CN1265370C

CN1265370C - 光盘和光盘装置

Info

Publication number: CN1265370C
Application number: CNB031601952A
Authority: CN
Inventors: 大寺泰章
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 2002-10-07
Filing date: 2003-09-29
Publication date: 2006-07-19
Anticipated expiration: 2023-09-29
Also published as: US7283459B2; US20040071074A1; CN1497560A; JP2004127468A; US20090016206A1

Abstract

在此提供一种采用PRML(部分响应和最大近似性)方法用于再现所记录信息的光盘，并且其最短凹坑(20)具有圆锥形状而没有底部表面。如果采用PRML方法，由于不需要保证最短凹坑(20)的较大再现波形幅度，因此该凹坑可以具有圆锥形状。即使用常规原来的光盘读取器和原来的光盘曝光处理，该圆锥凹坑也允许用密集的最短凹坑来记录，从而增加在分割方向上的记录密度。

Description

光盘和光盘装置

技术领域

本发明涉及一种光盘，更加具体来说涉及形成在光盘上的信息坑的形状。

在光盘中，凹坑被预先刻录在被记录数据的一部分上的透明模制基片上，例如，RAM盘或ROM盘的预先格式化部分上。用激光束从与形成凹坑的表面相对的表面上通过一个模制基片进行照射而形成这种凹坑，并且读取信息。

尽管根据记录信息该凹坑由不同尺寸所形成，但是其尺寸是亚微米量级的。形成尽可能小和精确的凹坑对于增加光盘的记录密度来说是重要的。

例如，在当前的DVD-ROM中，最短的凹坑长度(在圆周方向上的尺寸)为0.40μm，深度大约为100纳米，并且底部形成一个光滑的圆锥台。在常规的DVD中，通过预定阈值限幅(二进制化)一个再现波形而检测每个凹坑的时间长度，并且通过把该长度转换为数据而再现信息。但是，为了通过该方法正确地再现信息，必须稳定地形成该凹坑长度，并且必须获得足以用于限幅的信号幅度。因此，最短的凹坑形状必须是具有平坦底部的圆锥台，并且这是决定记录密度的极限的一个因素。最短凹坑的底部圆周尺寸例如被规定为(0.2至0.25)×(波长)/NA/1.14μm。在此，NA是一个物镜的数值孔径。

作为下一代的光盘的一种结构，例如日本专利申请公告No.10-302310提出一种通过具有大约0.1mm的厚度的覆盖层读取信号的模式。

具有这种结构的光盘与常规光盘相同，其中一个反射膜被形成在提供到该模制基片的不规则表面上，并且该薄膜被激光束所照射，以读取信号。但是，在这种结构的情况中，与例如CD或DVD这样的常规光盘不同，该激光束被传送通过一个覆盖层，而不是通过该模制基片，并且该反射膜被该激光束所照射。

该不规则性使得该凹坑具有亚微米量级的尺寸，并且如何正确地形成该小凹坑是决定信号质量和该光盘的记录密度的重要因素。

在通过使用预定阈值对该再现波形进行限幅并且对它进行二进制化而读取信号的常规光盘中，该凹坑必须按照这样的方式来形成，使得即使在最短凹坑的情况中也可以获得稳定和较大的再现波形幅度。因此，由于即使在最短的凹坑中也要保证具有平坦底部表面的圆锥台形状，因此不能够进一步增加光凹坑的记录密度。

另外，类似于现有技术，即使该最短凹坑形状被形成为具有底部表面的圆锥台，并且保证最接近信号的大再现幅度，因此在最短凹坑和第二最短凹坑之间的差别变小，并且难以区别最短凹坑的再现信号波形和第二短凹坑的再现信号波形。这变为信号的不正确读取的一个严重因素。

另外，在覆盖层类型的盘中，其中用激光束照射反射膜表面而不通过一个覆盖层并且读取信息，或者蓝光盘(Blu-Ray disk)，当最短凹坑长度被密集排列到极限以增加记录密度时，在一些情况下形成一个金属反射膜可能填充该最短凹坑。在这种情况中，出现再现信号质量下降的问题。

因此，本发明的一个目的是提供一种凹坑形状，其可以迅速地增加光盘的记录密度。

发明内容

最短凹坑的形状被确定为没有底部表面的圆锥形状，并且PRML(部分响应和最大近似性)模式被用于记录信息的再现。当采用PRML模式时，由于不需要保证来自最短凹坑的再现波形的较大幅度，该凹坑可以具有圆锥形状。当该圆锥凹坑足以满足需要时，可以增加最短凹坑的密度，并且甚至在常规原版记录器或者原版曝光处理中记录信息，从而增加在圆周方向上的记录密度。

在覆盖层类型的盘中，在具有最短凹坑的模制基片中的底部宽度被确定为2×(反射膜厚度)×sin(凹坑壁角度)(在±20％之内)。由此，该凹坑可以防止被反射膜的形成而填充，当该凹坑具有圆锥形状时，其具有适合于在该薄膜形成之后增加密度的尺寸。

按照这种方式，规定凹坑底部宽度，该圆锥台凹坑被形成在该模制基片上，并且该薄膜形成在其上。结果，该底部表面被填充，并且形成圆锥凹坑。从而，可以通过使用当前的原版(original board)制造处理而制造具有优良的不对称性的高记录密度凹坑，并且抑制形状的不规则性。

依据本发明的一个方面，提供一种光盘，包括其中形成多个表示信息的凹坑的模制基片，其特征在于，从激光束入射侧看上去，最短的一个凹坑具有圆锥状反射面；该最短的一个凹坑的深度小于其他每个凹坑的深度，且其他每个凹坑均具有截面为梯形的反射面；以及通过再现信号的不对称性小于或等于+0.10，且最短一个凹坑的再现信号幅度与最长一个凹坑的信号幅度之比小于或等于15％。

依据本发明的另一个方面，提供一种光盘，包括其中形成多个表示信息的凹坑的模制基片，其特征在于，在模制基片上形成反射膜，并且从激光束入射侧看上去，最短的一个凹坑具有圆锥状反射面；该最短的一个凹坑的深度小于其他每个凹坑的深度，且其他每个凹坑均具有截面为梯形的反射面；以及在该模制基片的梯形截面上形成所述反射膜，形成最短的一个凹坑的反射面。

依据本发明的另一个方面，提供一种光盘装置，用于从上述光盘中再现信息。

附图说明

在本发明的文件中包含至少一幅彩色照片。收到请求并且支付必要的费用之后，由专利商标局提供具有彩色照片的专利的副本。

在被包含于此并且构成说明书的一部分的附图示出本发明的实施例，并且与上文的一般描述和下文对实施例的详细描述一同用于说明本发明的原理。

图1A为示出一种常规光盘的凹坑形状的平面视图，以及图1B为截面视图；

图2A为示出根据本发明第一实施例的光盘的凹坑形状的平面视图，以及图2B为截面视图；

图3为一种光盘制造方法的流程图；

图4A和4B示出各个凹坑的再现波形；

图5示出具有使用常规凹坑形状制造的15GB/平面级别(plane class)的密度的光盘的再现波形；

图6示出具有使用本发明的凹坑形状制造的15GB/平面级别(planeclass)的密度的光盘的再现波形；

图7A和7B示出根据本发明第二实施例的光盘的凹坑形状；

图8为示出当在根据本发明的光盘的最短凹坑上形成一个薄膜时的截面；以及

图9为示出根据本发明的光盘装置的结构的方框图。

具体实施方式

下面参照附图详细描述根据本发明的实施例。下文描述根据本发明的实施例，而不是对根据本发明的装置和方法的限制。

图1A为示出常规光盘的凹坑形状的平面视图；图1B为截面视图；图2A为示出根据本发明第一实施例的光盘的凹坑形状的平面视图；图2B为截面视图；图3为一种光盘制造方法的流程图；图4为每个凹坑的再现信号波形图；图5为示出具有常规凹坑形状的15GB/平面级别的密度的光盘的再现波形；图6示出具有使用本发明的凹坑形状制造的15GB/平面级别的密度的光盘的再现波形。

在该光盘中，通常，例如图1中所示的记录有凹坑的盘通过使用激光束而读取，并且该信息被再现。该激光束在由图1B中所示的箭头的方向上进入光盘，并且根据反射光束的密度读取信息。

在本实施例中，尽管确定该盘具有120mm的直径和1.2mm的厚度(分别具有0.6mm的厚度的两个基片叠压)，并且它是一个专用于再现的ROM盘，本发明不限于此，可以采用具有附着到1.1mm的基片上的0.1mm的覆盖层的盘，并且包括RAM盘的预制凹坑(pre-pit)部分。

在图1中，参考标号10表示最短凹坑；11表示另一个凹坑；12表示最短凹坑的深度；以及13表示另一个凹坑的深度。在图2中，参考标号20表示最短凹坑；21表示另一个凹坑；22表示最短凹坑的深度；以及23表示另一个凹坑的深度。

下面将参照图3描述制造具有这种凹坑的盘的方法。首先，作为一个原版，具有抛光和清洁表面的玻璃原版31被使用(ST1)。光刻胶32被施加到该玻璃原版表面(ST2)，并且该表面通过使用激光束进行曝光，从而记录信息(ST3)。然后，在曝光的玻璃原版上的光刻胶进行蚀刻，形成凹坑的不规则性(ST4)。该玻璃原版受到涂镀处理，从而产生一个压模33(ST5)。该压模33被用作为一个模子，并且通过注入模制而制造一个树脂(通常为聚碳酸酯)模制板34(ST6)。然后，一个反射膜或记录膜被形成在该模制板34上(ST7)，并且该板被附着到按照类似的方式制造的另一个模制板35(ST8)，从而完成该光盘。在本实施例中，每个模制基片34和35的厚度被0.6mm。

在常规光盘中，即使在图1中所示的最短凹坑的情况下，凹坑底部表面被形成为平坦。这是因为来自最短凹坑的再现信号的幅度变为非常小并且通过预定阈值对再现波形进行限幅可以实现二进制化。按照这种方式使用一个圆锥台可以略为增加幅度并且能够进行限幅。在这种情况中，仅仅最短凹坑的凹坑长度被设置为比理论值更长。例如，当对应于2T码的一个凹坑(T：对应于参考时钟周期的长度)为最短凹坑，则2T码的凹坑长度被设置为比例如3T码的凹坑长度的2/3更长。也就是说，仅仅2T码的凹坑具有不与代码值成比例的长度。

当根据例如图3中所示的步骤制造一个光盘时，最深凹坑的深度取决于光刻胶32的厚度，该凹坑的壁面的倾角取决于在激光点中的光强分布和光刻胶32性以及蚀刻条件。在光学ROM的情况中，该凹坑的深度被限于λ/4n(λ：再现波长，n：基片的折射率)，以获得再现信号，并且凹坑的倾角在当前处理技术中近似为40度。在这种情况中，为了使得如图1中所示最短凹坑的底部表面变为平整，不能够大大地减小最短凹坑的长度。因此，可以理解在盘圆周方向上的记录密度不是特别高。

另一方面，在下一代光盘中，已经试验通过使用所谓的PRML(部分响应和最大近似性)方法的模式再现该信息，而取代通过根据类似现有技术的再现波形的限幅的二进制方法读取信号。该模式根据其波形和幅度电平把一个再现信号从每个凹坑转换为多个数值。在该模式的情况中，希望来自最短凹坑的再现信号较小，使得可以从最短凹坑识别一个信号。因此，不必通过仅仅把最短代码的凹坑设置为比与该代码成比例的数值更长以形成一个凹坑底部表面，并且如上文所示增加信号幅度。相反，由于PRML读取关于幅度电平的信息，因此来自各个凹坑的再现信号幅度的中央必须相互匹配。也就是说，不能够应用PRML，除非不对称性(这将在下文中描述)接近于0。

根据这些要点，实现适用子PRML的高记录密度的凹坑形状是根据图2中所示的本发明的第一实施例。该凹坑形状的特性在于该最短凹坑不具有平坦底部表面，而具有圆锥形状，并且其深度22小于另一个凹坑的深度23。该最短凹坑的壁面的倾角与图1中所示常规凹坑的倾角相等。

作为圆锥台形状的常规最短凹坑形状在减小最短凹坑长度方面具有限制，因为该凹坑壁面的倾角是缓和的。但是，如果采用圆锥形状，由于当前的原版处理技术可以大大地减小最短凹坑长度，从而相当大地增加记录密度。

由于最短凹坑具有圆锥形状并且其底部表面是不平整的，因此来自最短凹坑的再现幅度变小。另外，由于曝光处理的不稳定性而导致在凹坑尺寸中的不规则性(主要是深度22)略为变大。但是，当使用PRML方法时，通过限幅方法在再现中，这些现象几乎不成为缺点。从而，不存在具有圆锥凹坑的光盘产品，也没有通过使用PRML方法读取圆锥凹坑的概念。

在本实施例中，由于最短凹坑的底部表面不被形成，因此再现波形的不对称性可以近似为0。图4A示出当再现具有常规形状的凹坑时所获得的再现信号波形，并且图4B示出再现具有根据本发明的形状的凹坑时所获得的再现信号波形。在图4中，参考标号W2T表示2T代码凹坑(最短凹坑)的再现信号波形；参考标号W3T表示3T代码凹坑的再现信号波形；参考标号WMT表示最长代码凹坑的再现信号波形；参考标号A2T表示2T代码凹坑再现信号的幅度；参考标号AMT表示最长代码凹坑再现信号的幅度；参考标号L2T表示2T代码凹坑再现信号波形的中央电平；参考标号LMT表示最长代码凹坑的再现信号波形的电平；以及参考标号D表示通过从中央电平LMT减去中央电平L2T所获得的电平差(LMT-L2T)。

尽管对于每个代码的凹坑再现信号可以确定不对称性，但是它被确定为2T代码的不对称性，这在本发明中是最重要的。也就是说，在此该不对称性被确定为通过用该电平差D除以最长代码凹坑的再现信号波形幅度AMT而获得的一个数值(D/AMT)。

假设形成该凹坑的一个区域是一个凹坑区域，并且没有凹坑的一个镜面区域，该镜面区域具有比该凹坑区域更高的反射率(参见图1和2)。在如图4A中所示的现有技术中，尽管该不对称性具有较大数值，这是因为常规最短凹坑的凹坑长度被设置为比与该代码成比例的一个数值更长，并且该最短凹坑的再现信号波形的中央电平比任何其他代码的凹坑更低。

如图4B中所示，对于具有根据本发明的凹坑的再现信号波形，该最短凹坑的再现信号幅度A2T小于图4A中所示的现有技术的幅度，并且该不对称性(D/AMT)也变小。也就是说，由于最短凹坑具有圆锥形状，并且在形成该最短凹坑的区域附近的反射光强高于现有技术。

另外，由于根据该凹坑长度，最短凹坑的信号幅度较小，因此容易区别最短凹坑(例如，2T)和第二短的凹坑(例如，3T)。因此，最短凹坑的圆锥形状在PRML再现中是有利的。根据本发明的凹坑形状，可以不对称性近似为+0.10或更低(最好在±0.10的范围内)。定义通过把最短凹坑再现信号幅度A2T除以最大幅度AMT(A2T/AMT)而获得的一个数值作为分辨率，可以在本发明中容易地实现不大于15％的分辨率。应当指出，在本发明中，2T代码凹坑最好被继续形成圆锥形状，以便于2T代码凹坑(最短凹坑)和3T代码凹坑的识别。也就是说，当与该代码(3T、4T...)成比例地形成最短凹坑(2T)时，即使最短凹坑具有平坦底部，该最短凹坑被总是形成为圆锥形状。在这种情况中，该最短凹坑的圆周长度(2T)不与其他代码的凹坑长度成比例。

图5和6分别示出通过试验制造具有根据现有技术的凹坑形状和根据本发明的凹坑形状常规凹坑形状的15GB/平面级别的光盘的结果和再现信息。

图5示出具有常规凹坑形状的光盘的信号再现波形(图1)，以及由于最短凹坑(2T)的信号幅度A2T较大，通过该限幅方法所获得的抖动为12.6％，但是由于较大的不对称性而不能够通过PRML方法执行再现，并且不能够测量错误率。另一方面，图6示出根据本发明的凹坑形状(图2)，由于该最短信号幅度A2T较小而导致该抖动为13.4％，相对较差，但是不对称性良好，以及在通过PRML再现中的错误率为4×10^-6，这是可以实用的程度。

如上文所示，在通过PRML方法再现该信息的光盘中，即使在常规的原版处理中，使用根据本发明的凹坑形状可以在光盘的切线方向上增加记录密度，并且还改进不对称性，从而改善错误率。

下面将描述根据本发明的第二实施例。图7为示出根据本发明的光盘的凹坑形状的平面视图，以及图8为示出当在根据本发明第二实施例的光盘的最短凹坑上形成一个薄膜时的截面。

在图7A中，参考标号50表示最短凹坑，并且51表示另一个凹坑。在图7B中，参考标号52表示一个模制基片；参考标号53表示反射膜；x表示在模制基片上的最短凹坑的底部宽度。在本发明中，一个对象是从与该模制基片52相对的侧面在图7B所示的的箭头方向进入的激光束的类型的光盘(例如，表面记录类型的盘，或者通过近似为0.1mm的覆盖层或在常规的两层DVD盘中的L1层读取信息的类型)。即，该激光束的入射方向与图1或2中所示的光盘相比是相反方向。

在常规光盘中，由于记录密度较低，该最短凹坑的底部宽度x与反射膜53的膜厚相比足够宽。因此，即使反射膜形成在该凹坑上也不会出现问题，该薄膜被来自一个箭头所表示的方向的光线所照射，并且读取一个信号。但是，在下一代的高密度光盘的情况中，当在信号再现中使用PRML模式时，或者当特别使用最短凹坑为2T的代码序列时，由于记录线密度非常高，因此在当前的原版制造处理技术中最短凹坑的底部宽度x近似为0。在这种情况中，通过形成该薄膜而填充该最短凹坑，并且从由一个箭头所表示的方向读取该信号降低该再现信号的质量。

相反，当最短凹坑的底部宽度被设置为大于与该代码成比例的一个数值时，这对于增加密度变为一个缺点，并且由于来自最短凹坑的极大信号使得最短凹坑和第二短的凹坑之间的区别变得困难，从而被认为是不对称的。特别地，由于当在信号再现中使用PRML模式时，该不对称性是重要的，因此考虑到这一点最短凹坑的凹坑长度不能够被设置为大于与该代码成比例的一个数值。

由于上述元音，该最短凹坑必须被设置为在不填充该最短凹坑的范围内尽可能地小，并且不导致信号的质量下降。因此，在本发明中，如图8中所示，该最短凹坑的底部宽度x被确定为x＝2×d×sinθ(在±20％的范围内)(d：反射膜的厚度，θ：该凹坑的壁面角度)。

也就是说，在根据本实施例的光盘中，最短凹坑的截面形状在该模制基片中为梯形，并且在该反射膜的表面上为三角形。即，当制造这种光盘时，对于最短凹坑，在形成反射膜之前，该凹坑的截面形状为梯形，并且在形成反射膜之后，该凹坑截面形状为三角形。

通过规定该最短凹坑为这样的尺寸，使得该凹坑不被薄膜的形成所填充，并且该信号质量不下降。另外，由于该圆锥凹坑可以在形成该薄膜之后获得，来自最短凹坑的信号的强度可以被适当地抑制。结果，可以防止不对称性变差或者从具有任何其他尺寸的凹坑读取信号的错误，特别是2T和3T凹坑的错误读取。

在通过当前的原版制造处理技术，该凹坑的壁面角度θ通常大约为40度。另外，如果使用蓝激光束作为再现光束，当要获得例如大约70％的反射率时，在Al(铝)的情况中需要大约25nm的反射膜厚，并且在Ag(银)的情况中需要大约50nm的膜厚。把这些参数应用于该实施例的表达式，在Al的情况中该最短凹坑的底部宽度为32+6，并且在Ag的情况中，它为64±13nm。

应当注意仅仅底部宽度×最短凹坑不与另一个凹坑的底部宽度成比例。也就是说，在最短凹坑为2T代码凹坑的情况中，该底部宽度x例如不是3T代码凹坑的2/3，但是它被根据该反射膜的厚度而设置。另外，该底部宽度x是不与该记录密度成正比的一个数值。

下面将描述当规定该最短凹坑为该尺寸时所获得的优点。首先，当制造该光盘时，该凹坑形状和再现信号被稳定，因为该模制基片的凹坑截面具有梯形形状。这是因为，当该模制基片的截面具有三角形状时，在原版曝光条件中的不规则性或者在形成该薄膜时膜厚的不规则性使得该凹坑尺寸分散，并且来自该凹坑的再现信号敏感地受到凹坑尺寸的影响并且变得不稳定。作为另一个优点，该尺寸是一个受限制的尺寸，使得在形成该薄膜时不填充该凹坑。结果该凹坑可以变密，到达不填充该凹坑的极限密度，并且不使得该再现信号质量变差。另外，由于该底部被填充并且在形成该薄膜之后可以获得圆锥凹坑形状，来自最短凹坑的再现信号不会变得太大，并且不对称性近似为0，其在该信号的识别中也具有优点。

如上文所示，在光线从与该模制基片相对的表面进入以再现信息的光盘中，最短凹坑在通过使用根据本发明的凹坑形状形成该薄膜之后具有圆锥形状，并且来自最短凹坑的信号波形可以被适当地获得，并且增加记录密度。

现在将描述通过使用具有上述形状的凹坑的光盘记录/再现信息的光盘装置的一个实施例。图9为示出根据本实施例的光盘装置的结构的方框图。

光盘61为专用于读取的光盘或者可以记录用户数据的光盘。该光盘61被主轴电机63所旋转和驱动。通过光读取头(在下文中将称为PUH)65执行对光盘61的信息的记录和再现。PUH65通过齿轮连接到螺纹电机66，并且该螺纹电机66由一个螺纹电机控制电路68所控制。

PUH65的查找目的地址被从CPU 90输入到该螺纹电机控制电路68，并且该螺纹电机控制电路68根据该地址控制该螺纹电机66。一个永磁体被固定在该螺纹电机66的内部，并且当由该螺纹电机控制电路68激励一个驱动线圈67时，PUH65在光盘61的径向方向上运动。

PUH65被提供一个物镜70，其由一个未示出的线和片弹簧所支承。该物镜70可以通过一个驱动线圈72的驱动在聚焦方向上(该透镜的光轴方向)运动，并且可以通过一个驱动线圈71的驱动，在跟踪方向(与该透镜的光轴相正交的方向)上运动。

半导体激光器79通过在一个激光控制电路73中的激光驱动电路75发出激光束。该光盘61被来自该半导体激光器79通过一个准直透镜80、半棱镜81和物镜70的激光束所照射。来自光盘61的反射光被通过物镜70、半棱镜81、聚焦透镜82和柱面透镜83导入到一个光电检测器84。

该光电检测器84例如包括4个分割的光电检测器单元，并且来自每个分割的光电检测器单元的检测信号被输出到一个射频放大器85。该射频放大器85组合来自该光电检测器单元的信号，并且产生表示相对于正确聚焦的误差的一个聚焦误差信号FE、表示激光束的光点中央之间的误差的一个跟踪误差信号TE以及作为该光电检测器单元信号的完全附加信号。

该聚焦误差信号FE被提供到该聚焦控制电路87。该聚焦控制电路87根据该聚焦误差信号FE产生聚焦控制信号FC。该聚焦控制信号FC被在聚焦方向提供到该驱动线圈72，并且执行聚焦伺服，使得该激光束总是正好聚焦在该光盘61的记录膜上。

该跟踪误差信号TE被提供到跟踪控制电路88。该跟踪控制电路88根据该跟踪误差信号TE产生跟踪控制信号TC。该跟踪控制信号TC被在跟踪方向上提供到该驱动线圈72，并且执行跟踪伺服，使得该激光束不断地在形成于该光盘61上的记录道上跟踪。

当聚焦伺服和跟踪伺服有效时，在来自形成于该光盘61的记录道上的凹坑的反射光的改变被反映到来自该光电检测器84的各个光电检测器单元的输出信号的全部附加信号RF。该信号被提供到数据再现电路78。该数据再现电路78根据来自PLL电路76的再现时钟信号再现所记录的数据。

当由该跟踪控制电路88控制物镜70时，该螺纹电机66，即，PUH65由该螺纹电机控制电路68按照这样的方式控制，使得物镜70位于PUH65中的预定位置附近。

该电机控制电路64、螺纹电机控制电路68、激光控制电路73、PLL电路76、数据再现电路78、聚焦控制电路87、跟踪控制电路88、纠错电路62以及其他电路由CPU 90通过总线89而控制。该CPU 90根据从主机设备94通过接口电路93提供的操作命令综合地控制该记录/再现装置。另外，CPU 90根据记录在ROM 92中的程序使用RAM 91作为一个工作区域并且执行预定操作。

该数据再现电路78通过使用阈值电压进行限幅而对信息再现信号进行二进制化的二进制化方法或者通过把该信息再现信号波形转换为多个数值的PRML方法而再现信息。其设计为再现这样的光盘的信息，该光盘的再现信号的不对称性不大于+0.10并且当通过PRML方法再现信息时最短凹坑的信号幅度与最长凹坑的信号幅度的比率，即，分辨率(A2T/AMT)不大于15％。

本领域的普通技术人员容易想到其他优点和变型。因此，本发明在其广义范围上不限于该具体描述和在此示出和描述的代表实施例。相应地，可以做出各种变型而不脱离由所附权利要求及其等价表述限定的该一般发明思想的精神和范围。

Claims

1.一种光盘，包括其中形成多个表示信息的凹坑的模制基片，其特征在于，从激光束入射侧看上去，最短的一个凹坑具有圆锥状反射面；

该最短的一个凹坑的深度小于其他每个凹坑的深度，且其他每个凹坑均具有截面为梯形的反射面；以及

再现信号的不对称性小于或等于+0.10，且最短一个凹坑的再现信号幅度与最长一个凹坑的信号幅度之比小于或等于15％。

2.一种光盘，包括其中形成多个表示信息的凹坑的模制基片，其特征在于，在模制基片上形成反射膜，并且从激光束入射侧看上去，最短的一个凹坑具有圆锥状反射面；

通过在该模制基片的梯形截面上形成所述反射膜，形成最短的一个凹坑的反射面。

3.根据权利要求2所述的光盘，其特征在于，最短一个凹坑在该模制基片中的截面的底部宽度x为：

x＝2·d·sinθ

其中x在±20％的范围内，θ为最短一个凹坑在该模制基片中的壁面的倾角，而d为该反射膜的膜厚度。