波分散后，用球磨机继续分散24小时以上，然后用实例1的涂布方式涂布于相同的生物降解膜上(厚度100μm)，在55℃下干燥后形成40μm厚的磨料涂层的生物降解型抛光膜。
实例3
在500g甲乙酮/醋酸乙酯/水(1∶1∶2)的混合溶剂中加入小麦淀粉300g，再加入粒度为15微米的氧化硅，温热搅拌均匀后，置于球磨机中分散24小时涂布于50μm厚的聚乳酸薄膜(ECOLOJU)上，干燥后得25μm厚的磨料薄层的生物降解抛光膜。
实例4
本实例是应用实例。
裁成直径为127mm的圆片，利用日本精工技研制造的SFP-550研磨机，研磨12个头的光纤联接器，用本发明实例1的抛光膜在30秒内可以除去端部的胶，进一步研磨60秒，可以形成所需的球面，符合一般的工艺性能要求。
Claims (6)
1.一种生物降解型抛光膜，其特征在于该抛光膜是由下述方法制备获得：将生物降解树脂溶于水或有机溶剂中，制得含10-90％树脂的树脂胶，再将磨料微粉与树脂胶以1～9∶9～1重量比混匀后涂布在厚度为25-500μm的生物降解塑料薄膜基带表面，经干燥后即得到所需的产品。
2.权利要求1所述的生物降解型抛光膜的制备方法，包括以下步骤：
(1)将生物降解树脂溶解于水或有机溶剂中，制得含10-90％树脂的树脂胶，
(2)磨料微粉与步骤(1)制得的树脂与1～9∶9～1重量比混合，用球磨机、沙磨机或超声波分散机充分混合分散，制成涂料，
(3)将步骤(2)制得的涂料用辊式涂工机或喷涂机均匀地涂布在厚度为25-500μm的生物降解塑料薄膜基带表面，经干燥后即得到涂层厚度为3-300μm的生物降降抛光膜。
3.按照权利要求1所述的方法，其特征在于所述的生物降解树脂包括聚乳酸、脂肪族聚酯、羟基聚酯以及包括马铃薯淀粉、小麦淀粉、米淀粉在内的天然高分子树脂。
4.按照权利要求1所述的方法，其特征在于所述的生物降解塑料薄膜包括聚乳酸、脂肪族聚酯、羟基聚酯薄膜。
5.按照权利要求1所述的方法，其特征在于所述的磨料包括百刚玉、碳化硅、氧化铁、氧化硅、金刚石。
6.按照权利要求1所述的方法，其特征在于所述的有机溶剂包括甲苯、二甲苯、甲乙酮、醋酸乙酯在内的一种或两种以上的混合物。
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Legal Events
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| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| ASS | Succession or assignment of patent right |
Owner name: BEIJING GUORUISHENG TECHNOLOGY CO., LTD. Free format text: FORMER OWNER: WANG ZHENGUO Effective date: 20030424 |
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| C41 | Transfer of patent application or patent right or utility model | ||
| TA01 | Transfer of patent application right |
Effective date of registration: 20030425 Address after: 100081, Room 606, block A, 48 South Street, Zhongguancun, Beijing, Haidian District Applicant after: Beijing Grish Hitech Co., Ltd. Address before: 100036, No. 28, Fu Cheng Road, Beijing, Haidian District, No. 30, -451 Applicant before: Wang Zhenguo |
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Owner name: BEIJING GRISH HITECH CO., LTD. Free format text: FORMER NAME: BEIJING GUORUI SCIENCE AND TECHNOLOGY CO.,LTD. |
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Address after: 100085 Beijing, Haidian District, on the road to information on the ground floor, building 12, C402, C406 room, No. 1 Patentee after: BEIJING GRISH HITECH CO., LTD. Address before: Room 606, block A, No. 48 South Main Street, Beijing, Haidian District, Zhongguancun Patentee before: Beijing Grish Hitech Co., Ltd. |
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| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20040616 Termination date: 20170322 |