CN1258181C - 光盘模版形成方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种光盘模版形成方法，包含下列步骤：于一基版上涂布一第一光刻胶层；于该第一光刻胶层上涂布一镍钒合金金属阻挡层，该镍钒合金金属阻挡层的厚度为1纳米到100纳米；于该镍钒合金金属阻挡层上涂布一第二光刻胶层；以一光束对该第二光刻胶层进行曝光；以另一光束穿透该镍钒合金金属阻挡层对该第一光刻胶层进行曝光；进行显影；及朝该第二光刻胶层的方向溅镀一镍钒合金金属层，另外，本发明亦提供另一种光盘模版形成方法。

Description

光盘模版形成方法

技术领域

本发明涉及一种模版形成方法，特别是指一种用于数字激光视盘的光盘模版形成方法。

背景技术

在光盘片的生产过程中，一开始需将原始的数字数据或讯号转换为激光刻版讯号，接着于无尘的环境中，经过刻版与电镀等处理步骤，产生量产光盘的母版(master)。接下来，再利用母版制成模版(stamper)以供后续制程使用。

如图1A所示，先前的DVD-RW等模版是于Readable Embossed区域(区域A)以及Unreadable Embossed区域(区域B)中形成有多个相同深度的沟槽(H1约为25nm-30nm)。目前，为了促进光盘片与光驱的兼容性，并使一般的DVD-ROM能够读取DVD-RW格式的光盘片，于DVD-RW Ver1.1版本中，将Readable Embossed区域(区域A)讯号作部分的修改，亦即将Readable Embossed区域(区域A)的沟槽深度增加为100nm，如图1B所示，其用以增加讯号读取的模式。

但是在目前的制程处理上，直接利用不同强度的激光于模版中的正光刻胶3蚀刻所需的沟槽深度，如图1B所示。由于在光刻胶中能量扩散不易控制，虽然利用相同强度的激光束，亦可能得到误差值约为2-3nm的深浅不同的沟槽，使得沟槽深度的精准度控制不易。另外，亦容易产生均匀性差以及沟槽几何形状不同的问题，如图1C所示。上述的问题皆不利于光学讯号的读取。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术的不足与缺陷，提供一种精准度高、容易控制、均匀性佳以及沟槽几何形状标准的模版形成方法。

为达上述目的，本发明提供一种光盘模版形成方法，包含下列步骤：于一基版上涂布一第一光刻胶层；于该第一光刻胶层上涂布一镍钒合金金属阻挡层，该镍钒合金金属阻挡层的厚度为1纳米到100纳米；于该镍钒合金金属阻挡层上涂布一第二光刻胶层；以一光束对该第二光刻胶层进行曝光；以另一光束穿透该镍钒合金金属阻挡层对该第一光刻胶层进行曝光；进行显影；及朝该第二光刻胶层的方向溅镀一镍钒合金金属层。另外，本发明亦提供另一种光盘模版形成方法，包含下列步骤：于一基版上涂布一第一光刻胶层；于该第一光刻胶层上涂布一第一镍钒合金金属阻挡层；于该第一镍钒合金金属阻挡层上涂布一第二光刻胶层；于该第二光刻胶层上涂布一第二镍钒合金金属阻挡层；于该第二镍钒合金金属阻挡层上涂布一第三光刻胶层；以一光束对该第三光刻胶层进行曝光；以另一光束穿透该第二镍钒合金金属阻挡层对该第二光刻胶层进行曝光；以另一光束穿透该第一镍钒合金金属阻挡层对该第一光刻胶层进行曝光；进行显影；及朝该第三光刻胶层的方向溅镀一镍钒合金金属层。

本发明所提供的光盘模版形成方法，利用光刻胶层数目的改变以及于该等光刻胶层间增加阻挡层，来改进沟槽的几何形状，以达到所需的规格标准。与现有技术相比，本发明的多层光刻胶结构能够轻易且精准地控制沟槽的深度，并且由调整光刻胶层数目来形成各种深度的沟槽。另外，由于克服了光刻胶层中能量扩散不易控制所造成的问题，进而增加了沟槽的均匀性以及几何形状的精准度，同时亦提高了光盘模版的良率，对于光学讯号的读取更加有利。由于上述优点，本发明的光盘模版形成方法在工业上的应用性极高。

附图说明

图1A为DVD-RW的模版的示意图；

图1B为DVD-RW Ver1.1的模版的示意图；

图1C为现有模版形成方法所形成的模版的示意图；

图2为本实施例的模版形成方法的方块图；

图3A至图3E为一系列的示意图，说明本实施例的模版形成方法；

图4为另一实施例的模版形成方法的方块图；

图5A至图5D为一系列的示意图，说明另一实施例的模版形成方法。

图中符号说明

1光盘模版

11基版

12第一光刻胶层

13金属阻挡层

14第二光刻胶层

15金属层

2光盘模版

21基版

22第一光刻胶层

23第一金属阻挡层

24第二光刻胶层

25第二镍钒合金金属阻挡层

26第三光刻胶层

27金属层

3正光刻胶

S01于一基版上涂布一第一光刻胶层

S02于第一光刻胶层上涂布一金属阻挡层

S03于阻挡层上涂布一第二光刻胶层

S04以一光束对第二光刻胶层进行曝光

S05以另一光束穿透金属阻挡层对第一光刻胶层进行曝光

S06进行显影

S07朝第二光刻胶层的方向溅镀一金属层

S11于一基版上涂布一第一光刻胶层

S12于第一光刻胶层上涂布一第一金属阻挡层

S13于第一金属阻挡层上涂布一第二光刻胶层

S14于第二光刻胶层上涂布一第二金属阻挡层

S15于第二金属阻挡层上涂布一第三光刻胶层

S16以一光束对第三光刻胶层进行曝光

S17以另一光束穿透第二金属阻挡层对第二光刻胶层进行曝光

S18以另一光束穿透第一金属阻挡层对第一光刻胶层进行曝光

S19进行显影

S20朝第三光刻胶层的方向溅镀一金属层

具体实施方式

以下将参照相关附图，说明依据本发明实施例的光盘模版形成方法，其中相同的组件将以相同的参照符号加以说明。

如图2所示，依据本发明第一实施例的一种光盘模版形成方法，包含下列步骤：于一基版上涂布一第一光刻胶层(S01)；于第一光刻胶层上涂布一金属阻挡层(S02)于阻挡层上涂布一第二光刻胶层(S03)；以一光束对第二光刻胶层进行曝光(S04)；以另一光束穿透金属阻挡层对第一光刻胶层进行曝光(S05)进行显影(S06)及朝第二光刻胶层的方向溅镀一金属层(S07)。

于本实施例中，光盘模版1特别是指一用以制造数字激光视盘(Digital Versatile Disc，DVD)的光盘模版。

如图3A所示，于步骤S01中，于基版11上涂布第一光刻胶层12。在此，基版11为一玻璃基版。于涂布第一光刻胶层12的前，先以一清洗剂清洗基版11表面，接着再涂布一底黏胶(primer)，用以增强基版11与第一光刻胶层12之间的黏着度。

接着，如图3B所示，于步骤S02中，于第一光刻胶层12上涂布金属阻挡层13。于本实施例中，金属阻挡层13的厚度约为1纳米到100纳米。并且，金属阻挡层13可为一无机物质。其中，无机物质可为金属(例如：镍钒合金)。

另外，于步骤S03中，是于金属阻挡层13上涂布第二光刻胶层14，如图3C所示。

接着，于步骤S04中，是以一光束对第二光刻胶层14进行曝光，用以进行转录。在此，工作母带中的数字数据经由讯号接口系统(Mastering Interface System，MIS)转换成高频讯号，并传输至一读取器中。接着，驱动光束发射器(未显示于图)发射出光束于涂有第二光刻胶层14的基版11上以进行转录。于本实施例中，光束可为一紫外激光束，此紫外激光束所形成的光点可达到刻录高密度数字激光视盘的标准。另外，于进行曝光前，需先测试平整度，以确保成品的良率。

接着，于步骤S05中，以另一光束穿透金属阻挡层13对第一光刻胶层12进行曝光。在此，另一光束的强度大于步骤S04中的光束，另一光束除了曝光第二光刻胶层14之外，更穿过金属阻挡层13对第一光刻胶层12进行曝光。相同地，步骤S05亦用以将工作母带的数字数据进行转录。

在此，本实施例中的光束利用相同光源所发射出。当然，该等光束亦可由不同光源所发射出。

于步骤S06中，以一显影液将经过曝光的第一光刻胶层12、第二光刻胶层14以及金属阻挡层13清除，如图3D所示。在此，显影液为一碱性化学溶液(例如：氢氧化钠、氢氧化钾)。

于步骤S07中，朝第二光刻胶层14的方向溅镀一金属层15，如图3E所示。在此，溅镀的功能使曝光显影后的凹凸部分呈金属性质，以使其成为可导电的电极一样，用以在后续的电铸成形步骤中使用。于本实施例中，金属层15为一镍钒合金(Ni-V Alloy)。

另外，如图4所示，本发明的第二实施例亦提供一种光盘模版形成方法，包含下列步骤：于一基版上涂布一第一光刻胶层(S11)；于第一光刻胶层上涂布一第一金属阻挡层(S12)于第一金属阻挡层上涂布一第二光刻胶层(S13)；于第二光刻胶层上涂布一第二金属阻挡层(S14)；于第二金属阻挡层上涂布一第三光刻胶层(S15)；以一光束对第三光刻胶层进行曝光(S16)；以另一光束穿透第二金属阻挡层对第二光刻胶层进行曝光(S17)；以另一光束穿透第一金属阻挡层对第一光刻胶层进行曝光(S18)；进行显影(S19)；及朝第三光刻胶层的方向溅镀一金属层(S20)。

于本实施例中，同样地，光盘模版2为用以制造数字激光视盘的光盘模版。

本实施例中的组件与第一实施例中的相同组件，其特征及功能皆相同，在此不再赘述。

如图5A所示，于步骤S11中，于基版21上涂布第一光刻胶层22。接着，于步骤S12、步骤S13、步骤S14、步骤S15中，依序于第一光刻胶层22上涂布第一金属阻挡层23、第二光刻胶层24、第二金属阻挡层25以及第三光刻胶层26，如图5B所示。

再来，于步骤S16中，以光束对第三光刻胶层26进行曝光。接下来，再以另一光束穿透第二金属阻挡层25对第二光刻胶层24进行曝光。接着，再以另一光束穿透第一金属阻挡层23对第一光刻胶层22进行曝光。在此，该等光束的强度依照所需而调整。

接下来，于步骤S18中，进行曝光。

接着，于步骤S19中，进行显影，如图5C所示。

最后，于步骤S20中朝第三光刻胶层26的方向溅镀金属层27，以使光盘模版2金属化，如图5D所示。

当然，本发明亦可依照需要增加光刻胶层的数目以及光刻胶层间的阻挡层，借助不同强度的光束，形成多种不同深度的沟槽。

本发明所提供的光盘模版形成方法是由多层光刻胶层结构以及该等光刻胶层间的金属阻挡层来增加光盘模版形状的精确度，以达到所需的规格标准。与现有技术相比，本发明能够轻易地控制沟槽的深度以及几何形状。另外，由改变光刻胶层的数目，更能随意形成不同深度的沟槽。再者，由于解决了激光束在照射光刻胶时因能量扩散控制不易所造成的问题，进一步增加了沟槽的均匀性以及形状的精准度，更增加了模版的良率，以利光学讯号的读取。由上述优点观之，本发明所提供的光盘模版形成方法在工业上的应用性极高。

以上所述仅为举例性，而非为限制性者。任何未脱离本发明的精神与范畴，而对其进行的等效修改或变更，均应包含于权利要求书的范围中。

Claims (3)

1.一种光盘模版形成方法，用以形成一光盘模版，其特征在于，该光盘模版形成方法包含下列步骤：

于一基版上涂布一第一光刻胶层；

于该第一光刻胶层上涂布一镍钒合金金属阻挡层，该镍钒合金金属阻挡层的厚度为1纳米到100纳米；

于该镍钒合金金属阻挡层上涂布一第二光刻胶层；

以一光束对该第二光刻胶层进行曝光；

以另一光束穿透该镍钒合金金属阻挡层对该第一光刻胶层进行曝光；

进行显影；及

朝该第二光刻胶层的方向溅镀一镍钒合金金属层。

2.如权利要求1所述的光盘模版形成方法，其特征在于，该基版为一玻璃基版。

3.一种光盘模版形成方法，用以形成一光盘模版，其特征在于，该光盘模版形成方法包含下列步骤：

于一基版上涂布一第一光刻胶层；

于该第一光刻胶层上涂布一第一镍钒合金金属阻挡层，该第一镍钒合金金属阻挡层的厚度为1纳米到100纳米；

于该第一镍钒合金金属阻挡层上涂布一第二光刻胶层；

于该第二光刻胶层上涂布一第二镍钒合金金属阻挡层，该第二镍钒合金金属阻挡层的厚度为1纳米到100纳米；

于该第二镍钒合金金属阻挡层上涂布一第三光刻胶层；

以一光束对该第三光刻胶层进行曝光；

以另一光束穿透该第二镍钒合金金属阻挡层对该第二光刻胶层进行曝光；

以另一光束穿透该第一镍钒合金金属阻挡层对该第一光刻胶层进行曝光；

进行显影；及

朝该第三光刻胶层的方向溅镀一镍钒合金金属层。

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