CN118527082A - 一种可稳定转动反应釜的装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及反应釜技术领域，尤其涉及一种可稳定转动反应釜的装置，旨在解决反应釜在旋转清洁时釜体容易产生一定晃动的问题。包括：釜体，釜体的外壁上设有夹持机构；封盖转动连接在釜体的料口处，封盖上设置有转轴，转轴上环绕设置有搅拌叶片；釜体设置在设备平台上，釜体的底面设置有底座；封盖用以封闭釜体并能够相互转动，底座可带动釜体翻转。釜体在取料完成后，通过控制底座带动釜体翻转，并将封盖与釜体配合后注水，启动底座带动釜体转动，并令封盖反向转动，封盖内的转轴能够带动搅拌叶片同步旋转，利用翻涌的水和搅拌叶片对釜体内周壁进行清洁，同时，旋转的封盖能够对釜体产生一个反向的离心力，令其更加稳定。

Description

一种可稳定转动反应釜的装置

技术领域

本发明涉及反应釜技术领域，尤其涉及一种可稳定转动反应釜的装置。

背景技术

反应釜的广义理解即有物理或化学反应的容器，通过对容器的结构设计与参数配置，实现工艺要求的加热、蒸发、冷却及低高速的混配功能，反应釜是综合反应容器，根据反应条件对反应釜结构功能及配置附件的设计，从开始的进料-反应-出料均能够以较高的自动化程度完成预先设定好的反应步骤，对反应过程中的温度、压力、力学控制（搅拌、鼓风等）、反应物/产物浓度等重要参数进行严格的调控，而反应釜在使用过程中内部容易粘连原料，需要及时进行清理。

反应釜在清理时将其倾倒，并向内部注水，通过毛刷等工具洗刷内周壁上残留的物料等杂质，刷洗掉的物料混合着反应釜内的水再从进料口倒出，这种清洗方式往往不能够有效快速地对反应釜进行清洁，同时还要多次注水进行洗刷，造成资源浪费，将釜体设为转鼓式旋转清洗，能够提升清洁效率，但因反应釜的高度较高等因素，在倾倒旋转时，整体运行不稳，因此需要提供一种在具备高效率清洁的同时又能够使反应釜稳定转动的技术。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是反应釜在转动清洁时，釜体不稳定，提供一种可稳定转动反应釜的装置，能够对反应釜快速有效清洁的同时保持釜体稳定。

本发明通过下述技术方案实现：

一种可稳定转动反应釜的装置，包括：

釜体，所述釜体的外周壁上设置有夹持机构；

封盖，所述封盖转动连接在所述釜体的料口处，所述封盖上设置有用以插入所述釜体内腔的转轴，所述转轴上环绕设置有搅拌叶片；

设备平台，所述釜体设置在所述设备平台上，所述釜体的底面设置有底座；

其中，所述封盖用以封闭所述釜体，且所述釜体和所述封盖均能够相互转动，所述底座可带动所述釜体翻转。

上述技术方案中，釜体在取料完成后，将其置于设备平台上，通过控制底座带动釜体翻转，并将封盖与釜体配合后注水，启动底座带动釜体转动，并令封盖反向转动，封盖内的转轴能够带动搅拌叶片同步旋转，利用翻涌的水和搅拌叶片对釜体内周壁进行清洁，同时，旋转的封盖能够对釜体产生一个反向的离心力，令其更加稳定。

在一些可选的技术方案中，所述底座的外周壁上贯穿有插孔，所述设备平台上设置有遮罩板，所述遮罩板上设置有控制器，所述控制器上设置有第一插杆，所述第一插杆用以插入所述插孔内，所述第一插杆可伸缩收回，所述控制器可带动所述第一插杆转动，所述设备平台上设置有环形支座，所述环形支座用以与所述釜体抵触。

上述技术方案中，启动控制器带动第一插杆插入底座的插孔内，并带动底座旋转，底座则带动釜体翻转，环形支座用于釜体倾倒后进行支撑。

在一些可选的技术方案中，所述封盖上也开设有插孔，所述控制器上还设置有第二插杆，所述第二插杆用于插入位于所述封盖内的插孔，所述第二插杆和所述第一插杆的转动轨迹相同。

上述技术方案中，设置第二插杆有利于在釜体的两端同时施力，便于釜体在竖直变水平时更稳定。

在一些可选的技术方案中，所述底座上设置有若干夹持板，所述夹持板用于环绕固定所述釜体，所述底座朝向所述釜体的一侧设置有若干凸柱，所述釜体的底面开设有若干与所述凸柱卡接的卡槽，所述设备平台上设置有驱动机构，所述驱动机构和所述底座连接。

上述技术方案中，夹持板用于环绕固定限位釜体，令釜体在翻转或转动时保持稳定，驱动机构用于驱动底座带动釜体旋转。

在一些可选的技术方案中，所述封盖朝向所述釜体的一侧开设有环形槽，所述釜体朝向所述封盖的一侧设置有用于与所述环形槽转动连接的凸环，所述封盖的一侧也连接有驱动机构。

上述技术方案中，釜体上的凸环与封盖的环形槽卡接，两者能相互进行转动。

在一些可选的技术方案中，所述夹持机构包括若干弧形卡板和传动杆，所述弧形卡板和传动杆滑动连接，所述封盖沿厚度方向开设有若干通孔，所述通孔内设置有转筒，所述转筒的内周壁上设置有内螺纹，所述传动杆上设置有与所述转筒适配螺纹连接的外螺纹，所述封盖朝向所述釜体的一侧设置有若干支座，所述支座位于所述转筒的开口处，所述支座上开设有通槽，所述通槽的内周壁上设置有限位条，所述传动杆的外周壁上开设有与所述限位条卡接的限位槽，所述传动杆与所述转筒转动连接，所述传动杆与所述支座滑动连接，所述弧形卡板设置在所述传动杆的末端，所述封盖的中部设置有转盘，转盘上开设有用于所述转轴通过的限位孔，位于所述封盖一侧驱动机构用以控制转筒和转盘旋转。

上述技术方案中，驱动机构在控制转盘旋转时，同样也会控制转筒旋转，转筒旋转时会带动传动杆旋转，但传动杆同时位于支座内，且传动杆上的限位槽与支座上的限位条卡接，因此，支座会限制传动杆旋转，从而使传动杆只能移动，传动杆在移动时会带动弧形卡板朝向底座移动，弧形卡板与釜体的外周壁抵触，因此在釜体和卡盘旋转时，弧形卡板会随着转筒的旋转向底座移动，移动的过程中两个弧形卡板会对釜体进行夹持。

在一些可选的技术方案中，所述弧形卡板的一端设置有凹槽，所述传动杆转动连接在凹槽内，所述弧形卡板的内周壁用于与所述釜体的外周壁抵触。

上述技术方案中，弧形卡板在移动过程中与釜体的外周壁接触，对釜体进行限位，令釜体在转动时更加稳定。

在一些可选的技术方案中，所述弧形卡板的底面为第一斜面，所述夹持板远离所述釜体的一面为第二斜面，所述第一斜面和所述第二斜面用于相互抵触。

上述技术方案中，第一斜面和第二斜面相互抵触，在底座转动时，两个斜面相切抵触，不会对釜体造成影响。

在一些可选的技术方案中，所述釜体的内腔呈锥形，所述釜体内腔直径小的一端朝向釜体的底端。

上述技术方案中，锥形的内腔便于后续倾倒废水。

在一些可选的技术方案中，所述转轴上还环绕设置有若干支架，所述支架位于相邻两个所述搅拌叶片之间，所述支架上设置有刷头，所述刷头与所述釜体的内周壁抵触。

上述技术方案中，刷头与釜体的内周壁接触，能够与搅拌叶片配合使釜体清洗的更彻底。

本发明与现有技术相比，具有如下的优点和有益效果：

1、本发明中封盖可相对釜体反向转动，底座可带动釜体旋转并利用夹持板对釜体进行限位，封盖在转动时会带动转轴和搅拌叶片同步旋转，搅拌叶片和釜体的转动方向相反，可令注入釜体内的水拍击内周壁，并结合刷头有效刮除内周壁上的物料，同时，环绕设置的刷头能够提供一定的扭矩，降低釜体的离心力，提高釜体的稳定性，翻转的封盖产生的离心力也能够较小部分釜体的离心力，使得釜体更加稳定；

2、本发明中的封盖在驱动机构的控制下，转筒旋转带动传动杆旋转，传动杆受到支座的限位而带动弧形卡板朝向底座做直线运动弧形卡板在移动的过程中，会对釜体进行支撑限位，进一步提升釜体的稳定性。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本发明实施例的进一步理解，构成本申请的一部分，并不构成对本发明实施例的限定。在附图中：

图1为本发明中釜体竖直时的结构示意图；

图2为本发明中釜体水平时的结构示意图一；

图3为本发明中釜体水平时的结构示意图二；

图4为本发明中釜体和封盖组合后的剖视图；

图5为图4中A处的局部放大图；

图6为本发明中封盖和釜体的结构示意图；

图7为图6中B处的局部放大图。

附图标记所代表的为：

1、设备平台；11、第一插杆；12、第二插杆；13、驱动机构；14、环形支座；2、釜体；3、底座；31、插孔；32、夹持板；4、封盖；41、转筒；42、支座；43、限位条；44、传动杆；45、弧形卡板；46、卡盘；5、转轴；51、搅拌叶片；52、支架；53、刷头。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下面结合实施例和附图，对本发明作进一步的详细说明，本发明的示意性实施方式及其说明仅用于解释本发明，并不作为对本发明的限定。需要说明的是，本发明已经处于实际研发使用阶段。

实施例1

如图1至图3所示，本实施例提供一种可稳定转动反应釜的装置，包括：

釜体2，釜体2的外周壁上设置有夹持机构；

封盖4，封盖4转动连接在釜体2的料口处，封盖4上设置有用以插入釜体2内腔的转轴5，转轴5上环绕设置有搅拌叶片51；

设备平台1，釜体2设置在设备平台1上，釜体2的底面设置有底座3；

其中，封盖4用以封闭釜体2，且釜体2和封盖4均能够相互转动，底座3可带动釜体2翻转。

如图1至图6所示，底座3的外周壁上贯穿有插孔31，设备平台1上设置有遮罩板，遮罩板上设置有控制器，控制器上设置有第一插杆11，第一插杆11用以插入插孔31内，第一插杆11可伸缩收回，控制器可带动第一插杆11转动，设备平台1上设置有环形支座14，环形支座14用以与釜体2抵触。

如图1至图3所示，封盖4上也开设有插孔31，控制器上还设置有第二插杆12，第二插杆12用于插入位于封盖4内的插孔31，第二插杆12和第一插杆11的转动轨迹相同。

如图1至图3所示，底座3上设置有若干夹持板32，夹持板32用于环绕固定釜体2，底座3朝向釜体2的一侧设置有若干凸柱，釜体2的底面开设有若干与凸柱卡接的卡槽，设备平台1上设置有驱动机构13，驱动机构13和底座3连接。

具体的，釜体2在取出物料之后，通过起重设备将其放置在设备平台1上，并与设备平台1上的底座3连接限位，随后准备对釜体2进行刷洗工作，釜体2完成放置之后，通过控制器移动第一插杆11和第二插杆12，第一插杆11和第二插杆12通过连接杆进行连接，第一插杆11用于插入底座3的插孔31内，第二插杆12用于插入封盖4的插孔31内，遮罩板上开设有两个用于令第一插杆11和第二插杆12周向滑动的弧形滑槽，优选的，底座3和封盖4上的插孔31均可沿自身轴线对称开设两组，便于第一插杆11或第二插杆12插入。

釜体2竖直放置在设备平台1之后，可通过驱动机构13控制底座3旋转一定角度，令底座3的插孔31与第一插杆11对应，接着利用控制器控制第一插杆11伸长插入第一插孔31内，之后控制器控制连接杆旋转，并带动第一插杆11沿弧形滑槽滑动，从而令釜体2旋转至外周壁与环形支座14接触，环形支座14用于支撑限位釜体2。

如图6和图7所示，封盖4朝向釜体2的一侧开设有环形槽，釜体2朝向封盖4的一侧设置有用于与环形槽转动连接的凸环，封盖4的一侧也连接有驱动机构13。

如图3至图7所示，夹持机构包括若干弧形卡板45和传动杆44，弧形卡板45和传动杆44滑动连接，封盖4沿厚度方向开设有若干通孔，通孔内设置有转筒41，转筒41的内周壁上设置有内螺纹，传动杆44上设置有与转筒41适配螺纹连接的外螺纹，封盖4朝向釜体2的一侧设置有若干支座42，支座42位于转筒41的开口处，支座42上开设有通槽，通槽的内周壁上设置有限位条43，传动杆44的外周壁上开设有与限位条43卡接的限位槽，传动杆44与转筒41转动连接，传动杆44与支座42滑动连接，弧形卡板45设置在传动杆44的末端，封盖4的中部设置有转盘，转盘上开设有用于转轴5通过的限位孔，位于封盖4一侧驱动机构13用以控制转筒41和转盘旋转。

如图3所示，弧形卡板45的一端设置有凹槽，传动杆44转动连接在凹槽内，弧形卡板45的内周壁用于与釜体2的外周壁抵触。

如图2至图5所示，弧形卡板45的底面为第一斜面，夹持板32远离釜体2的一面为第二斜面，第一斜面和第二斜面用于相互抵触。

如图4所示，釜体2的内腔呈锥形，釜体2内腔直径小的一端朝向釜体2的底端。

如图5所示，转轴5上还环绕设置有若干支架52，支架52位于相邻两个搅拌叶片51之间，支架52上设置有刷头53，刷头53与釜体2的内周壁抵触。

具体的，釜体2倾倒放置后即可开始进行清洗，将封盖4安装在釜体2的进口处，釜体2的凸环卡入封盖4的环形槽内，凸环可相对环形槽进行转动，优选的，考虑到釜体2的平衡，封盖4也可以在釜体2竖直的时候安装，此时可令第二插杆12插入封盖4的插孔31内，在控制器的控制下，控制器只用于控制第一插杆11和第二插杆12旋转限位釜体2，图中未示出，第一插杆11和第二插杆12同步旋转，因封盖4和底座3分别位于釜体2的两端且对釜体2进行了限位，因此在釜体2旋转变为水平状态时，能够最大程度的保持釜体2的稳定。

分别位于底座3和封盖4一侧的驱动机构13可控制底座3和封盖4旋转，且底座3和封盖4的转动方向相反，封盖4的中心开设有限位孔和可开闭的注水孔，转轴5用于通过限位孔插入釜体2内，注水孔用于向釜体2内注水，注水高度不高于水平状态下釜体2高度的1/2，在底座3旋转时会带动釜体2一同旋转，釜体2通过凸环相对封盖4进行旋转，封盖4在驱动机构13的控制下也进行旋转，同时转轴5也在跟随封盖4进行转动，釜体2内的水在转动的釜体2下进行翻涌，旋转的转轴5又带动搅拌叶片51同步旋转，旋转的搅拌叶片51同时拨动釜体2内的水，且釜体2和搅拌叶片51的转向不同，使得釜体2内的水无规律拍击釜体2内周壁，令釜体2内周壁上黏附的物料剥落，提升清洁效率。

釜体2和转轴5旋转时，位于相邻两搅拌叶片51之间的刷头53不断与釜体2内周壁接触，旋转的刷头53能够快速刷除黏附在釜体2内周壁上的物料，刮除掉落的物料迅速被翻涌的水拍落混合，达到清洁釜体2内周壁的效果，需要说明的是，釜体2长度较长，在转动时会产生一定的离心力，导致釜体2转动不稳，而刷头53位于釜体2内部又与釜体2内周壁抵触，因此旋转的若干个等距设置的刷头53会持续给釜体2提供一个扭矩，从而减小釜体2旋转时的离心力，从而令釜体2更加平稳，此外，封盖4上的转盘位于釜体2内，且转向与釜体2相反，因此，转盘能够提供一个相反的离心力，从而减小部分釜体2的离心力，能够再次令釜体2转动的更加平稳。

驱动机构13在控制转盘旋转时，同样也会控制转筒41旋转，转筒41旋转时会带动传动杆44旋转，但传动杆44同时位于支座42内，且传动杆44上的限位槽与支座42上的限位条43卡接，因此，支座42会限制传动杆44旋转，从而使传动杆44只能移动，传动杆44在移动时会带动弧形卡板45朝向底座3移动，弧形卡板45与釜体2的外周壁抵触，因此在釜体2和卡盘46旋转时，弧形卡板45会随着转筒41的旋转一步步向底座3移动，移动的过程中两个弧形卡板45会对釜体2进行夹持，并随着转筒41转动的圈数增加，弧形卡板45会移动至与夹持板32抵触，在弧形卡板45移动过程中及与夹持板32抵触后，均能够对釜体2进行限位，保持釜体2转动时的稳定，传动杆44的可移动距离应等于弧形卡板45移动至夹持板32的距离，夹持板32和弧形卡板45抵触之后，第一斜面和第二斜面互相接触，后续底座3在转动时，夹持板32的第二斜面与弧形卡板45的第一斜面接触，保持稳定。

釜体2的内腔为锥形结构，便于后续倾倒釜体2内部废水及洗刷釜体2内周壁，优选的，转轴5可以在驱动机构13的控制下进行伸缩，能够带动刷头53刷除内周壁上的物料，支架52具有弹性，可沿着釜体2的内周壁伸长或收缩，令刷头53与釜体2内周壁保持抵触，在刷洗完成之后，调整底座3位置，将底座3的插孔31与第一插杆11对应，第一插杆11插入插孔31，控制底座3继续向下翻转，令釜体2尾部向上，端部向下，之后复位，并多次循环，摇晃釜体2内的物料充分混入水中而不黏附在釜体2的内周壁上，最后调整釜体2位置打开封盖4，利用底座3抬起釜体2尾部，令掺杂了物料的废水排出，完成清洁。

以上所述的具体实施方式，对本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本发明的具体实施方式而已，并不用于限定本发明的保护范围，凡在本发明的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种可稳定转动反应釜的装置，其特征在于，包括：

釜体（2），所述釜体（2）的外周壁上设置有夹持机构；

封盖（4），所述封盖（4）转动连接在所述釜体（2）的料口处，所述封盖（4）上设置有用以插入所述釜体（2）内腔的转轴（5），所述转轴（5）上环绕设置有搅拌叶片（51）；

设备平台（1），所述釜体（2）设置在所述设备平台（1）上，所述釜体（2）的底面设置有底座（3）；

其中，所述封盖（4）用以封闭所述釜体（2），且所述釜体（2）和所述封盖（4）均能够相互转动，所述底座（3）可带动所述釜体（2）翻转。

2.根据权利要求1所述的一种可稳定转动反应釜的装置，其特征在于，所述底座（3）的外周壁上贯穿有插孔（31），所述设备平台（1）上设置有遮罩板，所述遮罩板上设置有控制器，所述控制器上设置有第一插杆（11），所述第一插杆（11）用以插入所述插孔（31）内，所述第一插杆（11）可伸缩收回，所述控制器可带动所述第一插杆（11）转动，所述设备平台（1）上设置有环形支座（14），所述环形支座（14）用以与所述釜体（2）抵触。

3.根据权利要求2所述的一种可稳定转动反应釜的装置，其特征在于，所述封盖（4）上也开设有插孔（31），所述控制器上还设置有第二插杆（12），所述第二插杆（12）用于插入位于所述封盖（4）内的插孔（31），所述第二插杆（12）和所述第一插杆（11）的转动轨迹相同。

4.根据权利要求2所述的一种可稳定转动反应釜的装置，其特征在于，所述底座（3）上设置有若干夹持板（32），所述夹持板（32）用于环绕固定所述釜体（2），所述底座（3）朝向所述釜体（2）的一侧设置有若干凸柱，所述釜体（2）的底面开设有若干与所述凸柱卡接的卡槽，所述设备平台（1）上设置有驱动机构（13），所述驱动机构（13）和所述底座（3）连接。

5.根据权利要求4所述的一种可稳定转动反应釜的装置，其特征在于，所述封盖（4）朝向所述釜体（2）的一侧开设有环形槽，所述釜体（2）朝向所述封盖（4）的一侧设置有用于与所述环形槽转动连接的凸环，所述封盖（4）的一侧也连接有驱动机构（13）。

6.根据权利要求5所述的一种可稳定转动反应釜的装置，其特征在于，所述夹持机构包括若干弧形卡板（45）和传动杆（44），所述弧形卡板（45）和传动杆（44）滑动连接，所述封盖（4）沿厚度方向开设有若干通孔，所述通孔内设置有转筒（41），所述转筒（41）的内周壁上设置有内螺纹，所述传动杆（44）上设置有与所述转筒（41）适配螺纹连接的外螺纹，所述封盖（4）朝向所述釜体（2）的一侧设置有若干支座（42），所述支座（42）位于所述转筒（41）的开口处，所述支座（42）上开设有通槽，所述通槽的内周壁上设置有限位条（43），所述传动杆（44）的外周壁上开设有与所述限位条（43）卡接的限位槽，所述传动杆（44）与所述转筒（41）转动连接，所述传动杆（44）与所述支座（42）滑动连接，所述弧形卡板（45）设置在所述传动杆（44）的末端，所述封盖（4）的中部设置有转盘，转盘上开设有用于所述转轴（5）通过的限位孔，位于所述封盖（4）一侧驱动机构（13）用以控制转筒（41）和转盘旋转。

7.根据权利要求6所述的一种可稳定转动反应釜的装置，其特征在于，所述弧形卡板（45）的一端设置有凹槽，所述传动杆（44）转动连接在凹槽内，所述弧形卡板（45）的内周壁用于与所述釜体（2）的外周壁抵触。

8.根据权利要求6所述的一种可稳定转动反应釜的装置，其特征在于，所述弧形卡板（45）的底面为第一斜面，所述夹持板（32）远离所述釜体（2）的一面为第二斜面，所述第一斜面和所述第二斜面用于相互抵触。

9.根据权利要求1所述的一种可稳定转动反应釜的装置，其特征在于，所述釜体（2）的内腔呈锥形，所述釜体（2）内腔直径小的一端朝向釜体（2）的底端。

10.根据权利要求9所述的一种可稳定转动反应釜的装置，其特征在于，所述转轴（5）上还环绕设置有若干支架（52），所述支架（52）位于相邻两个所述搅拌叶片（51）之间，所述支架（52）上设置有刷头（53），所述刷头（53）与所述釜体（2）的内周壁抵触。