CN1189925C - 湿式处理装置 - Google Patents

Abstract

一种设有喷嘴的湿式处理装置，喷嘴包括向被处理基片W进入处理液(10)的处理液进入部(3)、从被处理基片W回收处理液(10)的处理液回收部(4)、连接处理液进入部(3)和回收部(4)的基片(2)，穿通基片(2)形成进入处理液的处理液进入口(16)和回收口(17)，连接部的被处理物一侧的面、处理液进入部的被处理物一侧的面、处理液回收部的被处理物一侧的面由同一个基片形成，处理液进入口和回收口穿通基片而形成并且是在被处理基片上在与处理液流动方向成直角的方向上设置在基片上的多个孔，且与处理液进入口和回收口连接的由中空部和槽部形成的中空空间在孔排列方向上成连通的槽状，本发明的湿式处理装置能稳定供给和回收处理液。

Description

湿式处理装置

技术领域

本发明涉及例如半导体器件、液晶显示板等的制造工艺中的洗涤、蚀刻等湿式处理工序中，具有用于向被处理物供给处理液的喷嘴的湿式处理装置。

背景技术

在半导体器件、液晶显示板等的电子器械领域，在其制造工艺中对作为被处理物的半导体基片、玻璃基片进行洗涤处理的工序是必须的。在洗涤工序中，排除制造工艺中的种种排除对象物质，利用纯净水、电解离子水、臭氧水、氢气水等各种处理液的洗涤，而这些处理液是从洗涤装置的喷嘴供给到基片上的。但是，利用以往的一般洗涤用喷嘴时，存在处理液使用量多的问题。例如利用电解离子水处理液洗涤边长500mm的方块基片时，进行由处理液的洗涤和由漂洗水的漂洗之后基片上的微粒残留量达到0.5个/cm²水平洗净度时，要使用25～30升/分左右的处理液和漂洗水。

因此，作为比以往型大幅度节省处理液使用量的省液型洗涤用喷嘴，而提案的湿式处理用喷嘴型式有：向被处理基片供给处理液而进行被处理基片的湿式处理时利用的湿式处理用喷嘴，在一端形成进入处理液的具有进入口的进入通道和用于向外部排出在一端使用后处理液的具有排出口的排出通道，在这些进入通道和排出通道的另一端分别设有向被处理基片开口的进入开孔部和排出开孔部。

图8是表示具有上述结构的湿式处理用喷嘴一例的剖面图，这个图所示的湿式处理用喷嘴100是一边使被处理基片W向箭头A的方向移动，一边向被处理基片W供给处理液进行洗涤。该湿式处理用喷嘴100的一端设有具有进入处理液110的进入口101a的进入管101和具有向外排出湿式处理后处理液110的排出口102a的排出管102，进入管101的另一端和排出管102的另一端连接，形成面对被处理基片W的连接部103，在这一连接部103上设有开有进入管101的第一开孔部101b和开有排出管102的第二开孔部102b。上述连接部103和被处理基片W之间的空间形成进行湿式处理的处理区域105。还有，上述连接部103设有向处理区域105内的处理液赋予超声波振动的超声波振动器。这里的超声波振动器由振动板106、从振动板106主体面的两端竖立的侧板107、设在振动板106主体面上的超声波振动器主体108构成。这里超声波振动器108连接在电源(图中未示)。还有，排出管102的排出口102a连接减压泵(图中未示)。还有，上述第一开孔部101b和第二开孔部102b上设有使通过这些开孔部101b、102b进入和排出的处理液110均匀进入被处理基片W上的整流部件111、112。这些整流部件111、112是用于被处理基片的被处理区域全域上均匀供给处理液，所以利用形成由多个小直径通孔的特氟隆(注册商标)组成的板。

另外，处理液110是从进入管101的进入口101a供给到第一开孔部101b的整流部件111，而在排出管102的排出口102a上连接有设有如上述的减压泵(图中未示)，由控制减压泵的吸引压力可以控制供给到进入管101的处理液110的第一开孔部101b一侧的压力(包括处理液110的表面张力和被处理基片W的被处理表面的表面张力)与大气压之间的压力差。

即，第一开孔部101b的与大气接触的处理液110的压力P_w(包括处理液110的表面张力和被处理基片W的被处理表面的表面张力)与大气压P_A之间的关系成为P_w、P_a，通过第一开孔部101b的整流部件111供给到被处理基片W，与被处理基片W接触的处理液110不泄露在湿式处理用喷嘴外部，排出到排出管102。因此，图8的湿式处理用喷嘴100可以大幅度地节省处理液110的使用量。

另外，图8所示的湿式处理用喷嘴100中，洗涤被处理基片W时，在处理区域105上供给处理液110的状态下，由超声波振动器108赋予超声波振动，和处理液110共同作用洗涤被处理基片W。

然而，在图8所示的湿式处理用喷嘴100中，一边供给处理液110处理被处理基片W时，已判定有时处理液110没有供给到处理区域105情形。发明者认为：这是因为湿式处理用喷嘴100中，弯曲加工板材的方法把连接部103的侧板107竖立形成在振动板106的两端，连接部103的底部两端的角落部形成曲面部107R的缘故。即，如果存在这样的曲面部107R，从整流部件111的下面向被处理基片W供给的处理液110伴随的微细气泡停留在由整流部件111和曲面部107R形成的断面为近似楔子形的沟101A内，这一气泡随着湿式处理时间过程变大。于是，这一气泡长大到达被处理基片W时，由这一气泡部分或全部切断处理区域105中的处理液110的流动。湿式处理装置100由连接在排出通道102的减压泵进行处理液110的压力控制，因此一旦处理区域105内的处理液110被截断，则把处理液110从第一开孔部101b吸入到处理区域105的吸力变弱，停止处理液110的供给。于是，处理液110的供给被停止，洗涤能力降低，被处理基片W的洗涤不充分。

发明内容

本发明是为了解决上述问题而进行的，其目的在于提供一种在运转中可以稳定供给和回收处理液，并且从处理液的进入的一侧到排出的一侧可以维持处理液均匀流动的湿式处理装置。

为了达到上述目的本发明采用以下结构。本发明的湿式处理装置，具备喷嘴，这一喷嘴包含面对被处理物的面上具有向该被处理物进入处理液的处理液进入部、从上述被处理物回收处理液的处理液回收部、连接这些处理液进入部和处理液回收部的连接部，其特征在于：上述连接部的被处理物一侧的面、上述处理液进入部的被处理物一侧的面、上述处理液回收部的被处理物一侧的面形成同一面，在上述处理液进入部的位于上述连接部同一面的部分形成进入处理液的处理液进入口，在上述处理液回收部的位于上述连接部同一面的部分形成处理液回收口，上述连接部的被处理物一侧的面、上述处理液进入部的被处理物一侧的面、上述处理液回收部的被处理物一侧的面由同一个基片形成，上述处理液进入口和上述处理液回收口穿通上述基片而形成，上述处理液进入口和处理液回收口是在被处理基片上在与处理液流动方向成直角的方向上设置在基片上的多个孔，且分别与处理液进入口和处理液回收口连接的由中空部和槽部形成的中空空间在孔排列方向上成连通的槽状。

本发明的湿式处理装置是从处理液进入口向被处理物供给处理液，利用上述处理液回收口回收供应到被处理物处理的处理液的湿式处理装置。即，被夹在喷嘴与被处理物，从处理液进入口到处理液回收口的区域就成为处理液流动进行被处理物湿式处理的处理区域。于是，本发明的湿式处理装置，其处理液进入部和处理液回收部的被处理物一侧的面、上述连接部的被处理物一侧的面形成同一个面，在实现上述处理区域中的从处理液进入口到处理液回收口的路径中不形成气泡停止的场所的结构。所以，本发明的湿式处理装置不会出现象上述以往的湿式处理用喷嘴100那样的在处理区域105内气泡长大而切断处理液流动的现象，可以维持处理液在处理区域内的稳定流动。

本结构的湿式处理装置在上述喷嘴面对被处理物的一侧布置基片，穿通这一基片形成处理液进入口和处理液回收口。由于这样的结构，从处理液进入口到处理液回收口的处理区域被夹在上述基片的被处理物一侧的面与被处理物的区域，把上述喷嘴的处理区域一侧的面形成同一个面成为可能，由此，可以更有效防止伴随处理液进入口进入处理液的气泡停留在处理区域。

其次，本发明的湿式处理装置，基片和面对排列在该基片的被处理物另一侧的面的支撑板所夹持的中空的隔壁部件形成处理液进入部和处理液回收部，上述隔壁部件的中空部可以存留处理液的同时上述中空部分别与上述处理液进入口和上述处理液回收口连通而形成上述处理液流路。

由于设在上述基片的中空的隔壁部件形成处理液进入部和处理液回收部，使这一中空部可以存储处理液，由中空部的存储可以调整连接在这一中空部的处理液进入口的处理液供给或从处理液回收口的处理液回收中的处理液流量，可以使处理液的流量均匀。还有，如上述，把基片、隔壁部件、支撑板作为基本结构，简化了结构，不仅降低了喷嘴的制造成本，还可以实现保养容易故障少的喷嘴。另外，把面对被处理物的面组成在和上述基片一侧的面，当然可以防止伴随处理液的气泡在处理区域内的停留。

还有，本发明的湿式处理装置在上述连接部可以安装用于该连接部与上述被处理物之间的处理液赋予振动的振动赋予机构。

由于这样的结构，例如把本发明的湿式处理装置作为洗涤装置利用时，由上述振动赋予机构以赋予处理液(洗涤液)振动而排除附着物，可以提高洗涤效果。还有，这一振动赋予机构可以做成可拆卸的，这样的结构，可以容易更换不同频率的振动赋予机构、光照机构等，可以提高湿式处理装置的通用性。

另外，本发明的湿式处理装置是上述连接部的上述被处理物一侧的面由能够渗透紫外线的部件形成，上述连接部上设有向上述被处理物照射紫外线的紫外线照射机构。

由于这样的结构，在处理液中产生臭氧，可以实现把被处理物进行臭氧处理或进行处理液的杀菌的湿式处理装置。还有，这一紫外线照射机构和上述振动赋予机构同样，对上述喷嘴可拆卸是当然可以的。

还有，本发明的湿式处理装置中，上述连接部、上述支撑板和上述隔壁部件所包围的空间里安装紫外线照射机构，可以设置把上述空间用惰性气体置换的气体置换机构。

而且，与上述中空部形成槽状空间的上述槽部沿它们宽度方向的宽度比上述孔的孔径大。

由于这样的结构，可以防止紫外线照射机构照射的紫外线被周围的氧气吸收而衰减。所以，根据本结构，增加透过连接部到达被处理物的紫外线量，可以提高处理液中的臭氧的产生效果和处理液的杀菌效果。

还有，本发明的湿式处理装置中，最好是由亲水性材料形成上述基片。由这样的结构，可以提高与基片接触而流动的处理液和基片之间的亲水性，所以使处理区域中的处理液的流动更为圆滑，可以提高处理液流动的均匀性和控制性。

根据本发明的另一方面，本发明的湿式处理装置具备喷嘴，这一喷嘴包含面对被处理物的面上具有向该被处理物进入处理液的处理液进入部、从上述被处理物回收处理液的处理液回收部、连接这些处理液进入部和处理液回收部的连接部，其特征在于：上述连接部的被处理物一侧的面、上述处理液进入部的被处理物一侧的面、上述处理液回收部的被处理物一侧的面形成同一面，在上述处理液进入部的位于上述连接部同一面的部分形成进入处理液的处理液进入口，在上述处理液回收部的位于上述连接部同一面的部分形成处理液回收口，上述连接部的被处理物一侧的面、上述处理液进入部的被处理物一侧的面、上述处理液回收部的被处理物一侧的面由同一个基片形成，上述处理液进入口和上述处理液回收口穿通上述基片而形成，且上述基片的被处理物一侧的面形成微细的凸凹形状。

还有，本发明的湿式处理装置中，最好是在上述基片的处理液进入口一侧的周围部分布置疏水性材料的部件。由于这样的结构，由上述疏水性材料可以限制从处理液进入口向外侧扩散处理液，可以容易把处理液保留在处理区域内，其结果可以提高处理液流动的控制性。

另外，本发明的湿式处理装置中，最好是在上述基片的处理液回收口一侧的周围部分布置由疏水性材料而成的部件。由于这样的结构，和上述处理液进入口同样，在处理液回收口一侧也把处理液容易保留在处理区域内，可以提高处理液的流动控制性。

还有，本发明的湿式处理装置可以是使上述喷嘴和上述被处理物保持一定的距离并相对移动，具备移动喷嘴或被处理物的移动机构。由于这样的结构，在被处理物的被处理表面上一边移动喷嘴一边进行被处理物的湿式处理成为可能，可以实现作业效率更优越的湿式处理装置。

附图说明

图1是表示本发明实施例1的洗涤装置的整体结构立体图。

图2是表示图1中B-B线的剖面图。

图3是表示图2所示的洗涤用喷嘴1从被洗涤基片一侧看的平面图。

图4是表示本发明实施例1的洗涤装置的其他适用例的剖面图。

图5是表示本发明实施例2的洗涤装置结构的剖面图。

图6是表示本发明实施例3的洗涤装置大体结构的俯视图。

图7是表示本发明实施例4的洗涤装置大体结构的俯视图。

图8是表示以往洗涤装置一例结构的剖面图。

符号说明

1、20、200：洗涤用喷嘴

2、22：基片(连接部)

3：处理液进入部

4：处理液回收部

7：支撑板

11：隔壁部件

11A、11B：中空部

16：处理液进入口

17：处理液回收口

13：振动赋予机构

23：紫外线照射机构

25：气体进入管(气体置换机构)

26：气体排出管(气体置换机构)

具体实施方式

以下结合附图说明本发明的实施例，但本发明不限于以下实施例。

实施例1

图1是模式地表示本发明实施例1的洗涤装置(湿式处理装置)的整体结构的立体图，图2是图1中B-B线的剖面图。还有，图3是把图1和图2所示的洗涤用喷嘴从被处理基片W的一侧看的平面图。

如图1和图2所示，本实施例的洗涤装置是大体上由使作为被处理物的被处理基片W相对于洗涤用喷嘴1向移动方向A移动的移动机构(图中未示)等简要地构成。

图1～图3所示的洗涤用喷嘴1包括平板状基片(连接部)2、包围这个基片2的周围排列在基片2的隔壁部件11、排列在隔壁部件11的支撑板7、设在基片2的被处理基片W的另一侧的面的振动赋予机构13。

基片2根据实施在被处理基片W的洗涤处理种类，由不锈钢等金属基片或石英或玻璃基片构成，如图2和图3所示，这个基片2是在洗涤用喷嘴1中与被处理基片W面对形成的部件，沿着其两侧的长的边形成多个处理液进入口16和处理液回收口17。更具体地，基片2的被处理基片W的另一侧的面上，沿着其两侧长边的端部刻有平面视图中长方形状的槽部2A和2B，从这个槽部2A的底面穿通被处理基片W形成多个处理液进入口16，从槽部2B的底面穿通被处理基片W形成多个处理液回收口17。本实施例的洗涤用喷嘴1中，通过处理液进入口16把处理液(洗涤用处理液)10供给到被处理基片W，通过处理液回收口17把洗涤液10从被处理基片W回收。该处理液进入口16与处理液回收口17之间的，被夹在基片2与被处理基片W的区域就成为本实施例洗涤装置中的处理区域5，与该处理区域5接触的被处理基片W的表面被提供为进行洗涤(湿式处理)。

上述处理液进入口16和处理液回收口17分别有给定的间距和孔径，在被处理基片W的宽度方向(基片2的长度方向)上均匀供给或回收洗涤液10。在图3中，作为一例，表示了把具有同一孔径的15个处理液进入口16(处理液回收口17)沿着槽部2A(槽部2B)的长度方向等间距排列形成，但不限于这些孔径、间距和形状，只要在这些处理液进入口16和处理液回收口17的排列方向上处理液10的流量均匀，任何形状、排列间距都可以。

上述基片2的至少被处理基片W一侧的面最好是亲水性为好，穿通基片2形成的处理液进入口16和处理液回收口17的内面一侧也是亲水性为好。由于构成处理区域5的基片2的表面为亲水性，可以使处理区域的处理液10的流动变为圆滑，可以提高其控制性。还有，由于处理液进入口16和处理液回收口17的内面一侧也是亲水性，可以圆滑地进行处理液10的进入和回收，可以更稳定处理液10的流动。

设在基片2上的隔壁部件11，如图2、3所示，平面视图上近似的匾额缘形状，其周缘部的一部分向基片2的外围凸出，其周缘部的被处理基片W一侧的面和基片2的被处理基片W一侧的面组成同一面。换句话说，基片2与沿着匾额缘形状的隔壁部件11的被处理基片W一侧的内周形成的断坡部嵌合。隔壁部件11的沿着两个长边上分别形成穿通隔壁部件11厚度方向的中空部11A、11B，这些中空部11A、11B是对应于形成在基片2平面视图上近似长方形的槽部2A、2B的位置上，分别和槽2A、2B相同平面的形状形成，中空部11A与槽部2A、中空部11B与槽部2B分别连通。于是，包含中空部11A和处理液进入口16的部分形成处理液进入部3，包含中空部11B和处理液回收口17的部分形成处理液回收部4。这些中空部11A、11B可以存储处理液10，使处理液进入部3可以更均匀地向处理液进入口16供给处理液10，使处理液回收部4可以更均匀地回收被处理基片W的处理液10。

上述隔壁部件11最好是如特氟隆(注册商标)等疏水性材料组成。由于隔壁部件11为疏水性材料，容易把处理液10保留在包围基片2的外围并面对被处理基片W的隔壁部件11内侧区域(处理区域5)内，可以提高处理区域5内的处理液10的控制性，容易使处理液10更稳定地流动。还有，可以抑制处理液10的向处理区域5外部的流出，可以降低处理液10的使用量，可以抑制被处理液取回的微粒的再附着。

隔壁部件11的图2的上方设有支撑板7，在这个支撑板7的长度方向的中央，处理液进入管7A和处理液回收管7B向隔壁部件相反方向(图示上方)延长，这些处理液进入管7A的内部和处理液回收管7B的内部穿通支撑板7，和支撑板7的另一侧连通。于是，处理液进入管7A的支撑板7的一侧，和布置在中空部11A的上方的处理液进入管7A内部、中空部11A连通；处理液回收管7B的支撑板7的一侧，和布置在中空部11B的上方的处理液回收管7B的内部、中空部11B连通。

这样，本实施例的洗涤用喷嘴1中，处理液10从处理液进入管7A经由中空部11A和槽2A到达处理液进入口16的路径进入到被处理基片W；从处理液回收口17经由槽部2B和中空部11B达到处理液回收管7B的路径，从被处理基片W回收处理液10并不向外部排出。

图2所示的隔壁部件11与基片2、隔壁部件11与支撑板7之间的接合面，为了防止流动在中空部11A、11B的处理液10的泄露，由密封件(图中未示)密封。接合面的密封只要处理液10通过这些接合面时不向外泄露，其材料和结构没有特定的限制，例如在这些接合面安装圆环密封圈或在接合面涂敷粘接剂密封都可以。

在本实施例的洗涤用喷嘴1中，由基片2、支撑板7和隔壁部件11所包围的空间S内，安装赋予处理液10振动的振动赋予机构13，在其一面和基片2的内面接合。还有，驱动和控制振动赋予机构13的电缆18连接振动赋予机构13，该电缆18在支撑板7的端部穿通支撑板7引出到洗涤用喷嘴1的外部，连接在图中未示的驱动控制部。作为这个振动赋予机构可以利用发生振动频率0.7～1.5MHz程度的超声波振动器或发生振动频率28～60kHz的较低频率的超声波的螺丝固定兰杰文型振动片(Langevin vibrator)，选择最适宜于被洗涤基片W的种类和洗涤目的频率就可以。

本实施例的洗涤用喷嘴1中，支撑板7的处理液回收管7B上设有图中未示的压力控制部。该压力控制部把处理液进入口16接触的处理液10的压力(包括处理液表面张力和被处理基片表面的表面张力)和大气压趋于均衡，以便从处理液进入口16供给并与被处理基片W接触的处理液10洗涤处理后在处理液回收口17回收。更具体地，该压力控制部由连接在处理液回收管7B的减压泵组成，由于该减压泵控制吸引处理液回收管7B内的处理液10的吸力，取得上述大气压之间的均衡。这样，进入到处理区域5内的处理液10不与处理区域5内的被处理基片W表面以外的区域接触而回收在处理液回收部4。

以上结构的本实施例的洗涤用喷嘴1是面对被处理基片W的面上布置有基片2，穿通这个基片2形成有处理液进入口16和处理液回收口17，从处理液进入口16到处理液回收口17的处理区域5相接触的面成为基片2的一个面。即，处理液进入口16的被处理基片W一侧的端部、基片2的被处理基片W一侧的面和处理液回收口17的被处理基片W一侧的端部形成一个面。由于这样的结构，伴随处理液10处理区域5内混入气泡时，消除这个气泡停留的位置，不发生由于气泡停留的处理液10的断流。从而，根据本实施例的洗涤用喷嘴1和洗涤装置可以维持处理区域5内的处理液10的稳定流动，把被处理基片W均匀洗涤成为可能。

另外，上述结构的洗涤用喷嘴1中，处理区域5内供给处理液10的状态下，由振动赋予机构13给予振动，处理液10和这个振动共同作用洗涤被处理基片W，可以更加提高洗涤效果。

还有，图2中表示了被处理基片W的只是一个面上设置喷嘴1的情形，但有关本实施例的洗涤用喷嘴1，如图4所示，可以布置在被处理基片W的两个面而使用。图4所示洗涤用喷嘴的结构和图2一样，省略其说明。

如图4所示，把洗涤用喷嘴1布置在被处理基片W的两面，可以一次性洗涤被处理基片W的两面，不仅有效进行洗涤处理，还同时进行洗涤处理两个面，可以抑制洗涤后的被处理基片W的污染到最小。

如图4所示，把洗涤用喷嘴1布置在被处理基片W的两面时，布置在被处理基片W下面的洗涤用喷嘴1的隔壁部件11比基片2的被处理基片W一侧的表面向被处理基片W稍微凸出。如果是这样的结构，比布置在被处理基片W上面的洗涤用喷嘴不易在处理区域内保持处理液的下侧洗涤用喷嘴中，也可以容易把处理液10保留在处理区域5内，可以提高处理液10的流动的稳定性。

实施例2

下面，对本发明实施例2的洗涤装置(湿式处理装置)，结合图5进行说明。图5是表示本实施例洗涤用喷嘴20结构的剖面图。该图所示的洗涤用喷嘴20和图2所示的洗涤用喷嘴1不同之处是基片22由渗透紫外线的材料组成，该基片22、支撑板7和隔壁部件11所包围的空间S里安装紫外线照射机构23，设有上述空间S内插入其一端的气体进入管25和气体排出管26。

还有，上述本实施例洗涤用喷嘴20的特点以外的结构和图2所示的实施例1同样，和图2所示的相同结构附相同符号省略其详细说明。

作为上述基片22，只要由可以渗透紫外线的材料组成，可以适用而无碍，例如可以利用石英等用于其构成材料。还有，和有关上述实施例1的基片2同样，为了提高处理区域5内的处理液10的流动控制性，最好是基片22的被处理基片W一侧的面由亲水性材料组成。

本实施例的洗涤用喷嘴20中，由于设有紫外线照射机构23，由该紫外线照射机构23照射的紫外线，可以排除、杀菌处理液10和被处理基片W表面的杂物，或可以在处理液10内发生臭氧，对被处理基片W进行臭氧处理。还有，通过电缆18连接用于驱动、控制这个紫外线照射机构23的图中未示的驱动控制部。

气体进入管25和气体排出管26构成把上述空间S内的气体用惰性气体置换的气体置换机构。即从连接在气体进入管25另一侧的图中未示的惰性气体供给源，通过这个气体进入管25进入到空间S内，并由气体排出管26排出空间S内的气体，把空间S内的空气由惰性气体置换，不会发生紫外线照射机构23照射的紫外线被空间S内的氧气吸收而衰减，不降低照射在被处理基片W或处理液10的紫外线量。从而，这样具有气体置换机构的本实施例洗涤用喷嘴20中，可以把紫外线更有效地照射处理液10或被处理基片W，可以有效进行杂质的排除和杀菌，在处理液10中发生臭氧时，可以获得充分的臭氧量。

本实施例洗涤用喷嘴20中，由于可以进行空间S内的气体置换，所以最好是使空间S可以和外部气体隔离的结构。如果空间S和外界隔离，进入到空间S的惰性气体不会向外泄露，也不会外界气体混入到空间S内，把给定量的惰性气体供给到空间S内，并完成置换时刻可以停止惰性气体的供应，降低惰性气体的使用量而经济。

另外，图5所示的本实施例的洗涤用喷嘴20中，从处理液进入口16向被处理基片W供给处理液10，使在处理区域5内流动洗涤被处理基片W，把洗涤后的处理液10回收到处理液回收口17，和上述实施例1相同，使处理区域5内的处理液10的稳定流动，更有效地进行被处理基片W的洗涤是同样的。

还有，与图5所示的两个基片的洗涤用喷嘴1同样，当然可以采用把洗涤用喷嘴20布置在被处理基片W的两面，同时洗涤被处理基片W的两面的结构。

实施例3

下面，对具备上述任意一种实施例湿式处理装置的洗涤装置，结合图6进行说明。图6是表示本实施例洗涤装置51大体结构的图，例如洗涤被处理基片为数百mm边长的大型的玻璃基片(以下称基片)的装置。

图中符号52是洗涤部，53是洗涤台(基片支撑机构)，54～56、89是洗涤用喷嘴，57是基片输送机械手，58是输入箱，59是贮藏箱，60是氢气水、臭氧水生成部，61是处理液再生部，W是玻璃基片(被处理物)。

如图所示，装置上表面的中央成为洗涤部52，设有保持基片W的洗涤台53。洗涤台53上设有和基片W形状一致的矩形台阶，在这个台阶上安放基片W，基片W表面和洗涤台53表面在同一个面上并保持在洗涤台53。另外，台阶部的下方形成空间部，在这个空间部里有从洗涤台53凸出的基片升降用轴(图中省略)。基片升降轴的下端设有缸筒等轴的驱动源(图中省略)，由基片输送机械手57转交W时，由于缸筒的工作上下运动基片升降轴，随着轴的上下运动基片可以上升或下降。

夹着洗涤台53互相面对的位置设有一对齿条架62，这些齿条架62之间安装有喷嘴54、55、56、89。洗涤用喷嘴由四个并列排列喷嘴组成，各洗涤用喷嘴54、55、56、89利用不同的洗涤方法进行洗涤。在本实施例的情况下，这四个喷嘴分别是：向基片供给臭氧的同时，由紫外线灯63照射紫外线，主要分解去除有机物的紫外线洗涤用喷嘴54、供给臭氧水的同时，由超声波振动器主体48赋予超声波振动进行洗涤的氢气水超声波洗涤用喷嘴56、供给纯水进行漂水的纯水漂洗用喷嘴89。

各洗涤用喷嘴54、55、56、89是被称为冲击式的喷嘴(省液型喷嘴)。还有，这四个喷嘴中，臭氧水超声波洗涤用喷嘴55和氢气水超声波洗涤用喷嘴56是用图1～图3所说明的洗涤用喷嘴结构同样，或隔一个洗涤用喷嘴安装多个图1～图3所说明的任何一种洗涤用喷嘴的。但是，这里因图示的方便，只图示了超声波振动器主体48，省略了区分图示处理液进入部、处理液回收部等。还有，洗涤用喷嘴54是除了替代超声波振动器主体48安装紫外线灯63以外，和上述本实施例的洗涤用喷嘴大体上相同的结构；洗涤用喷嘴89是设超声波振动器主体48以外，大体上和上述本实施例的洗涤用喷嘴相同结构。但是，这里因图示的方便，省略了区分图示处理液进入部、处理液回收部。

该洗涤装置51中，上述四个洗涤用喷嘴在基片W上方与基片W保持一定的距离沿着齿条架62按顺序移动，利用四种洗涤方法洗涤基片W的被洗涤面全区域。

作为各洗涤用喷嘴的移动机构(喷嘴、被处理物相对移动方法)，各齿条架62上方的直线导杆上安装可以作水平移动的滑块，各滑块的上表面分别设有支柱，在这些支柱上固定各洗涤用喷嘴54、55、56、89的两端。各个滑块上装有电动机等驱动源，各个滑块构成为可以在齿条架62上自走。于是，根据装置控制部(图中省略)的控制信号，各滑块上的电动机分别工作，各洗涤用喷嘴54、55、56、89个别做水平移动。还有，上述支柱上设有缸筒(图中省略)等驱动源，上下移动支柱来可以调节各洗涤用喷嘴54、55、56、89的高度，即可以调节各洗涤用喷嘴54、55、56、89与基片W之间距离。

洗涤部52的侧方设有氢气水、臭氧水生成部60和处理液再生部61。在氢气水、臭氧水发生器60里装有氢气水制造装置64和臭氧水制造装置65。哪一种处理液都可以在纯水中溶解氢气、臭氧而生成。于是，在氢气水制造装置64生成的氢气水由设在氢气水供给分配管66中间的输液泵67供给到氢气水超声波洗涤用喷嘴56。

同样，在臭氧水制造装置65生成的臭氧水由设在臭氧水供给分配管68中间的输液泵69供给到臭氧水超声波洗涤用喷嘴55。还有，从生产线上的纯水供给装置(图中省略)供给纯水到纯水漂洗用喷嘴89。

还有，处理液再生部61上设有去除处理使用后处理液中所包含的微粒、异物等的过滤器70、71。用于去除氢气水中微粒的氢气水用过滤器70和用于去除臭氧水中微粒的臭氧水用过滤器71分别设在系统中。即，氢气水超声波洗涤用喷嘴56的排出口排出的使用后的氢气水(排出液)是由设在氢气水回收分配管72中间的送液泵73回收在氢气水用过滤器70。同样，臭氧水超声波洗涤用喷嘴55的排出口排出的使用后的臭氧水(排出液)是由设在臭氧水回收分配管74中间的送液泵75回收在臭氧水用过滤器71。

于是，经过氢气水用过滤器70的氢气水，由设在再生氢气水供给分配管76中间的送液泵77供给到氢气水超声波洗涤用喷嘴56。同样，经过臭氧水用过滤器71的臭氧水由设在再生臭氧水供给分配管78中间的送液泵79供给到臭氧水超声波洗涤用喷嘴55。还有，氢气水供给分配管66和再生氢气水供给分配管76连接在氢气水超声波洗涤用喷嘴56跟前，由阀门80可以进行切换向氢气水超声波洗涤用喷嘴56输入新的氢气水或供给再生氢气水。同样，臭氧水供给分配管68和再生臭氧水供给分配管78可以转换向臭氧水超声波洗涤用喷嘴55输入新的臭氧水或再生臭氧水。还有，也可以经过各过滤器70、71的氢气水、臭氧水是去除微粒的水，液体中的气体浓度降低，经过分配管回到氢气水制造装置64、臭氧水制造装置65，补充氢气和臭氧气体。

洗涤部52的侧方可拆卸地安装输入箱58、贮藏箱59。这两个箱子58、59是可以存放多个基片W的具有同一形状的；在输入箱58里存放洗涤前的(湿式处理前)基片W，而在贮藏箱59存放洗涤后(湿式处理后)的基片W。还有，洗涤部52和输入箱58、贮藏箱59之间设有基片输送机械手57。基片输送机械手57在其上方具有可伸缩的连杆机构的臂82，臂82可以转动和升降，臂82的前端支撑和输送基片W。

上述结构的洗涤装置51由操作员设定洗涤用喷嘴54、55、56、89与基片W的距离、洗涤用喷嘴的移动速度、处理液流量等各种条件，其他的由控制部控制，可以自动运转。因此，使用这个洗涤装置51时，把洗涤前的基片W装在输入箱58，操作员只要操作开关，基片输送机械手57使基片W从输送箱58输送到洗涤台53，在洗涤台53由各洗涤用喷嘴54、55、56、89按顺序进行紫外线洗涤、臭氧水超声波洗涤、氢气水超声波洗涤和漂洗，洗涤后由基片输送机械手57装在贮存箱59。

本实施例的洗涤装置51中，由于具备本发明的本实施例洗涤用喷嘴55、56和上述喷嘴与被处理物相对移动机构，保持上述本实施例的洗涤用喷嘴洗涤装置的优点，可以洗涤基片W的被洗涤面的全区域。还有，本实施例的洗涤装置51由四个洗涤用喷嘴54、55、56、89各自进行紫外线洗涤、臭氧水超声波洗涤、氢气水超声波洗涤和漂洗等不同洗涤方法的洗涤处理，用一台设备实施各种洗涤方法。

实施例4

图7是本发明实施例4的洗涤用喷嘴200的剖面图，相当于实施例1的图2的喷嘴。和实施例1相同的部件附同一符号。

在本实施例中，实施例1的基片2的处理液进入口16、处理液回收口17的外侧部分和隔壁部件11制成一体。因此，通过使基片2为亲水性材料、隔壁部件11为疏水性材料，与处理液10接触的喷嘴底面的外围可以确保较宽的疏水性区域。其结果，更容易把处理液保留在处理区域5内。

如上述详细说明，本发明的湿式处理装置，是上述连接部的被处理物一侧的面、上述处理液进入部的被处理物一侧的面、上述处理液回收部的被处理物一侧的面等形成一个面，而上述处理液进入部的和上述连接部一个面上的部分里形成进入处理液的处理液进入口，上述处理液回收部的和上述连接部一个面上的部分里形成处理液回收口，可以避免从处理液进入口到处理液回收口的处理区域中伴随处理液混入的气泡停留在处理区域内。因此，根据本发明的湿式处理装置，可以维持处理区域中的处理液稳定流动，有效处理被处理物的湿式处理成为可能。

其次，在本发明的湿式处理装置中，上述连接部的被处理物一侧的面、上述处理液进入部的被处理物一侧的面和上述处理液回收部的被处理物一侧的面由同样的基片形成，上述处理液进入口、上述处理液回收口穿通上述基片形成的结构，从处理液进入口到处理液回收口的处理液的流路由基片的一个面和被处理物组成，在喷嘴一侧不会形成伴随处理液气泡的停留场所，可以更稳定维持处理液的流动。

Claims (11)

1、一种湿式处理装置，具备喷嘴，这一喷嘴包含面对被处理物的面上具有向该被处理物进入处理液的处理液进入部、从上述被处理物回收处理液的处理液回收部、连接这些处理液进入部和处理液回收部的连接部，其特征在于：上述连接部的被处理物一侧的面、上述处理液进入部的被处理物一侧的面、上述处理液回收部的被处理物一侧的面形成同一面，在上述处理液进入部的位于上述连接部同一面的部分形成进入处理液的处理液进入口，在上述处理液回收部的位于上述连接部同一面的部分形成处理液回收口，

上述连接部的被处理物一侧的面、上述处理液进入部的被处理物一侧的面、上述处理液回收部的被处理物一侧的面由同一个基片形成，上述处理液进入口和上述处理液回收口穿通上述基片而形成，上述处理液进入口和处理液回收口是在被处理基片上在与处理液流动方向成直角的方向上设置在基片上的多个孔，且分别与处理液进入口和处理液回收口连接的由中空部和槽部形成的中空空间在孔排列方向上成连通的槽状。

2、根据权利要求1所述的湿式处理装置，其特征在于：基片和面对排列在该基片的被处理物另一侧的面的支撑板所夹持的中空的隔壁部件形成处理液进入部和处理液回收部，上述隔壁部件的中空部可以存留处理液的同时上述中空部分别与上述处理液进入口和上述处理液回收口连通而形成上述处理液流路。

3、根据权利要求1所述的湿式处理装置，其特征在于：在上述连接部设有给予该连接部和上述被处理物之间的处理液振动的振动赋予机构。

4、根据权利要求1所述的湿式处理装置，其特征在于：上述连接部的上述被处理物一侧的面由能够渗透紫外线的部件形成，上述连接部上设有向上述被处理物照射紫外线的紫外线照射机构。

5、根据权利要求2所述的湿式处理装置，其特征在于：由上述连接部、上述支撑板、上述隔壁部件包围的空间里安装紫外线照射机构，把上述空间的内部用惰性气体置换的气体置换机构。

6、根据权利要求1所述的湿式处理装置，其特征在于：上述基片由亲水性材料形成。

7、根据权利要求1所述的湿式处理装置，其特征在于：上述基片的处理液进入口一侧的周围部分布置疏水性材料组成的部件。

8、根据权利要求1所述的湿式处理装置，其特征在于：上述基片的处理液回收口一侧的周围部分布置疏水性材料组成的部件。

9、根据权利要求1所述的湿式处理装置，其特征在于：具有使上述喷嘴和上述被处理物互相保持一定距离的同时相对移动的喷嘴或被处理物移动机构。

10、根据权利要求1所述的湿式处理装置，其特征在于：与上述中空部形成槽状空间的上述槽部沿它们宽度方向的宽度比上述孔的孔径大。

11、一种湿式处理装置，具备喷嘴，这一喷嘴包含面对被处理物的面上具有向该被处理物进入处理液的处理液进入部、从上述被处理物回收处理液的处理液回收部、连接这些处理液进入部和处理液回收部的连接部，其特征在于：上述连接部的被处理物一侧的面、上述处理液进入部的被处理物一侧的面、上述处理液回收部的被处理物一侧的面形成同一面，在上述处理液进入部的位于上述连接部同一面的部分形成进入处理液的处理液进入口，在上述处理液回收部的位于上述连接部同一面的部分形成处理液回收口，

上述连接部的被处理物一侧的面、上述处理液进入部的被处理物一侧的面、上述处理液回收部的被处理物一侧的面由同一个基片形成，上述处理液进入口和上述处理液回收口穿通上述基片而形成，且上述基片的被处理物一侧的面形成微细的凸凹形状。

Images