CN118251061A

CN118251061A - 显示装置

Info

Publication number: CN118251061A
Application number: CN202311635078.6A
Authority: CN
Inventors: 韩范熙; 金志原; 宋民燮
Original assignee: LG Display Co Ltd
Current assignee: LG Display Co Ltd
Priority date: 2022-12-23
Filing date: 2023-12-01
Publication date: 2024-06-25
Also published as: DE102023135519A1; US20240215329A1; GB202318282D0

Abstract

本公开内容涉及显示装置，其包括：基板，其包括显示区域和非显示区域，显示区域包括第一光学区域和常规区域；设置在基板上的平坦化层；多个发光二极管，其设置在平坦化层上并且包括阳极、发光层和阴极；堤部，其在平坦化层上被设置成覆盖阳极的端部；封装单元，其设置成覆盖多个发光二极管和堤部；触摸感测单元，其设置在封装单元上并包括多个触摸电极；以及多个屏蔽图案，其设置在第一光学区域中且在封装单元和多个触摸电极之间。第一光学区域包括其中阴极使堤部暴露的透射区域。

Description

显示装置

相关申请的交叉引用

本申请要求2022年12月23日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第2022-0183492号的优先权，该申请的公开内容通过引用并入本文。

技术领域

本公开内容涉及显示装置，更具体地，涉及可以减少设置摄像装置或传感器的区域中的触摸噪声的显示装置。

背景技术

随着信息时代的到来，以视觉方式表达电信息信号的显示装置领域得到了快速发展，并不断研究提高各种显示装置的性能，如薄厚度、轻重量和低功耗。

代表性显示装置可以包括液晶显示(LCD)装置、场发射显示(FED)装置、电润湿显示(EWD)装置、有机发光显示(OLED)装置等。

以有机发光显示装置为代表的电致发光显示装置是自发光显示装置，因此无需单独的光源，这一点与液晶显示装置不同。因此，电致发光显示装置可以制造得重量轻且厚度小。此外，由于电致发光显示装置不仅因低电压驱动而在功耗方面具有优势，而且在色彩实现、响应速度、视角、对比度(CR)方面也具有优势，因此有望在各个领域得到应用。

最近，移动终端的多媒体功能正在改进。例如，摄像装置或传感器基本上被嵌入在显示装置的前表面上。然而，设置在显示装置的前表面上的摄像装置或传感器限制了屏幕设计，给屏幕设计带来困难。为了减少摄像装置或传感器在显示装置的前表面上占据的空间，对于显示装置采用了包括凹口或冲孔(punch hole)的设计。然而，由于摄像装置或传感器，屏幕尺寸仍然受到限制，因此难以实现全屏显示。

为了实现全屏显示，提出了一种用于在显示装置的屏幕中提供设置有低分辨率像素的区域并且在设置有低分辨率像素的区域中设置摄像装置和/或各种传感器的方法。

发明内容

本公开内容要实现的一个目的是提供一种显示装置，该显示装置降低设置有摄像装置或传感器的区域中的触摸噪声，从而改善触摸性能。

本公开内容的目的并不局限于上述目的，并且本领域技术人员可以通过以下描述清楚地了解上面未提及的其他目的。

根据本公开内容的一个方面，一种显示装置包括：基板，该基板包括显示区域和非显示区域，该显示区域包括第一光学区域和常规区域(normal area)；平坦化层，其设置在基板上且在显示区域中；多个发光二极管，其设置在平坦化层上并且包括阳极、发光层和阴极；堤部，其在平坦化层上被设置成覆盖阳极的端部；封装单元，其被设置成覆盖多个发光二极管和堤部；触摸感测单元，其设置在封装单元上并且包括多个触摸电极；以及多个屏蔽图案，其设置在封装单元和多个触摸电极之间且在第一光学区域中。第一光学区域包括其中阴极使堤部暴露的透射区域。

示例性实施方式的其他详细事项包含在详细说明和附图中。

根据本公开内容的显示装置，摄像装置或传感器设置在显示区域中的发光二极管或触摸电极的下方，从而使其上方的触摸或显示不会被断开。

在本公开内容的显示装置中，未设置诸如由金属形成的电极的不透明部件的透射区域位于与设置有摄像装置或传感器的区域交叠的区域中。因此，设置有摄像装置或传感器的区域中的透光率得到改善，从而提高了显示装置的视亮度因数(luminosity factor)。

在本公开内容的显示装置中，多个屏蔽图案被设置成在多个发光二极管与多个透射区域之间的边界处与多个触摸电极交叠，从而减少可能通过透射区域在显示装置中产生的触摸噪声。

在本公开内容的显示装置中，具有高流动性的有机层被设置在触摸感测单元上，以补充触摸感测单元引起的台阶，从而提高显示装置的可视性。

根据本公开内容的效果并不局限于上述例举的内容，并且本说明书包括更多不同的效果。

附图说明

从以下结合附图呈现的详细描述中将更清楚地理解本公开内容的上述及其它方面、特征和其它优点，在附图中：

图1A至图1D是根据本公开内容的示例性实施方式的显示装置的示意性平面图；

图2是根据本公开内容的示例性实施方式的显示装置的系统图；

图3是根据本公开内容的示例性实施方式的显示面板中的子像素的等效电路图；

图4是示出根据本公开内容的示例性实施方式的显示面板中的显示区域的子像素的布置的视图；

图5A是示例性示出根据本公开内容的示例性实施方式的显示面板中的第一光学区域和常规区域中的信号线的布置的视图；

图5B是示例性示出根据本公开内容的示例性实施方式的显示面板的第二光学区域和常规区域中的信号线的布置的视图；

图6是放大图1的显示装置的常规区域的示意性平面图；

图7是沿图6的VII-VII'线截取的截面图；

图8是沿图1A的VIII-VIII'线截取的截面图；

图9是放大图1的显示装置的第一光学区域的示意性平面图；

图10是沿图9的X-X'线截取的截面图；

图11A是示出图1的区域X的示意性平面图；

图11B是示出图11A的区域A的示意性平面图；

图11C是示出图11A的区域B的示意性平面图；

图11D是沿图11C的XI-XI'线截取的截面图；

图12是根据本公开内容的示例性实施方式和比较实施方式的显示触摸噪声(DTN)模拟结果；

图13是示出根据本公开内容的另一示例性实施方式的显示装置(例如，柔性显示装置)的第一光学区域的平面图；以及

图14是用于放大图13的区域Z的视图。

具体实施方式

通过参考下文详细描述的示例性实施方式和附图，本公开内容的优点和特征以及实现这些优点和特征的方法将是清楚的。然而，本公开内容并不局限于本文所公开的示例性实施方式，而是将以各种形式实现。示例性实施方式仅以举例的方式提供，以便本领域技术人员能够充分理解本公开的公开内容和本公开内容的范围。

附图中示出的用于描述本公开内容的示例性实施方式的形状、尺寸、比例、角度、数字等仅仅是示例，而本公开内容并不限于此。在整个说明书中，相似的附图标记通常表示相似的元件。此外，在本公开内容的以下描述中，可以省略对已知相关技术的详细解释，以避免不必要地模糊本公开内容的主题。本文中使用的诸如“包括”、“具有”和“由......组成”的术语通常旨在允许添加其他部件，除非这些术语与术语“仅”一起使用。对单数的任何引用可以包括复数，除非另有明确说明。

部件被解释为包括普通误差范围，即使没有明确说明。

当使用诸如“上”、“上方”、“下方”和“旁边”的术语描述两个部件之间的位置关系时，一个或更多个部件可以位于两个部件之间，除非这些术语与术语“紧接”或“直接”一起使用。

当一个元件或层设置在另一个元件或层“上”时，另外的层或另外的元件可以直接设置在另一个元件或层上或其间。

虽然术语“第一”、“第二”等用于描述各种部件，但这些部件并不受限于这些术语。这些术语只是用来区分一个部件和其他部件。因此，在本公开内容的技术构思中，下文提及的第一部件可以是第二部件。

在整个说明书中，相同的附图标记通常表示相同的元件。

图中所示的每个部件的尺寸和厚度是为了描述方便而示出的，并且本公开内容并不局限于所示部件的尺寸和厚度。

本公开内容的各种实施方式的特征可以部分或全部地彼此粘附或组合，并且可以以技术上的各种方式互锁和操作，并且各实施方式可以独立地或彼此关联地实施。

在下文中，将参照附图详细描述本公开内容的各种示例性实施方式。

图1A至图1D是根据本公开内容的示例性实施方式的显示装置的示意性平面图。

参照图1A至图1D，根据本公开内容的示例性实施方式的显示装置100可以包括显示图像的显示面板DP以及一个或更多个光学电子装置170、170a和170b。光学电子装置170、170a和170b可以包括接收光的光接收装置，例如摄像装置或传感器。

显示面板DP是用于向用户显示图像的面板。

显示面板DP可以包括显示图像的显示元件、驱动显示元件的驱动元件以及向显示元件和驱动元件传输各种信号的线路。显示元件可以根据显示面板DP的类型以不同方式定义。例如，当显示面板DP是有机发光显示面板时，显示元件可以是包括阳极、发光层和阴极的有机发光二极管。例如，当显示面板DP是液晶显示面板时，显示元件可以是液晶显示元件。

在下文中，尽管假定显示面板DP为有机发光显示面板，但是显示面板DP并不限于有机发光显示面板。

其中，显示面板DP可以被配置成包括基板以及基板上的多个绝缘层、晶体管层以及发光二极管层。显示面板DP可以包括用于显示图像的多个子像素和用于驱动多个子像素的各种信号线。信号线可以包括多条数据线、多条栅极线和多条电力线。此时，多个子像素中的每个子像素可以包括位于晶体管层上的晶体管和位于发光二极管层上的发光二极管。

显示面板DP可以包括显示区域DA和非显示区域NDA。

显示区域DA是显示面板DP中显示图像的区域。

在显示区域DA中，可以设置配置多个像素的多个子像素和用于驱动多个子像素的电路。多个子像素是配置显示区域DA的最小单元，并且显示元件可以被设置在多个子像素中的每个子像素中。多个子像素可以配置像素。例如，可以在多个子像素中的每个子像素中设置包括阳极、发光层和阴极的有机发光二极管，但并不限于此。此外，用于驱动多个子像素的电路可以包括驱动元件、线等。例如，电路可以由薄膜晶体管、存储电容器、栅极线和数据线配置，但并不限于此。

非显示区域NDA是不显示图像的区域。

非显示区域NDA可以弯曲以避免从前表面看到或被壳体(未图示)遮挡，并且也可以称为边框区域。

尽管在图1A至图1D中示出了非显示区域NDA包围四边形显示区域DA，但显示区域DA和非显示区域NDA的形状和布置并不限于图1A至图1D中示出的示例。也就是说，显示区域DA和非显示区域NDA可以具有适合包括显示装置100(例如，柔性显示装置100)的电子装置的设计的形状。例如，显示区域DA的示例形状可以是五边形、六边形、圆形、椭圆形等。

在非显示区域NDA中，可以设置用于驱动显示区域DA的有机发光二极管的各种布线和电路。例如，在非显示区域NDA中，可以设置向显示区域DA的多个子像素和电路传输信号的链接线、板内栅极(GIP)线、接地线(GND、GRD)或驱动IC(例如栅极驱动IC或数据驱动IC)，但并不限于此。

例如，在非显示区域NDA中，可以包括设置成包围显示区域DA并向子像素施加公共电压的接地线GND。例如，可以形成一条或两条或更多条接地线GND。当形成两条或更多条接地线GND时，更靠近显示区域DA的接地线可以被称为内部接地线GRD。

此外，尽管没有示出，显示装置100也可以包括触摸感测单元，该触摸感测单元包括多个触摸电极。在多个触摸电极中，可以设置传输触摸信号的触摸路由线TL。

显示装置100还可以包括各种附加元件，以生成各种信号或驱动显示区域DA中的像素。用于驱动像素的附加元件可以包括反相器电路、多路复用器、静电放电电路(ESD)等。显示装置100还可以包括与驱动像素的功能以外的功能相关联的附加元件。例如，显示装置100可以包括提供触摸感测功能、用户认证功能(例如指纹识别)、多级压力感测功能或触觉反馈功能的附加元件。上述附加元件可以位于连接至非显示区域NDA和/或连接接口的外部电路中。

例如，在显示装置100的非显示区域NDA中，可以包括焊盘区域。在焊盘区域中，连接至各种信号线或印刷电路板的焊盘被设置。例如，在非显示区域NDA中，显示区域DA和焊盘区域之间还可以包括弯曲区域。弯曲区域被弯曲，使得焊盘区域可以被设置在显示面板DP的后表面上，但不限于此。

焊盘区域可以包括设置在非显示区域NDA中并与驱动集成电路接合的集成电路接合焊盘区域COP，以及设置在非显示区域NDA中并与柔性印刷电路接合的膜接合焊盘区域FOP。此时，集成电路接合焊盘区域COP可以定位成比膜接合焊盘区域FOP更靠近显示区域DA。

参照图1A至图1D，显示区域DA可以包括第一光学区域DA1和常规区域NA，但不限于此。

在图1A至图1D中，一个或更多个光学电子装置170、170a和170b是位于显示面板DP下方(位于观看表面的相对侧)的电子部件。

光进入显示面板DP的前表面(观看表面)并穿过显示面板DP以传输至位于显示面板DP下方(观看表面的相对侧)的一个或更多个光学电子装置170、170a和170b。

一个或更多个光学电子装置170、170a和170b可以是接收穿过显示面板DP的光以根据接收到的光执行预定功能的装置。

例如，光学电子装置170、170a和170b可以包括摄像装置或接近传感器中的任意一个或更多个。

如上所述，光学电子装置170、170a和170b是需要接收光的装置，但可以设置在显示面板DP的下方。也就是说，光学电子装置170、170a和170b可以设置在与显示面板DP的观看表面相对的一侧。光学电子装置170、170a和170b不暴露在显示装置100(例如，柔性显示装置100)的前表面。因此，当用户观看显示装置100(例如，柔性显示装置100)的前表面时，看不到光学电子装置170、170a和170b。

例如，位于显示面板DP下方的摄像装置是捕获前表面的前置摄像装置，并且也可以被视为摄像装置透镜。

光学电子装置170、170a和170b可以设置成与显示面板DP的显示区域DA交叠。也就是说，光学电子装置170、170a和170b可以设置在显示区域DA中。

参照图1A至图1D，显示区域DA可以包括常规区域NA和一个或更多个光学区域DA1和DA2。

一个或更多个光学区域DA1和DA2可以是与一个或更多个光学电子装置170、170a和170b交叠的区域。

根据图1A的示例，显示区域DA可以包括常规区域NA和第一光学区域DA1。这里，第一光学区域DA1的至少一部分可以与第一光学电子装置170交叠。

尽管在图1A中，示出了第一光学区域DA1的圆形结构，但根据本公开内容的示例性实施方式的第一光学区域DA1的形状并不限于此。

例如，如图1B所示，第一光学区域DA1可以具有八边形形状，也可以由各种多边形形状形成。

根据图1C的示例，显示区域DA可以包括常规区域NA、第一光学区域DA1和第二光学区域DA2。在图1C的示例中，常规区域NA可以设置在第一光学区域DA1和第二光学区域DA2之间。这里，第一光学区域DA1的至少一部分可以与第一光学电子装置170a交叠，并且第二光学区域DA2的至少一部分可以与第二光学电子装置170b交叠。

根据图1D的示例，显示区域DA可以包括常规区域NA、第一光学区域DA1和第二光学区域DA2。在图1D的示例中，常规区域NA不设置在第一光学区域DA1和第二光学区域DA2之间。也就是说，第一光学区域DA1和第二光学区域DA2可以彼此接触。这里，第一光学区域DA1的至少一部分可以与第一光学电子装置170a交叠，并且第二光学区域DA2的至少一部分可以与第二光学电子装置170b交叠。

在一个或更多个光学区域DA1和DA2中，需要形成图像显示结构和光透射结构二者。也就是说，一个或更多个光学区域DA1和DA2是显示区域DA的部分区域，因此需要在一个或更多个光学区域DA1和DA2中设置用于显示图像的子像素。在一个或更多个光学区域DA1和DA2中，需要形成将光传输至一个或更多个光学电子装置170、170a和170b的光透射结构。

一个或更多个光学电子装置170、170a和170b是需要接收光的装置，但它们位于显示面板DP的后方(下方，在观看表面的相对侧)，以接收穿过显示面板DP的光。

一个或更多个光学电子装置170、170a和170b没有暴露在显示面板DP的前表面(观看表面)上。因此，当用户观看显示装置100(例如，柔性显示装置100)的前表面时，用户看不到光学电子装置170、170a和170b。

例如，第一光学电子装置170和170a可以是摄像装置，并且第二光学电子装置170b可以是感测传感器，例如接近传感器或照度传感器(illumination sensor)。例如，感测传感器可以是感测红外线的红外传感器。

相反，第一光学电子装置170和170a可以是感测传感器，并且第二光学电子装置170b可以是摄像装置。

在下文中，为了便于描述，将以第一光学电子装置170和170a是摄像装置并且第二光学电子装置170b是感测传感器为例进行描述。这里，摄像装置可以是摄像装置透镜或图像传感器。

当第一光学电子装置170和170a是摄像装置时，摄像装置可以是位于显示面板DP的后方(下方)但捕获显示面板DP的前方方向的前侧摄像装置。因此，用户在观看显示面板DP的观看表面的同时，可以通过从观看表面看不到的摄像装置拍照。

显示区域DA中包括的常规区域NA和一个或更多个光学区域DA1和DA2是可以显示图像的区域。常规区域NA是无需形成光透射结构的区域，而一个或更多个光学区域DA1和DA2是需要形成光透射结构的区域。

因此，一个或更多个光学区域DA1和DA2需要具有预定水平或更高的透射率，而常规区域NA不具有透光性或可以具有低于预定水平的透射率。

例如，一个或更多个光学区域DA1和DA2以及常规区域NA可以具有不同的分辨率、子像素布置结构、每单位面积的子像素数、电极结构、线结构、电极布置结构、线布置结构等。

例如，一个或更多个光学区域DA1和DA2中每单位面积的子像素数可以小于常规区域NA中每单位面积的子像素数。也就是说，一个或更多个光学区域DA1和DA2的分辨率可以低于常规区域NA的分辨率。此时，每单位面积的子像素数是测量分辨率的单位，并且也可以是指示一英寸内的像素数的每英寸像素(PPI)。

例如，第一光学区域DA1中每单位面积的子像素数可以小于常规区域NA中每单位面积的子像素数。第二光学区域DA2中每单位面积的子像素数可以大于第一光学区域DA1中每单位面积的子像素数。

例如，第一光学区域DA1的分辨率小于400PPI，例如200PPI至324PPI，并且常规区域NA的分辨率可以是400PPI或更高。

第一光学区域DA1可以具有各种形状，例如圆形、椭圆形、矩形、六边形或八边形。第二光学区域DA2可以具有各种形状，例如圆形、椭圆形、矩形、六边形或八边形。第一光学区域DA1和第二光学区域DA2可以具有相同的形状或不同的形状。

参照图1C，当第一光学区域DA1和第二光学区域DA2彼此接触时，包括第一光学区域DA1和第二光学区域DA2的整个光学区域可以具有各种形状，例如圆形、椭圆形、矩形、六边形或八边形。

在下文中，为了便于描述，将以第一光学区域DA1和第二光学区域DA2为圆形为例进行描述。

在根据本公开内容的示例性实施方式的显示装置100中，当第一光学电子装置170和170a不暴露于外部并隐藏在显示面板DP下方时，根据本公开内容的示例性实施方式的显示装置100可以被认为是应用了屏下摄像装置(UDC)技术的显示器。

通过这样做，在根据本公开内容的示例性实施方式的显示装置100中，无需在显示面板DP中形成用于暴露摄像装置的凹口或摄像装置孔，因此显示区域DA的面积不会减小。

因此，不需要在显示面板DP中形成凹口或摄像装置孔以用于暴露摄像装置，从而减小了边框区域的尺寸，并且不提供设计限制以增加设计自由度。

在根据本公开内容的示例性实施方式的显示装置100中，尽管一个或更多个光学电子装置170、170a和170b隐藏在显示面板DP的后方，一个或更多个光学电子装置170、170a和170b需要正常接收光以正常执行确定的功能。

在根据本公开内容的示例性实施方式的显示装置100中，尽管一个或更多个光学电子装置170、170a和170b隐藏在显示面板DP后方并与显示区域DA交叠，但在显示区域DA中的与一个或更多个光学电子装置170、170a和170b交叠的一个或更多个光学区域DA1和DA2中，需要正常显示图像。

因此，根据本公开内容的示例性实施方式的显示装置100可以具有提高与光学电子装置170、170a和170b交叠的第一光学区域DA1和第二光学区域DA2的透射率的结构。

图2是根据本公开内容的示例性实施方式的显示装置的系统图。

参照图2，显示装置100可以包括显示面板DP和显示驱动电路，作为用于显示图像的部件。

显示驱动电路是用于驱动显示面板DP的电路，并且可以包括数据驱动电路DDC、栅极驱动电路GDC和显示控制器DCTR。

显示面板DP可以包括显示图像的显示区域DA和不显示图像的非显示区域NDA。非显示区域NDA可以是显示区域DA的外围区域，也可称为边框区域。非显示区域NDA的全部或部分可以是从显示装置100的前表面可见的区域，或者是弯曲以便从显示装置100的前表面看不到的区域。

显示面板DP可以包括基板SUB和设置在基板SUB上的多个子像素SP。此外，显示面板DP还可以包括用于驱动多个子像素SP的各种类型的信号线。

根据本公开内容的示例性实施方式的显示装置100可以是液晶显示装置或其中显示面板DP自身发光的自发光显示装置。当根据本公开内容的示例性实施方式的显示装置100是自发光显示装置时，多个子像素SP中的每个子像素SP可以包括发光二极管。

例如，根据本公开内容的示例性实施方式的显示装置100可以是其中发光二极管由有机发光二极管(OLED)实现的有机发光显示装置。作为另一个示例，根据本公开内容的示例性实施方式的显示装置100可以是其中发光二极管由基于无机材料的发光二极管实现的无机发光显示装置。作为另一个示例，根据本公开内容的示例性实施方式的显示装置100可以是其中发光二极管由作为自发光半导体晶体的量子点实现的量子点显示装置。

多个子像素SP的结构可以根据显示装置100的类型而有所不同。例如，当显示装置100是其中子像素SP自身发光的自发光显示装置时，每个子像素SP可以包括自发光元件、一个或更多个晶体管以及一个或更多个电容器。

例如，各种类型的信号线可以包括传输数据信号(也称为数据电压或图像信号)的多条数据线DL和传输栅极信号(也称为扫描信号)的多条栅极线GL。

多条数据线DL和多条栅极线GL可以彼此交叉。多条数据线DL中的每一条可以设置成沿第一方向延伸。多条栅极线GL中的每一条可设置成沿第二方向延伸。

这里，第一方向可以是列方向，并且第二方向可以是行方向。替选地，第一方向可以是行方向，并且第二方向可以是列方向。

数据驱动电路DDC是用于驱动多条数据线DL的电路，并且可以向多条数据线DL输出数据信号。栅极驱动电路GDC是用于驱动多条栅极线GL的电路，并且可以向多条栅极线GL输出栅极信号。

显示控制器DCTR是用于控制数据驱动电路DDC和栅极驱动电路GDC的装置，并且可以控制对多条数据线DL的驱动定时和对多条栅极线GL的驱动定时。

显示控制器DCTR可以向数据驱动电路DDC提供用于控制数据驱动电路DDC的数据驱动控制信号DCS，并向栅极驱动电路GDC提供用于控制栅极驱动电路GDC的栅极驱动控制信号GCS。

显示控制器DCTR接收来自主机系统HSYS的输入图像数据，以基于输入图像数据向数据驱动电路DDC提供图像数据Data。

数据驱动电路DDC可以根据显示控制器DCTR的驱动定时控制向多条数据线DL提供数据信号。

数据驱动电路DDC可以接收来自显示控制器DCTR的数字图像数据Data，并将接收到的图像数据Data转换为模拟数据信号，以将转换后的数据信号输出至多条数据线DL。

栅极驱动电路GDC可以根据显示控制器DCTR的驱动定时控制向多条栅极线GL提供栅极信号。栅极驱动电路GDC被提供有与导通电平电压相对应的第一栅极电压和与关断电平电压相对应的第二栅极电压以及与各种栅极驱动控制信号GCS，以生成栅极信号，并且可以将生成的栅极信号提供至多条栅极线GL。

栅极驱动电路GDC根据从显示控制器DCTR提供的栅极驱动控制信号GCS向栅极线GL提供栅极信号。栅极驱动电路GDC可以按板内栅极(GIP)的方式设置在显示面板DP的一侧或两侧。

栅极驱动电路GDC在显示控制器DCTR的控制下将栅极信号顺序输出至多条栅极线GL。栅极驱动电路GDC使用移位寄存器对栅极信号进行移位，以按顺序向栅极线GL提供信号。

在有机发光显示装置中，栅极信号可以包括扫描信号SC和发光控制信号EM。扫描信号SC包括在第一栅极电压和第二栅极电压之间摆动的扫描信号脉冲。发光控制信号EM可以包括在第三栅极电压和第四栅极电压之间摆动的发光控制信号脉冲。

扫描脉冲与数据电压Vdata同步，以选择写入数据的行的子像素SP。发光控制信号EM限定子像素SP中的每一个的发光时间。

栅极驱动电路GDC可以包括输出发光控制信号EM的发光控制信号驱动器EDC和输出扫描信号SC的至少一个扫描驱动器SDC。

发光控制信号驱动器EDC响应于来自显示控制器DCTR的起始脉冲和移位时钟而输出发光控制信号EM，并根据移位时钟使发光控制信号脉冲顺序移位。

至少一个扫描驱动器SDC响应于来自显示控制器DCTR的起始脉冲和移位时钟输出扫描信号SC，并根据移位时钟定时使扫描信号脉冲移位。

在以GIP方式设置的栅极驱动电路GDC中，移位寄存器可以对称地设置在显示区域DA的两侧。此外，栅极驱动电路GDC可以配置成使得位于显示区域DA一侧的移位寄存器包括至少一个扫描驱动器SDC和发光控制信号驱动器，并且位于显示区域DA另一侧的移位寄存器可以包括至少一个扫描驱动器SDC。然而，不限于此，根据示例性实施方式，发光控制信号驱动器EDC和至少一个扫描驱动器SDC可以以不同的方式设置。

数据驱动电路DDC可以以带式自动接合(TAB)的方式连接至显示面板DP，或者以玻璃上芯片(COG)或面板上芯片(COP)的方式连接至显示面板DP的接合焊盘，或者可以以膜上芯片(COF)的方式实现以连接至显示面板DP。

栅极驱动电路GDC可以以带式自动接合(TAB)的方式连接至显示面板DP，或者以玻璃上芯片(COG)或面板上芯片(COP)的方式连接至显示面板DP的接合焊盘，或者可以以膜上芯片(COF)的方式实现以连接至显示面板DP。替选地，栅极驱动电路GDC可以作为板内栅极(GIP)类型形成在显示面板DP的非显示区域NDA中。栅极驱动电路GDC可以设置在基板上，或者可以连接至基板。也就是说，当栅极驱动电路GDC为GIP型时，栅极驱动电路可以设置在基板的非显示区域NDA中。当栅极驱动电路GDC是玻璃上芯片(COG)类型或膜上芯片(COF)类型时，栅极驱动电路可以连接至基板。

其中，数据驱动电路DDC和栅极驱动电路GDC中的至少一个可以设置在显示面板DP的显示区域DA中。例如，数据驱动电路DDC和栅极驱动电路GDC中的至少一个可以设置成不与子像素SP交叠，或者设置成部分或全部与子像素SP交叠。

数据驱动电路DDC可以连接至显示面板DP的一侧(例如上侧或下侧)。根据驱动方法或面板设计方法，数据驱动电路DDC可以连接至显示面板DP的两侧(例如上侧和下侧)，或连接至显示面板DP的四个侧表面中的两个或更多个侧。

栅极驱动电路GDC可以连接至显示面板DP的一侧(例如左侧或右侧)。根据驱动方法或面板设计方法，栅极驱动电路GDC可以连接至显示面板DP的两侧(例如左侧和右侧)，或连接至显示面板DP的四个侧表面中的两个或更多个侧。

显示控制器DCTR可以实现为与数据驱动电路DDC分开的部件，或者可以与数据驱动电路DDC集成以实现为集成电路。

显示控制器DCTR可以是用于一般显示技术的定时控制器，或包括定时控制器以进一步执行其他控制功能的控制装置，或与定时控制器不同的控制装置，或控制装置中的电路。显示控制器DCTR可以由各种电路或电子部件(例如，集成电路(IC)、现场可编程门阵列(FPGA)、专用集成电路(ASIC)或处理器)实现。

显示控制器DCTR安装在印刷电路板、柔性印刷电路等中，并可以通过印刷电路板、柔性印刷电路等电连接至数据驱动电路DDC和栅极驱动电路GDC。

显示控制器DCTR可以根据一个或更多个预定接口与数据驱动电路DDC发送和接收信号。这里，例如，接口可以包括低压差分信号(LVDS)接口、嵌入式时钟点对点接口(EPI)、串行外围接口(SPI)等。

根据本公开内容的示例性实施方式的显示装置100可以包括触摸传感器和触摸感测电路，以进一步不仅提供图像显示功能，还提供触摸感测功能。触摸感测电路感测触摸传感器，以检测触摸对象(如手指或笔)是否发生触摸，或检测触摸位置。

触摸感测电路还可以包括：触摸驱动电路260，其驱动和感测触摸传感器以生成和输出触摸感测数据；触摸控制器270，其使用触摸感测数据感测触摸生成或检测触摸位置等。

触摸传感器可以包括多个触摸电极。触摸传感器还可以包括将多个触摸电极和触摸驱动电路260电连接的多条触摸线。

触摸传感器可以作为触摸面板类型设置在显示面板DP的外部，或者可以设置在显示面板DP内。当触摸传感器作为触摸面板类型设置在显示面板DP外部时，触摸传感器被称为外部类型。当触摸传感器为外部类型时，触摸面板和显示面板DP是分开制造的，以便在组装过程中进行组合。外部类型触摸面板可以包括触摸面板的基板、触摸面板的基板上的多个触摸电极等。

当触摸传感器设置在显示面板DP中时，在制造显示面板DP的过程期间，可以在基板SUB上形成触摸传感器以及与显示驱动相关的信号线和电极。

触摸驱动电路260可以向多个触摸电极中的至少一个提供触摸驱动信号，并感测多个触摸电极中的至少一个以生成触摸感测数据。

触摸感测电路可以以自电容感测方式或互电容感测方式执行触摸感测。

当触摸感测电路以自电容感测方式执行触摸感测时，触摸感测电路可以根据每个触摸电极和触摸对象(例如手指或笔)之间的电容执行触摸感测。

根据自电容感测方式，多个触摸电极中的每一个可以用作驱动触摸电极，也可以用作感测触摸电极。触摸驱动电路260可以驱动多个触摸电极中的全部或一些，并感测多个触摸电极中的全部或一些。

当触摸感测电路以互电容感测方式执行触摸感测时，触摸感测电路可以根据触摸电极之间的电容执行触摸感测。

根据互电容感测方式，多个触摸电极分为驱动触摸电极和感测触摸电极。触摸驱动电路260可以对驱动触摸电极进行驱动并对感测触摸电极进行感测。

触摸感测电路中包括的触摸驱动电路260和触摸控制器270可以实现为单独的装置或实现为一个装置。此外，触摸驱动电路260和数据驱动电路DDC可以实现为单独的装置，或者实现为一个装置。

显示装置100还可以包括向显示驱动电路和/或触摸感测电路提供各种电力的电源电路。

根据本公开内容的示例性实施方式的显示装置100可以是诸如智能手机或平板电脑的移动终端，或者可以是具有各种尺寸的监视器或电视TV，但并不限于此，并且可以是表达信息或图像的各种类型或各种尺寸的显示装置。

如上所述，在显示面板DP中，显示区域DA可以包括常规区域NA和一个或更多个光学区域DA1和DA2。

常规区域NA和一个或更多个光学区域DA1和DA2是能够显示图像的区域。然而，常规区域NA是无需形成光透射结构的区域，而一个或更多个光学区域DA1和DA2是需要形成光透射结构的区域。

如上所述，在显示面板DP中，显示区域DA可以包括一个或更多个光学区域DA1和DA2以及常规区域NA，但为了描述方便，也假定显示区域DA包括第一光学区域DA1和第二光学区域DA2二者(图1B和图1C)。

图3是根据本公开内容的示例性实施方式的显示面板中的子像素的等效电路图。

图3示例性地示出了用于描述的像素电路，并且其没有具体限制，只要该结构能够通过施加发光控制信号EM(n)来控制发光二极管(ED)120的发光即可。例如，像素电路可以包括附加的扫描信号、与其连接的开关薄膜晶体管以及被施加附加初始化电压的开关薄膜晶体管。此外，开关元件的连接关系或电容器的连接位置可以以各种方式设置。在下文中，为了便于描述，将描述具有图3的像素电路结构的显示装置。

参照图3，多个子像素SP中的每个子像素SP可以包括具有驱动晶体管Td的像素电路和连接至像素电路的发光二极管(ED)120。

设置在显示面板DP的显示区域DA中包括的常规区域NA、第一光学区域DA1和第二光学区域DA2中的子像素SP中的每个子像素SP可以包括发光二极管(ED)120、驱动晶体管Td、多个扫描晶体管T1至T7和电容器Cst。驱动晶体管Td驱动发光二极管(ED)120，多个扫描晶体管T1至T7操作驱动晶体管Td，并且电容器Cst在一帧内保持预定电压。

像素电路控制发光二极管(ED)120中流动的驱动电流，以驱动发光二极管(ED)120。像素电路可以包括驱动晶体管Td、第一晶体管至第七晶体管T1至T7以及电容器Cst。晶体管Td、T1至T7中的每一个可以包括第一电极、第二电极和栅电极。第一电极和第二电极中的一个可以是源电极，并且第一电极和第二电极中的另一个可以是漏电极。

晶体管Td、T1至T7中的每一个可以是P型薄膜晶体管或N型薄膜晶体管。在图3的示例性实施方式中，第一晶体管T1和第七晶体管T7是N型薄膜晶体管，而其余晶体管Td、T2至T6是P型薄膜晶体管。然而，其并不限于此，根据示例性实施方式，晶体管Td、T1至T7中的全部或一些可以是P型薄膜晶体管或N型薄膜晶体管。此外，N型薄膜晶体管可以是氧化物薄膜晶体管，并且P型薄膜晶体管可以是多晶硅薄膜晶体管。

在下文中，例示了第一晶体管T1和第七晶体管T7是N型薄膜晶体管，并且其余晶体管Td、T2至T6是P型薄膜晶体管。因此，高电压被施加至第一晶体管T1和第七晶体管T7以导通，并且低电压被施加至其余晶体管Td、T2至T6以导通。

根据示例性实施方式，配置像素电路的第一晶体管T1可以用作补偿晶体管，第二晶体管T2可以用作数据提供晶体管，第三晶体管T3和第四晶体管T4可以用作发光控制晶体管，并且第五晶体管T5可以用作偏置晶体管。此外，第六晶体管T6和第七晶体管T7可以用作初始化晶体管。

发光二极管(ED)120可以包括阳极电极和阴极电极。发光二极管(ED)120的阳极电极可以连接至第五节点N5，并且阴极电极可以连接至低电位驱动电压EVSS。

驱动晶体管Td可以包括连接至第二节点N2的第一电极、连接至第三节点N3的第二电极以及连接至第一节点N1的栅电极。驱动晶体管Td可以基于第一节点N1的电压(或存储在将在下文描述的电容器Cst中的数据电压)向发光二极管(ED)120提供驱动电流Id。

第一晶体管T1可以包括连接至第一节点N1的第一电极、连接至第三节点N3的第二电极以及接收第一扫描信号SC1(n)的栅电极。第一晶体管T1响应于第一扫描信号SC1(n)而导通，并以二极管方式连接在第一节点N1和第三节点N3之间，以对驱动晶体管Td的阈值电压Vth进行采样。这样的第一晶体管T1可以是补偿晶体管。

电容器Cst可以连接或形成在第一节点N1和第四节点N4之间。电容器Cst可以存储或保持所提供的高电位驱动电压EVDD。在某些情况下，作为电容器Cst，还可以包括一个或更多个电容器。

第二晶体管T2可以包括连接至数据线DL(或接收数据电压Vdata)的第一电极、连接至第二节点N2的第二电极以及接收第二扫描信号SC2(n)的栅电极。第二晶体管T2可以响应于第二扫描信号SC2(n)导通，并将数据电压Vdata传输至第二节点N2。这样的第二晶体管T2可以是数据提供晶体管。

第三晶体管T3和第四晶体管T4(或第一发光控制晶体管和第二发光控制晶体管)可以连接在高电位驱动电压EVDD和发光二极管(ED)120之间，并形成驱动晶体管Td产生的驱动电流Id移动通过其的电流移动路径。

第三晶体管T3可以包括连接至第四节点N4以接收高电位驱动电压EVDD的第一电极、连接至第二节点N2的第二电极以及接收发光控制信号EM(n)的栅电极。

第四晶体管T4可以包括连接至第三节点N3的第一电极、连接至第五节点N5(或发光二极管(ED)120的阳极电极)的第二电极以及接收发光控制信号EM(n)的栅电极。

第三晶体管T3和第四晶体管T4响应于发光控制信号EM(n)而导通，在这种情况下，驱动电流Id被提供至发光二极管(ED)120，并且发光二极管(ED)120可以发出亮度与驱动电流Id相对应的光。

第五晶体管T5可以包括接收偏置电压Vobs的第一电极、连接至第二节点N2的第二电极以及接收第三扫描信号SC3(n)的栅电极。这样的第五晶体管T5可以是偏置晶体管。

第六晶体管T6可以包括接收第一初始化电压Var的第一电极、连接至第五节点N5的第二电极以及接收第三扫描信号SC3(n)的栅电极。

第六晶体管T6在发光二极管(ED)120发光之前(或在发光二极管(ED)120发光之后)响应于第三扫描信号SC3(n)导通，并且可以使用第一初始化电压Var初始化发光二极管(ED)120的阳极电极(或像素电极)。发光二极管(ED)120可以具有在阳极电极和阴极电极之间形成的寄生电容器。当发光二极管(ED)120发光时，寄生电容器被充电，从而使发光二极管(ED)120的阳极电极具有特定电压。因此，第一初始化电压Var通过第六晶体管T6被施加至发光二极管(ED)120的阳极电极，以初始化发光二极管(ED)120中积累的电荷量。

在本说明书中，第五晶体管T5和第六晶体管T6的栅电极被配置成共同地接收第三扫描信号SC3(n)。然而，本说明书基本并不限于此，并且第五晶体管T5和第六晶体管T6的栅电极可以被配置成接收单独的扫描信号以被独立控制。

第七晶体管T7可以包括接收第二初始化电压Vini的第一电极、连接至第一节点N1的第二电极以及接收第四扫描信号SC4(n)的栅电极。

第七晶体管T7响应于第四扫描信号SC4(n)而导通，并且可以使用第二初始化电压Vini初始化驱动晶体管Td的栅电极。在驱动晶体管Td的栅电极中，由于电容器Cst中存储的高电位驱动电压EVDD，可能会剩余不必要的电荷。因此，第二初始化电压Vini通过第七晶体管T7被施加至驱动晶体管Td的栅电极，以初始化剩余电荷量。

其中，作为用于提高第一光学区域DA1和第二光学区域DA2中至少一个的透射率的一种方法，可以应用如上所述的像素密度差设计方法。根据像素密度差设计方法，显示面板DP可以被设计成使第一光学区域DA1和第二光学区域DA2中至少一个区域的每单位面积的子像素数小于常规区域NA的每单位面积的子像素数。

其中，在某些情况下，相比之下，作为用于提高第一光学区域DA1和第二光学区域DA2中至少一个的透射率的另一种方法，可以应用像素尺寸差设计方法。根据像素尺寸差设计方法，显示面板DP可以被设计成使得第一光学区域DA1和第二光学区域DA2中至少一个的每单位面积的子像素数等于或类似于常规区域NA的每单位面积的子像素数。然而，设置在第一光学区域DA1和第二光学区域DA2中至少一个中的每个子像素SP的尺寸(即，发光区域尺寸)小于设置在常规区域NA中的每个子像素SP的尺寸(即，发光区域尺寸)。

在下文中，为了便于描述，假设应用用于提高第一光学区域DA1和第二光学区域DA2中的至少一个的透射率的两种方法(像素密度差设计方法和像素尺寸差设计方法)中的像素密度差设计方法。

图4是示出根据本公开内容的示例性实施方式的显示面板中的显示区域的子像素的布置的视图。

也就是说，图4示出了根据本公开内容的示例性实施方式的显示面板的显示区域中包括的三个区域NA、DA1和DA2中的子像素SP的布置。

参照图4，可以在包括在显示区域中的常规区域NA、第一光学区域DA1和第二光学区域DA2中的每一个中设置多个子像素SP。

例如，多个子像素SP可以包括发射红光的红色子像素Red SP、发射绿光的绿色子像素Green SP和发射蓝光的蓝色子像素Blue SP。

因此，常规区域NA、第一光学区域DA1和第二光学区域DA2中的每一个可以包括红色子像素Red SP的发光区域EA、绿色子像素Green SP的发光区域EA和蓝色子像素Blue SP的发光区域EA。

参照图4，常规区域NA不包括光透射结构，但可以包括发光区域EA。

然而，第一光学区域DA1和第二光学区域DA2需要不仅包括发光区域EA，而且还包括光透射结构。

因此，第一光学区域DA1可以包括发光区域EA和第一透射区域TA1，以及第二光学区域DA2可以包括发光区域EA和第二透射区域TA2。

发光区域EA与透射区域TA1和TA2可以根据是否透射光来区分。也就是说，发光区域EA可以是光不能透射通过的区域，而透射区域TA1和TA2可以是光可以透射通过的区域。

此外，可以根据是否形成特定金属层来区分发光区域EA与透射区域TA1和TA2。例如，阴极电极可以形成在发光区域EA中，并且阴极电极可以不形成在透射区域TA1和TA2中。此外，遮光层可以形成在发光区域EA中，并且遮光层可以不形成在透射区域TA1和TA2中。

此时，第一光学区域DA1包括第一透射区域TA1，以及第二光学区域DA2包括第二透射区域TA2，使得第一光学区域DA1和第二光学区域DA2为光可以穿过的区域。

此时，第一光学区域DA1的透射率(透射程度)和第二光学区域DA2的透射率(透射程度)可以相等。

在这种情况下，第一光学区域DA1的第一透射区域TA1和第二光学区域DA2的第二透射区域TA2可以具有相同的形状或相同的尺寸。替选地，即使第一光学区域DA1的第一透射区域TA1和第二光学区域DA2的第二透射区域TA2具有不同的形状或尺寸，第一透射区域TA1在第一光学区域DA1中的比率和第二透射区域TA2在第二光学区域DA2中的比率也可以相等。

相反，第一光学区域DA1的透射率(透射程度)和第二光学区域DA2的透射率(透射程度)可以彼此不同。

在这种情况下，第一光学区域DA1的第一透射区域TA1和第二光学区域DA2的第二透射区域TA2可以具有不同的形状或尺寸。替选地，即使第一光学区域DA1的第一透射区域TA1和第二光学区域DA2的第二透射区域TA2具有相同的形状或尺寸，第一透射区域TA1在第一光学区域DA1中的比率和第二透射区域TA2在第二光学区域DA2中的比率也可以不同。

例如，当与第一光学区域DA1交叠的第一光学电子装置是摄像装置并且与第二光学区域DA2交叠的第二光学电子装置是感测传感器时，摄像装置可能需要比感测传感器更多的光量。

因此，第一光学区域DA1的透射率(透射程度)可以比第二光学区域DA2的透射率(透射程度)大。

在这种情况下，第一光学区域DA1的第一透射区域TA1的尺寸可以大于第二光学区域DA2的第二透射区域TA2的尺寸。替选地，即使第一光学区域DA1的第一透射区域TA1和第二光学区域DA2的第二透射区域TA2具有相同的形状或尺寸，第一透射区域TA1在第一光学区域DA1中的比率也可以大于第二透射区域TA2在第二光学区域DA2中的比率。

在下文中，为了便于描述，将描述第一光学区域DA1的透射率(透射程度)大于第二光学区域DA2的透射率(透射程度)的示例。

此外，如图4所示，在本公开内容的示例性实施方式中，透射区域TA1和TA2也可以被称为透明区域，并且透射率也可以被称为透明度。

此外，如图4所示，在本公开内容的示例性实施方式中，假设第一光学区域DA1和第二光学区域DA2位于显示面板的显示区域的上部且彼此在水平方向上并行。

参照图4，第一光学区域DA1和第二光学区域DA2设置在其中的水平显示区域被称为第一水平显示区域HA1。此外，第一光学区域DA1和第二光学区域DA2未被设置在其中的水平显示区域被称为第二水平显示区域HA2。

参照图4，第一水平显示区域HA1可以包括常规区域NA、第一光学区域DA1和第二光学区域DA2。相比之下，第二水平显示区域HA2可以仅包括常规区域NA。

图5A是示例性地示出根据本公开内容的示例性实施方式的显示面板中的第一光学区域和常规区域中的每一个中的信号线的布置的视图。

图5B是示例性地示出根据本公开内容的示例性实施方式的显示面板中的第二光学区域和常规区域中的每一个中的信号线的布置的视图。

也就是说，图5A示出了根据本公开内容的示例性实施方式的显示面板中的第一光学区域DA1和常规区域中的每一个中的信号线的布置。图5B示出了根据本公开内容的示例性实施方式的显示面板中的第二光学区域DA2和常规区域中的每一个中的信号线的布置。

图5A和图5B中所示的第一水平显示区域HA1是显示面板中的第一水平显示区域HA1的一部分，以及第二水平显示区域HA2是显示面板中的第二水平显示区域HA2的一部分。

图5A中所示的第一光学区域DA1是显示面板中的第一光学区域DA1的一部分，以及图5B中所示的第二光学区域DA2是显示面板中的第二光学区域DA2的一部分。

参照图5A和图5B，第一水平显示区域HA1可以包括常规区域、第一光学区域DA1和第二光学区域DA2。第二水平显示区域HA2可以包括常规区域。

在显示面板中，可以设置各种类型的水平线HL1和HL2，并且可以设置各种类型的垂直线VLn、VL1和VL2。

在本公开内容的示例性实施方式中，水平方向和垂直方向是指两个交叉方向，并且水平方向和垂直方向可以根据观看方向而变化。例如，在本公开内容的示例性实施方式中，水平方向是指一条栅极线延伸的方向，以及垂直方向是指一条数据线延伸的方向。如上所述，水平方向和垂直方向被例示。

参照图5A和图5B，设置在显示面板中的水平线可以包括设置在第一水平显示区域HA1中的第一水平线HL1和设置在第二水平显示区域HA2中的第二水平线HL2。

设置在显示面板中的水平线可以是栅极线。也就是说，第一水平线HL1和第二水平线HL2可以是栅极线。栅极线可以根据子像素的结构包括各种类型的栅极线。

参照图5A和图5B，设置在显示面板中的垂直线可以包括仅设置在常规区域中的常规垂直线VLn、穿过第一光学区域DA1和常规区域两者的第一垂直线VL1以及穿过第二光学区域DA2和常规区域两者的第二垂直线VL2。

设置在显示面板中的垂直线可以包括数据线和驱动电压线，并且还可以包括参考电压线和初始化电压线。也就是说，常规垂直线VLn、第一垂直线VL1和第二垂直线VL2不仅可以包括数据线和驱动电压线，还可以包括参考电压线和初始化电压线。

在本公开内容的示例性实施方式中，第二水平线HL2中的术语“水平”意指信号从左侧(或右侧)传输至右侧(或左侧)，但是可以不意指第二水平线HL2仅在准确的水平方向上直线地延伸。也就是说，虽然在图5A和图5B中第二水平线HL2被示为直线，但是第二水平线HL2可以包括弯折部分或弯曲部分。类似地，第一水平线HL1也可以包括弯折部分或弯曲部分。

在本公开内容的示例性实施方式中，常规垂直线VLn中的术语“垂直”意指信号从上侧(或下侧)传输至下侧(或上侧)，但可以不意指常规垂直线VLn仅在准确的垂直方向上直线地延伸。也就是说，虽然在图5A和图5B中常规垂直线VLn被示为直线，但常规垂直线VLn可以包括弯折部分或弯曲部分。类似地，第一垂直线VL1和第二垂直线VL2可以包括弯折部分或弯曲部分。

参照图5A，包括在第一水平显示区域HA1中的第一光学区域DA1可以包括发光区域和第一透射区域。在第一光学区域DA1中，第一透射区域的外部区域可以包括发光区域。

尽管图5A未示出，为了提高第一光学区域DA1的透射率，穿过第一光学区域DA1的第一水平线HL1可以避开第一光学区域DA1中的第一透射区域。

因此，穿过第一光学区域DA1的第一水平线HL1可以包括弯折部分或弯曲部分，该弯折部分或弯曲部分在第一透射区域的外边缘之外绕行。

因此，设置在第一水平显示区域HA1中的第一水平线HL1和设置在第二水平显示区域HA2中的第二水平线HL2可以具有不同的形状或长度。也就是说，穿过第一光学区域DA1的第一水平线HL1和未穿过第一光学区域DA1的第二水平线HL2可以具有不同的形状或长度。

此外，为了提高第一光学区域DA1的透射率，穿过第一光学区域DA1的第一垂直线VL1可以避开第一光学区域DA1中的第一透射区域。

因此，穿过第一光学区域DA1的第一垂直线VL1可以包括弯折部分或弯曲部分，该弯折部分或弯曲部分在第一透射区域的外边缘之外绕行。

因此，穿过第一光学区域DA1的第一垂直线VL1与未穿过第一光学区域DA1且设置在常规区域中的常规垂直线VLn可以具有不同的形状或长度。

参照图5A，在第一水平显示区域HA1中的第一光学区域DA1中包括的第一透射区域可以对角地设置。

参照图5A，在第一水平显示区域HA1中的第一光学区域DA1中，发光区域可以设置在彼此左右相邻的两个第一透射区域之间。在第一水平显示区域HA1中的第一光学区域DA1中，发光区域可以设置在彼此上下相邻的两个第一透射区域之间。

尽管图5A未示出，设置在第一水平显示区域HA1中的第一水平线HL1，即，穿过第一光学区域DA1的第一水平线HL1可以包括在第一透射区域的外边缘之外绕行的弯折部分或弯曲部分中的至少一个。

参照图5B，包括在第一水平显示区域HA1中的第二光学区域DA2可以包括发光区域和第二透射区域TA2。在第二光学区域DA2中，第二透射区域TA2的外部区域可以包括发光区域。

第二光学区域DA2中的发光区域和第二透射区域TA2的位置和布置状态可以与图5A中的第一光学区域DA1中的发光区域和第一透射区域的位置和布置状态相同。

相比之下，如图5B中所示，第二光学区域DA2中的发光区域和第二透射区域TA2的位置和布置状态可以不同于图5A中的第一光学区域DA1中的发光区域和第一透射区域的位置和布置状态。

例如，参照图5B，在第二光学区域DA2中，第二透射区域TA2可以沿水平方向(左右方向)设置。发光区域可以不设置在水平方向(左右方向)上相邻的两个第二透射区域TA2之间。此外，第二光学区域DA2中的发光区域可以设置在垂直方向(上下方向)上相邻的第二透射区域TA2之间。也就是说，发光区域可以设置在两行第二透射区域TA2之间。

当第一水平线HL1穿过第一水平显示区域HA1中的第二光学区域DA2和其周围的常规区域时，第一水平线可以以与图5A中所示的方式相同的方式穿过。

相比之下，如图5B中所示，当第一水平线HL1穿过第一水平显示区域HA1中的第二光学区域DA2和其周围的常规区域时，第一水平线可以以与图5A中所示的方式不同的方式穿过。

也就是说，这是因为图5B的第二光学区域DA2中的发光区域和第二透射区域TA2的位置和布置状态与图5A中的第一光学区域DA1中的发光区域和第二透射区域的位置和布置状态不同。

参照图5B，当第一水平线HL1穿过第一水平显示区域HA1中的第二光学区域DA2和其周围的常规区域时，第一水平线HL1可以在垂直方向上相邻的第二透射区域TA2之间直线穿过，而没有弯折部分或弯曲部分。

换言之，一条第一水平线HL1在第一光学区域DA1中具有弯折部分或弯曲部分，但在第二光学区域DA2中可以不具有弯折部分或弯曲部分。

为了提高第二光学区域DA2的透射率，穿过第二光学区域DA2的第二垂直线VL2可以避开第二光学区域DA2中的第二透射区域TA2。

因此，穿过第二光学区域DA2的第二垂直线VL2可以包括弯折部分或弯曲部分，该弯折部分或弯曲部分在第二透射区域TA2的外边缘之外绕行。

因此，穿过第二光学区域DA2的第二垂直线VL2和未穿过第二光学区域DA2且设置在常规区域中的常规垂直线VLn可以具有不同的形状或长度。

尽管图5A中未示出，穿过第一光学区域DA1的第一水平线HL1可以具有在第一透射区域的外边缘之外绕行的弯折部分或弯曲部分。

因此，穿过第一光学区域DA1和第二光学区域DA2的第一水平线HL1的长度可以比仅设置在常规区域中而不穿过第一光学区域DA1和第二光学区域DA2的第二水平线HL2的长度略长。

因此，穿过第一光学区域DA1和第二光学区域DA2的第一水平线HL1的电阻可以比仅设置在常规区域中而不穿过第一光学区域DA1和第二光学区域DA2的第二水平线HL2的电阻略大。在下文中，第一水平线HL1的电阻也被称为第一电阻，以及第二水平线HL2的电阻也被称为第二电阻。

参照图4、图5A和图5B，根据光透射结构，至少部分地与第一光学电子装置交叠的第一光学区域DA1包括多个第一透射区域TA1。至少部分地与第二光学电子装置交叠的第二光学区域DA2包括多个第二透射区域TA2。因此，第一光学区域DA1和第二光学区域DA2的每单位面积的子像素数可以小于常规区域的子像素数。

因此，连接至穿过第一光学区域DA1和第二光学区域DA2的第一水平线HL1的子像素数可以与连接至仅设置在常规区域中而不穿过第一光学区域DA1和第二光学区域DA2的第二水平线HL2的子像素数不同。

连接至穿过第一光学区域DA1和第二光学区域DA2的第一水平线HL1的子像素数(第一数目)可以小于连接至仅设置在常规区域中而不穿过第一光学区域DA1和第二光学区域DA2的第二水平线HL2的子像素数(第二数目)。

第一数目与第二数目之间的差可以根据第一光学区域DA1和第二光学区域DA2中每一个的分辨率与常规区域的分辨率之间的差而变化。例如，第一光学区域DA1和第二光学区域DA2中每一个的分辨率与常规区域的分辨率之间的差越大，第一数目和第二数目之间的差越大。

如上所述，连接至穿过第一光学区域DA1和第二光学区域DA2的第一水平线HL1的子像素数(第一数目)小于连接至仅设置在常规区域中而不穿过第一光学区域DA1和第二光学区域DA2的第二水平线HL2的子像素数(第二数目)。因此，第一水平线HL1的与其他周围电极或线交叠的区域可以比第二水平线HL2的与其他周围电极或线交叠的区域小。

因此，由第一水平线HL1和其他周围电极或线形成的寄生电容(以下称为第一电容)可以比由第二水平线HL2和其他周围电极和线形成的寄生电容(以下称为第二电容)小得多。

考虑到第一电阻与第二电阻的幅值关系(第一电阻≥第二电阻)以及第一电容与第二电容的幅值关系(第一电容《第二电容)，穿过第一光学区域DA1和第二光学区域DA2的第一水平线HL1的电阻-电容(RC)值(以下称为第一RC值)可以比仅设置在常规区域中而不穿过第一光学区域DA1和第二光学区域DA2的第二水平线HL2的RC值(以下称为第二RC值)小得多(第一RC值《第二RC值)。

通过第一水平线HL1的信号传输特性和通过第二水平线HL2的信号传输特性可以由于第一水平线HL1的第一RC值与第二水平线HL2的第二RC值之间的差(以下称为RC负载偏差)而变化。

在下文中，将一并参照图6至图8更详细地描述显示装置100的常规区域NA。

图6是放大图1A至图1D的显示装置的常规区域NA的示意性平面图。图7是沿图6的线VII-VII’截取的示意性截面图。图8是沿图1A的线VIII-VIII'截取的示意性截面图。

在图6中，为了便于描述，仅示出了多个子像素SP和多个触摸电极。

多个子像素SP可以被包括在常规区域NA中。多个子像素SP是配置屏幕的最小单元，并且可以包括多个发光二极管(ED)120，以便与多个子像素SP相对应。也就是说，在多个子像素SP中，发光二极管(ED)120中的每一个可以被设置成与其相对应，使得多个子像素SP也可以被表示为多个发光二极管(ED)120。多个子像素SP可以发射具有不同波长的光。例如，多个子像素SP可以包括红色子像素SPR、绿色子像素SPG和蓝色子像素SPB。然而，不限于此，并且多个子像素SP还可以包括白色子像素。

在常规区域NA中，具有彼此交叉的网格图案的触摸电极140可以设置在多个子像素SP之间。因此，可以在设置在常规区域中的多个子像素SP的顶表面上感测用户的触摸输入。

在下文中，将一并参照图7和图8更详细地描述显示装置100的常规区域NA的截面结构。

在常规区域NA中，晶体管层TRL可以设置在基板SUB上方，并且平坦化层PLN可以设置在晶体管层TRL上方。此外，发光二极管层EDL可以设置在平坦化层PLN上方，封装单元ENCAP可以设置在发光二极管层EDL上方，触摸感测层TSL可以设置在封装单元ENCAP上方，并且钝化层PAC可以设置在触摸感测层TSL上方。此外，有机层PCL可以设置在钝化层PAC上方，并且偏振层POL可以设置在有机层PCL上方。

基板SUB是用于支承包括在显示装置100中的各种部件的部件，并且可以由绝缘材料形成。基板SUB可以包括第一基板110a、第二基板110b和层间绝缘层110c。层间绝缘层110c可以设置在第一基板110a与第二基板110b之间。如上所述，基板SUB由第一基板110a、第二基板110b以及层间绝缘层110c配置以抑制湿气渗透。例如，第一基板110a和第二基板110b可以是聚酰亚胺(PI)基板。

在常规区域NA中，可以在晶体管层TRL上设置用于形成晶体管(诸如驱动晶体管Td和至少一个开关晶体管Ts)和至少一个电容器的各种图案131、132、133、134、231、232、233和234，各种绝缘层111a、111b、112、113a、113b和114，以及各种金属图案TM、GM和135。

在下文中，将更详细地描述晶体管层TRL的层压结构。

多缓冲层111a可以设置在第二基板110b上，并且有源缓冲层111b可以设置在多缓冲层111a上。

金属层135可以设置在多缓冲层111a上。

这里，金属层135可以用作遮光件，并且也可以被称为遮光层。

有源缓冲层111b可以设置在金属层135上。

驱动晶体管Td的第一有源层134可以设置在有源缓冲层111b上。例如，第一有源层134可以由多晶硅(p-Si)、非晶硅(a-Si)或氧化物半导体形成，但不限于此。其中，驱动晶体管Td可以包括第一有源层134、第一栅极绝缘层112、第一栅电极131、第一层间绝缘层113a、第二层间绝缘层113b、第二栅极绝缘层113c以及第一源电极132和第一漏电极133。第一有源层134形成在有源缓冲层111b上，第一栅极绝缘层112覆盖第一有源层134，第一栅电极131设置在第一栅极绝缘层112上，第一层间绝缘层113a覆盖第一栅电极131。第二层间绝缘层113b设置在第一层间绝缘层113a上，第二栅极绝缘层113c设置在第二层间绝缘层113b上，并且第一源电极132和第一漏电极133设置在第二栅极绝缘层113c上。

可以在第一有源层134上设置第一栅极绝缘层112。第一栅极绝缘层112可以由硅氧化物SiOx、硅氮化物SiNx或它们的双层形成。

此外，驱动晶体管Td的第一栅电极131可以设置在第一栅极绝缘层112上。第一栅电极131设置在第一栅极绝缘层112上以与第一有源层134交叠。第一栅电极131可以由各种导电材料、例如镁(Mg)、铝(Al)、镍(Ni)、铬(Cr)、钼(Mo)、钨(W)、金(Au)或它们的合金形成，但不限于此。

栅极材料层GM可以设置在第一栅极绝缘层112上且在与驱动晶体管Td的形成位置不同的位置。

第一层间绝缘层113a可以设置在第一栅电极131和栅极材料层GM上。金属图案TM可以设置在第一层间绝缘层113a上。第二层间绝缘层113b可以被设置成覆盖设置在第一层间绝缘层113a上的金属图案TM。

第二层间绝缘层113b将第二有源层234与第一有源层134分开，并提供用于形成第二有源层234的基底。

开关晶体管Ts的第二有源层234可以设置在第二层间绝缘层113b上。例如，第二有源层234可以由多晶硅(p-Si)、非晶硅(a-Si)或氧化物半导体形成，但不限于此。

可以在第二有源层234上设置第二栅极绝缘层113c。此外，开关晶体管Ts的第二栅电极231可以设置在第二栅极绝缘层113c上。第二栅电极231设置在第二栅极绝缘层113c上以与第二有源层234交叠。

第二栅极绝缘层113c覆盖开关晶体管Ts的第二有源层234。第二栅极绝缘层113c形成在第二有源层234上，使得第二栅极绝缘层由无机膜实现。例如，第二栅极绝缘层113c可以是硅氧化物SiO₂、硅氮化物SiNx或它们的双层。

第二栅电极231由金属材料配置。例如，第二栅电极231可以通过由钼(Mo)、铝(Al)、铬(Cr)、金(Au)、钛(Ti)、镍(Ni)、钕(Nd)和铜(Cu)中的任何一种或其合金形成的单层或多层形成，但不限于此。

其中，开关晶体管Ts形成在第二层间绝缘层113b上，并且包括第二有源层234、覆盖第二有源层234的第二栅极绝缘层113c、设置在第二栅极绝缘层113c上的第二栅极电极231、覆盖第二栅电极231的第三层间绝缘层113d以及设置在第三层间绝缘层113d上的第二源电极232和第二漏电极233。

开关晶体管Ts还包括栅极材料层GM，其位于第一层间绝缘层113a下方并且与第二有源层234交叠。栅极材料层GM阻挡入射到第二有源层234上的光，以保证开关晶体管Ts的可靠性。栅极材料层GM可以由与第一栅电极131相同的材料形成，并且可以形成在第一栅极绝缘层112的上表面上。栅极材料层GM电连接至第二栅电极231以配置双栅极。驱动晶体管Td的第一源电极132和第一漏电极133以及开关晶体管Ts的第二源电极232和第二漏电极233可以设置在第三层间绝缘层113d上。

第二源电极232和第二漏电极233同时由与第一源电极132和第一漏电极133相同的材料形成在第三层间绝缘层113d上，以减少掩膜处理的数目。

第一源电极132和第一漏电极133可以分别通过形成在第三层间绝缘层113d、第二栅极绝缘层113c、第二层间绝缘层113b、第一层间绝缘层113a和第一栅极绝缘层112中的接触孔连接至第一有源层134的一侧和另一侧。

第二源电极232和第二漏电极233可以分别通过形成在第三层间绝缘层113d和第二栅极绝缘层113c中的接触孔连接至第二有源层234的一侧和另一侧。

第一源电极132和第一漏电极133以及第二源电极232和第二漏电极233可以是由各种导电材料、例如镁(Mg)、铝(Al)、镍(Ni)、铬(Cr)、钼(Mo)、钨(W)、金(Au)或其合金形成的单层或多层，但不限于此。

第一有源层134的与第一栅电极131交叠的部分为沟道区域。第一源电极132和第一漏电极133中的一个连接至第一有源层134中的沟道区域的一侧，并且另一个连接至第一有源层134中的沟道区域的另一侧。

第二有源层234可以被配置成具有与第一有源层134相同的形状。当第二有源层234通过氧化物半导体材料实现时，第二有源层234可以包括未掺杂有杂质的本征第二沟道区域，以及掺杂有杂质以导电的第二源极区域和第二漏极区域。

可以在第一源电极132、第一漏电极133、第二源电极232和第二漏电极233上设置钝化层114。钝化层114被提供以保护驱动晶体管Td，并且可以由例如硅氧化物SiOx、硅氮化物SiNx或它们的双层的无机膜形成。

其中，栅极材料层GM和金属图案TM设置在第一栅极绝缘层112上以交叠，从而实现电容器Cst。例如，金属图案TM可以是由钼(Mo)、铝(Al)、铬(Cr)、金(Au)、钛(Ti)、镍(Ni)、钕(Nd)和铜(Cu)中的任一种或其合金形成的单层或多层。

电容器Cst在预定时段内存储通过数据线DL施加的数据电压，并且然后将数据电压提供至发光二极管(ED)120。电容器Cst包括两个相对应的电极和设置在其间的介电材料。第一层间绝缘层113a位于栅极材料层GM与金属图案TM之间。

电容器Cst的栅极材料层GM或金属图案TM可以电连接至开关晶体管Ts的第二源电极232或第二漏电极233。然而，其不限于此，并且电容器Cst的连接关系可以根据像素驱动电路而改变。

此外，金属层135设置在多缓冲层111a上，以进一步与栅极材料层GM和金属图案TM交叠以配置双电容器Cst。

在本说明书的示例性实施方式中，至少一个开关晶体管Ts使用氧化物半导体作为有源层。使用氧化物半导体作为有源层的晶体管具有优异的漏电流阻挡作用，并且具有比使用多晶硅作为有源层的晶体管的制造成本更低廉的制造成本。因此，为了减少功耗并降低制造成本，根据本说明书的示例性实施方式的像素电路包括使用氧化物半导体材料的驱动晶体管或至少一个开关晶体管。

配置包括驱动晶体管的像素电路的所有晶体管可以使用氧化物半导体来实现有源层，或者仅晶体管中的一些可以使用氧化物半导体来实现有源层。

然而，使用氧化物半导体的晶体管难以确保可靠性，并且使用多晶硅的晶体管具有更快的操作速度和优异的可靠性。因此，本说明书的示例性实施方式包括使用氧化物半导体的晶体管和使用多晶硅的晶体管。然而，其不限于此，并且根据该设计，仅采用使用氧化物半导体的晶体管，或者仅采用使用多晶硅的晶体管来配置像素电路。

平坦化层PLN可以位于晶体管层TRL的上方。

平坦化层PLN可以包括第一平坦化层115a和第二平坦化层115b。平坦化层PLN保护驱动晶体管Td并且将驱动晶体管的上部平坦化。

第一平坦化层115a可以设置在钝化层114上。

连接电极125可以设置在第一平坦化层115a上。

连接电极125可以通过设置在第一平坦化层115a中的接触孔连接至第一源电极132和第一漏电极133中的一个。

第二平坦化层115b可以设置在连接电极125上。

发光二极管层EDL可以位于第二平坦化层115b上方。

在下文中，将详细描述发光二极管层EDL的层压结构。

阳极121可以设置在第二平坦化层115b上。此时，阳极121可以通过设置在第二平坦化层115b中的接触孔电连接至连接电极125。阳极121可以由金属材料形成。

当显示装置100是其中从发光二极管(ED)120发射的光在设置有发光二极管(ED)120的基板SUB上方发射的顶部发光型时，阳极121还可以包括透明导电层和在透明导电层上的反射层。透明导电层可以由诸如ITO或IZO的透明导电氧化物形成，以及反射层可以由例如银(Ag)、铝(Al)、金(Au)、钼(Mo)、钨(W)、铬(Cr)或它们的合金形成。

堤部116可以被设置成覆盖阳极121。堤部116的与子像素的发光区域相对应的部分可以开口。阳极121的一部分可以通过堤部116的开口部分(在下文中被称为开口区域)暴露。此时，堤部116可以由例如硅氮化物(SiNx)或硅氧化物(SiOx)的无机绝缘材料或者例如苯并环丁烯树脂、丙烯酸树脂或酰亚胺树脂的有机绝缘材料形成，但不限于此。

尽管未示出，但间隔件可以在堤部116上形成。间隔件可以被配置为具有与堤部116相同的材料。

发光层122可以设置在堤部116的开口区域中和堤部的开口区域附近。因此，发光层122可以设置在通过堤部116的开口区域暴露的阳极121上。

阴极123可以设置在发光层122上。

发光二极管(ED)120可以由阳极121、发光层122和阴极123形成。发光层122可以包括多个有机膜。

封装单元ENCAP可以位于上述发光二极管层EDL上方。

封装单元ENCAP可以具有单层结构或多层结构。例如，封装单元ENCAP可以包括第一封装层117a、第二封装层117b和第三封装层117c。

此时，第一封装层117a和第三封装层117c可以由无机膜配置，并且第二封装层117b可以由有机膜配置。在第一封装层117a、第二封装层117b和第三封装层117c中，第二封装层117b最厚并且可以用作平坦化层。

第一封装层117a可以设置在阴极123上并且可以设置成最靠近发光二极管(ED)120。第一封装层117a可以由可以对其执行低温沉积的无机绝缘材料形成。例如，第一封装层117a可以由硅氮化物SiNx、硅氧化物SiOx、氮氧化硅SiON或铝氧化物Al₂O₃配置。在低温气氛下沉积第一封装层117a，使得在沉积处理期间，可以抑制包括易受高温气氛影响的有机材料的发光层122的损坏。

第二封装层117b可以形成为具有比第一封装层117a的面积小的面积。在这种情况下，第二封装层117b可以形成为暴露第一封装层117a的两端。第二封装层117b可以用作缓冲器，以减轻由于柔性显示装置的弯折引起的层之间的应力，并且增强平坦化性能。

例如，第二封装层117b可以由诸如丙烯酸树脂、环氧树脂、聚酰亚胺、聚乙烯或碳氧化硅(SiOC)的有机绝缘材料形成。例如，第二封装层117b可以通过喷墨方法形成，但不限于此。

尽管未示出，但可以在封装单元ENCAP上设置滤色器。

一并参照图8，可以在非显示区域NDA中设置第一坝部DAM1，其阻挡配置封装单元ENCAP的第二封装层117b的流。为了抑制封装单元ENCAP的塌陷，可以在封装单元ENCAP的倾斜表面的端部处或在其附近设置一个或更多个第一坝部DAM1。一个或更多个第一坝部DAM1可以设置在显示区域DA和非显示区域NDA的边界处或边界附近。第一坝部DAM1可以通过由有机材料形成的至少一个或更多个层形成。例如，第一坝部DAM1可以包括由与第二平坦化层115b相同的材料形成在与第二平坦化层115b相同的层上的下层和由与堤部116相同的材料形成在与堤部116相同的层上的上层，但不限于此。此外，第一坝部DAM1的高度还可以通过在第一坝部DAM1的上层上添加由与间隔件相同的材料形成的层来进一步控制，但不限于此。

包括有机材料的第二封装层117b可以仅位于第一坝部DAM1的最内侧坝部的内侧表面上。也就是说，第二封装层117b可以不设置在所有坝部的上部上。相反，包括有机材料的第二封装层117b可以位于第一坝部DAM1的至少最内侧坝部上方。也就是说，第二封装层117b可以被定位成延伸至第一坝部DAM1的最内侧坝部的上部。替选地，第二封装层117b可以被定位成通过穿过第一坝部DAM1的至少最内侧坝部的上部而延伸至位于第一坝部DAM1的外侧的坝部的上部。

第三封装层117c可以形成在其上形成有第二封装层117b的基板SUB的上方，以分别覆盖第二封装层117b和第一封装层117a的上表面和侧表面。此时，第三封装层117c可以最小化或阻挡外部湿气或氧渗透到第二封装层117b和第一封装层117a中。例如，第三封装层117c可以由无机绝缘材料配置，例如，硅氮化物SiNx、硅氧化物SiOx、氮氧化硅SiON或铝氧化物Al₂O₃。

触摸感测层TSL可以设置在上述封装单元ENCAP上方。

触摸缓冲层118a可以设置在封装单元ENCAP上方，并且触摸电极140可以设置在触摸缓冲层118a上。

触摸电极140可以包括位于不同层上的触摸传感器电极141和桥电极142。触摸层间绝缘层118b可以设置在触摸传感器电极141和桥电极142之间。

例如，触摸传感器电极141可以包括被设置成彼此相邻的第一触摸传感器电极、第二触摸传感器电极和第三触摸传感器电极。例如，第一触摸传感器电极和第二触摸传感器电极设置在第一方向上，并且第三触摸传感器电极可以设置在与第一触摸传感器电极和第二触摸传感器电极相交的第二方向上。第一触摸传感器电极和第二触摸传感器电极电连接。然而，当设置在与第一方向相交的第二方向上的第三触摸传感器电极位于设置在第一方向上的第一触摸传感器电极和第二触摸传感器电极之间时，第一触摸传感器电极和第二触摸传感器电极可以通过不同层上的桥电极142电连接。桥电极142可以通过触摸层间绝缘层118b与第三触摸传感器电极绝缘。

换言之，为了抑制沿第一方向和第二方向设置的多个触摸电极的断开，在相交区域，沿第一方向延伸的多个触摸电极可以通过桥电极142电连接。

当形成触摸电极140时，可以生成用于处理的化学溶液(例如，显影剂或蚀刻剂)或来自外部的湿气。设置触摸缓冲层118a，并且在其上设置触摸电极140，以抑制在制作触摸电极140期间生成的化学溶液或湿气渗透到包括有机材料的发光层122中。通过这样做，触摸缓冲层118a可以抑制易受化学溶液或湿气影响的发光层122的损坏。

触摸缓冲层118a可以由能够在预定温度(例如，100℃)或更低的低温下形成的有机绝缘材料形成，以抑制包括易受高温影响的有机材料的发光层122的损坏。有机绝缘材料具有1至3的低介电常数。例如，触摸缓冲层118a可以由丙烯酸、环氧树脂或基于硅氧烷的材料形成。当柔性显示装置被弯折时，封装单元ENCAP可能被损坏，并且设置在触摸缓冲层118a上方的触摸传感器电极141可能被破坏。即使柔性显示装置被弯折，由有机绝缘材料配置以具有平坦化性能的触摸缓冲层118a也可以抑制封装单元ENCAP的损坏以及配置多个触摸电极140的触摸传感器电极141和桥电极142的破坏。

钝化层(PAC)119可以被设置成覆盖多个触摸电极140。钝化层119可以由有机绝缘层配置。

有机层(PCL)150被设置成覆盖钝化层119。

当仅由有机绝缘膜形成的钝化层119设置在显示装置100的最上层上时，仅通过钝化层119无法完全补充由设置在钝化层119下方的触摸感测层TSL引起的台阶。因此，可能存在由多个触摸电极140引起的污点对用户可见的问题。

在钝化层119的上方添加由有机绝缘膜形成的有机层150，以抑制显示装置100的最上层的台阶，从而提高显示装置100的可视性。

有机层150可以由与封装单元ENCAP的第二封装层117b相同的材料形成，并且例如可以由诸如丙烯酸树脂、环氧树脂、聚酰亚胺、聚乙烯或碳氧化硅(SiOC)的有机绝缘材料形成。有机层150可以通过喷墨方法形成，但不限于此。

一并参照图8，第二坝部DAM2还可以设置在非显示区域NDA中设置的第一坝部DAM1的外周处。例如，第二坝部DAM2可以由与钝化层119相同的材料形成在与钝化层119相同的层上。第二坝部DAM2的高度可以大于第一坝部DAM1的高度，并且阻挡有机层150流至设置在非显示区域NDA中的焊盘。

偏振层(POL)160设置在有机层150上。

偏振层160抑制外部光在基板SUB的显示区域DA上的反射。当在外面使用显示装置100时，外部自然光进入以被包括在发光二极管的阳极121中的反射层反射，或者被由金属形成且设置在发光二极管(ED)120下方的电极反射。因此，显示装置100的图像可能由于如上所述那样被反射的光而不能被可见地识别。偏振层160使从外部进入的光向特定方向上偏振，并且抑制反射光发射至显示装置100的外部。

尽管未示出，但是盖玻璃可以通过粘合剂层接合至偏振层160上。粘合剂层可以用于将显示装置100的相应部件彼此粘合，并且例如，可以使用诸如压敏粘合剂、光学透明粘合剂或光学透明树脂(OCR)的光学透明显示粘合剂来形成，但不限于此。

盖玻璃可以保护显示装置100的部件免受外部影响，并且抑制诸如划痕的损坏。

在下文中，将一并参照图9和图10更详细地描述显示装置100的第一光学区域DA1。

图9是放大图1A的显示装置的第一光学区域DA1的示意性平面图。图10是沿图9的线X-X'截取的示意性截面图。

在图9中，为了便于描述，仅示出了多个透射区域、多个子像素和多个触摸电极。

一并参照图9和图10，第一光学区域DA1可以包括多个透射区域TA和包围多个透射区域的多个子像素SP。

第一光学区域DA1透射区域TA和包围透射区域TA的多个子像素SP中的全部可以基本上包括基板SUB、晶体管层TRL、平坦化层PLN、发光二极管层EDL、封装单元ENCAP、触摸感测层TSL、钝化层PAC、有机层PCL和偏振层POL。

包括在第一光学区域DA1中的基板SUB、晶体管层TRL、平坦化层PLN、发光二极管层EDL、封装单元ENCAP、触摸感测层TSL、钝化层PAC、有机层PCL和偏振层POL与在显示面板DP的常规区域NA中设置的具有相同附图标记的部件基本相同。因此，将省略多余的描述。

首先，将描述设置在第一光学区域DA1中的透射区域TA。

第一光学区域DA1的透射区域TA是指其中阴极123使堤部116暴露的区域。例如，多个透射区域TA是诸如阴极123的不透明配置被去除以允许外部光传播到光学电子装置170的区域。

具体地，在第一光学区域DA1的一个子像素SPG1中设置的基板SUB和各种绝缘层111a、111b、112、113a、113b、114、115a、115b、117a、117b、117c和PAC也可以以相同的方式设置在第一光学区域DA1的透射区域TA中。

然而，在第一光学区域DA1的透射区域TA中可以不设置除了第一光学区域DA1的一个子像素SPG1区域中的绝缘材料之外的、具有电特性或不透明特性的材料层(例如，金属材料层或半导体层)。

例如，包括在发光二极管(ED)120中的阴极123以及与晶体管相关的金属材料层135、131、GM、TM、132、133和125和半导体层134不设置在透射区域TA中。此外，包括在发光二极管(ED)120中的阳极121可以不设置在透射区域TA中。发光层122可以设置在透射区域TA中，或者可以不设置在透射区域中。此外，虽然多个触摸电极不设置在透射区域TA中，但本公开内容并不限于此。

也就是说，第一光学区域的透射区域TA与光学电子装置170交叠，使得为了光学电子装置170的正常操作的目的，不在透射区域TA中设置诸如金属电极的不透明部件，以增加透射区域TA的透射率。

接下来，将描述设置有包围多个透射区域TA的多个子像素SP中的设置在第一光学区域DA1中的且与一个透射区域TA相邻的一个子像素SPG1的区域。

第一光学区域DA1中设置有与一个透射区域TA相邻的一个子像素SPG1的区域具有与除了包括多个触摸电极的触摸感测层TSL之外的显示面板DP的常规区域NA的结构基本上相同的结构，因而将省略多余的描述。

包围多个透射区域TA的多个子像素SP中的每一个可以包括发光二极管(ED)120和驱动电路。也就是说，在多个子像素SP中，发光二极管(ED)120中的每一个可以被设置成与其相对应，使得多个子像素SP也可以被表示为多个发光二极管(ED)120。

在相关技术中，当在第一光学区域中设置多个透射区域和多个子像素时，设置多个触摸电极以在多个子像素之间相交。设置在多个子像素之间的多个交叉触摸电极仅避开了多个透射区域。也就是说，在相关技术中，与多个透射区域相交的多个触摸电极彼此非常靠近。然而，在这种情况下，多个触摸电极设置在第一光学区域的多个子像素之间，使得触摸线阻挡多个子像素以降低发光特性。此外，多个透射区域与多个触摸电极之间的间隔小，使得易受多个透射区域中的触摸噪声的影响。

因此，在根据本公开内容的示例性实施方式的显示装置100中，设置在第一光学区域DA1中的多个子像素SP被分组为包围多个透射区域TA的多个子像素组PG。在第一光学区域DA1中，多个触摸电极140被设置成具有包围多个透射区域TA中的一个透射区域TA和多个子像素组PG中的一个子像素组PG的闭合曲线形状。换言之，一个透射区域TA和一个子像素组PG可以被配置为一个组G。

例如，包围多个透射区域TA的多个子像素组PG可以包括红色子像素SPR、第一绿色子像素SPG1、蓝色子像素SPB和第二绿色子像素SPG2。

设置在第一光学区域DA1中的多个触摸电极140可以具有包括“x”形状或“+”形状网格图案的闭合曲线形状，以便包围多个透射区域中的一个透射区域TA和多个子像素组中的一个子像素组PG，即，一个组G。

在第一光学区域DA1中，在多个透射区域TA中的一个透射区域TA与多个子像素组PG中的一个子像素组PG之间，即，在一个组G中，不在透射区域TA与多个子像素SP之间设置触摸电极140。因此，可以改善透射区域TA中的子像素SP阻挡现象，从而可以改善显示装置100的视亮度因数。

尽管在图9中示出了透射区域TA具有圆形形状，但是透射区域TA的形状不受限制，只要与多个触摸电极140的接触被最小化即可。例如，透射区域的形状可以是各种形状，例如圆形、三角形、椭圆形、矩形或多边形。

此外，当触摸电极140被设置成包围一个组G时，触摸电极与多个透射区域TA间隔开预定间隔或更多。因此，可以减少当多个透射区域TA与多个触摸电极140靠近时可能引起的触摸噪声问题。

然而，参照图9，即使将触摸电极140设置成包围一个组G，在第一光学区域DA1中也可能存在其中多个透射区域TA与多个触摸电极140靠近的区域Y。

在其中第一光学区域DA1的多个透射区域TA与多个触摸电极140靠近的区域Y中，可能生成触摸噪声。为了解决该问题，当多个透射区域TA被减少时，第一光学区域DA1中的透射率被降低，使得光学电子装置170(诸如摄像装置或传感器)的操作可能被限制。

因此，在根据本公开内容的示例性实施方式的显示装置100中，多个透射区域TA确保透射率以允许光学电子装置170正常操作，并且多个屏蔽图案145设置在封装单元ENCAP与多个触摸电极140之间，以屏蔽当多个透射区域TA与多个触摸电极140靠近时产生的触摸噪声。

例如，多个屏蔽图案145接地，以更有效地屏蔽当多个透射区域TA与多个触摸电极140靠近时产生的触摸噪声。具体地，多个屏蔽图案145连接至被施加接地电压的接地线GND以被施加接地电压。因此，多个屏蔽图案145可以用作在触摸驱动期间阻挡触摸噪声的接地，这将参照图11A至图11D进行详细描述。

多个屏蔽图案145可以被设置成在透射区域TA和与透射区域TA相邻的一个子像素SP的边界区域中与多个触摸电极140交叠。

因此，当透射区域TA与多个触摸电极140靠近时可能生成的触摸噪声信号被多个屏蔽图案145所屏蔽，以抑制显示装置100的触摸噪声。

多个屏蔽图案145可以通过与设置在常规区域NA中的桥电极142相同的材料设置在与设置在常规区域NA中的桥电极142相同的层上。

因此，当形成多个屏蔽图案145时，可以使用与桥电极142相同的掩模来形成多个屏蔽图案145，而不应用附加的掩模，从而可以减少处理步骤并且可以节省成本。

多个屏蔽图案145的宽度可以等于或大于多个触摸电极140的宽度。当多个屏蔽图案145的宽度大于多个触摸电极140的宽度时，可以进一步提升多个屏蔽图案145的触摸噪声屏蔽效果。例如，多个屏蔽图案145中的每个屏蔽图案145的宽度可以大于多个触摸电极140中的与该屏蔽图案145交叠的触摸电极140的宽度。

在下文中，将一并参照图11A至图11D更详细地描述多个屏蔽图案145的接地。

图11A是示出图1A的区域X的示意性平面图。图11B是示出图11A的区域A的示意性平面图。图11C是示出图11A的区域B的示意性平面图。图11D是沿图11C中的线XI-XI’截取的截面图。

一并参照图11A和图11B，设置在非显示区域NDA中的接地线GND可以通过连接线CL延伸至与常规区域NA和第一光学区域DA1交叠的光学电子装置170。

具体地，接地线GND从非显示区域NDA延伸以电连接至连接线CL。

此时，接地线GND设置在与多个触摸电极140(例如，触摸传感器电极141)相同的层上且由与多个触摸电极140(例如，触摸传感器电极141)相同的材料形成，以及连接线CL可以设置在与接地线GND相同的层上且由与接地线GND相同的材料形成。

换言之，连接线CL电连接至设置在非显示区域NDA中的接地线GND且可以从接地线GND分支。

在下文中，将参照图11C和图11D来描述第一光学区域DA1和常规区域NA的连接区域B中的接地线GND的连接。

在常规区域NA中，接地线GND形成在与多个触摸电极140相同的层上，并且从接地线GND分支的连接线CL连接至与第一光学区域DA1交叠的光学电子装置170。

从接地线GND分支的连接线CL可以通过第一光学区域DA1和常规区域NA之间的边界(即，设置在连接区域(区域B)中的接触孔CH)与设置在第一光学区域DA1中的多个屏蔽图案145接触。

因此，设置在非显示区域NDA中的接地线GND电连接至设置在第一光学区域DA1中的多个屏蔽图案145以被施加接地电压。因此，多个屏蔽图案145用作在触摸驱动期间阻挡触摸噪声的接地以有效地屏蔽触摸噪声。

在下文中，将参照示例性实施方式和比较实施方式更详细地描述本公开内容的效果。然而，阐述以下示例性实施方式来说明本公开内容，但本公开内容的范围不限于此。

图12是根据本公开内容的示例性实施方式和比较实施方式的显示触摸噪声(DTN)模拟结果。

为了找出本公开内容的效果，作为本公开内容的示例性实施方式，如图10所示，制造了具有其中多个屏蔽图案被设置成与靠近第一光学区域中的多个透射区域的多个触摸电极交叠的结构的显示装置。此外，作为本公开内容的比较实施方式，制造了具有其中仅设置了靠近第一光学区域中的多个透射区域的多个触摸电极的结构的显示装置。

如图12所示，可以确认在包括被设置成与靠近多个透射区域的多个触摸电极交叠的多个屏蔽图案的根据示例性实施方式的显示装置的情况下，触摸驱动期间的触摸噪声水平显著低于其中仅设置了靠近多个透射区域的多个触摸电极的根据比较实施方式的显示装置的触摸噪声水平。

通过实验确认，本公开内容的显示装置包括多个屏蔽图案以与靠近第一光学区域的多个透射区域的多个触摸电极交叠，以抑制触摸驱动过程中生成的触摸噪声。

图13是示出根据本公开内容的另一示例性实施方式的显示装置(例如柔性显示装置)的第一光学区域的平面图。

图14是放大图13的区域Z的视图。

首先，参照图13，第一光学区域DA1可以包括中心区域910和位于中心区域910的外周的边框区域920。例如，中心区域910可以包括多个透射区域。

第一光学区域DA1可以包括多条水平线HL。位于边框区域920中的晶体管和位于中心区域910中的发光二极管可以通过多条水平线HL连接。

根据示例性实施方式的显示装置100可以包括布线结构940。包括布线结构940，使得中心区域910可以由预定区域a扩展。这是因为位于预定区域a中的像素通过布线结构940连接至位于边框区域920中的晶体管。

下面将详细描述包括布线结构940的第一光学区域DA1的结构。

参照图14，第一光学区域可以包括设置在中心区域910和边框区域920中的多个发光二极管ED。第一光学区域包括多个发光二极管ED，使得第一光学区域可以显示画面。

第一光学区域可以包括位于边框区域920中的多个晶体管1050。晶体管1050可以不位于中心区域910中。由于晶体管1050不位于中心区域910中，使得中心区域910可以具有更高的透射率。

第一光学区域可以包括多个行，并且包括第一行R1和第二行R2。包括在第一光学区域中的多个行是与第一光学区域水平交叉以由晶体管1050的图案限定的任意区域。

显示装置可以包括位于中心区域910中且位于第一行R1中的发光二极管ED和位于边框区域920中且位于第二行R2中的晶体管1050。

显示装置可以包括布线结构940，其将位于第一行R1中的发光二极管ED和位于第二行R2中的晶体管1050电连接。

位于不同行上的晶体管1050和发光二极管ED可以通过布线结构940连接。因此，位于其中设置有多于发光二极管ED的晶体管1050的行中的晶体管1050和位于其中设置有多于晶体管的发光二极管ED的行中的发光二极管可以彼此连接。

在中心区域910中的第一行R1中所包括的发光二极管ED的数目可以比在边框区域920中的第二行R2中所包括的发光二极管ED的数目多得多。因此，为了驱动包括在第一行R1中的发光二极管ED，需要更多数目的晶体管1050，并且为了驱动包括在第二行R2中的发光二极管ED，需要更少数目的晶体管1050。因此，在位于边框区域920的第二行R2中的晶体管1050中，未电连接至位于第二行R2中的发光二极管ED的剩余晶体管1050可以通过布线结构940电连接至位于第一行R1中的发光二极管ED。

在整个中心区域910中，每单位面积的像素数可以基本上相同。例如，当每单位面积的像素数基本上相同时，这意指一个像素图案在整个中心区域910中是基本上均匀的。因此，在具有比第二行R2大的与中心区域910交叠的区域的第一行R1中，可以定位更多数目的发光二极管ED。

例如，在边框区域920的第一行R1中所包括的晶体管1050的数目可以与在边框区域920的第二行R2中所包括的晶体管1050的数目基本上相同。在该示例中，如果在中心区域910中的第一行R1中所包括的发光二极管ED的数目更大并且在中心区域910中的第二行R2中所包括的发光二极管ED的数目更小，则在第二行R2中所包括的晶体管1050中的一些不电连接至位于第二行R2中的发光二极管ED，而是可以电连接至位于第一行R1中的发光二极管ED。

此外，在整个边框区域920中，每单位面积的晶体管1050的数目可以基本上相同。当每单位面积的晶体管的图案基本上相同时，这意指整个边框区域920中的一个晶体管图案基本上均匀。

边框区域920的与第一行R1交叠的区域可以与边框区域920的与第二行R2交叠的区域基本上相同。在这样的示例中，位于边框区域920的第一行R1中的晶体管1050的数目可以与在边框区域的第二行R2中所包括的晶体管1050的数目基本上相同。

当如上所述那样配置边框区域920时，位于边框区域920的行中的晶体管1050的数目可以保持为恒定的，并且在特定行中的剩余晶体管可以通过布线结构940电连接至另一行中的剩余发光二极管。因此，相比于比较实施方式的显示装置，根据示例性实施方式的显示装置可以具有更大的中心区域910。

本公开内容的示例性实施方式还可以描述如下：

根据本公开内容的一个方面，提供一种显示装置，包括：基板，其包括显示区域和非显示区域，该显示区域包括第一光学区域和常规区域；平坦化层，其设置基板上且在显示区域中；多个发光二极管，其设置在平坦化层上并且包括阳极、发光层和阴极；堤部，其在平坦化层上被设置成覆盖阳极的端部；封装单元，其被设置成覆盖多个发光二极管和堤部；触摸感测单元，其设置在封装单元上并包括多个触摸电极；以及多个屏蔽图案，其设置在第一光学区域中且在封装单元和多个触摸电极之间，第一光学区域包括其中阴极使堤部暴露的多个透射区域。

显示装置还可以包括光学电子装置，该光学电子装置被设置成与第一光学区域交叠且在基板下方。

多个屏蔽图案可以设置成在多个透射区域和多个发光二极管之间的边界区域中与多个触摸电极交叠。

触摸感测单元可以包括：触摸缓冲膜；触摸层间绝缘层，其设置在触摸缓冲膜上；多个触摸电极，其设置在触摸层间绝缘层上且沿第一方向和与第一方向相交的第二方向设置；以及桥电极，其连接沿第一方向设置的多个触摸电极，并且桥电极可以与多个屏蔽图案设置在同一层上。

多个屏蔽图案的宽度可以大于多个触摸电极的宽度。

多个屏蔽图案可以接地。

显示装置还可以包括连接至多个屏蔽图案的接地线。

接地线与多个触摸电极设置在相同层上，并且可以由与多个触摸电极相同的材料形成。

显示装置还可以包括连接接地线和多个屏蔽图案的连接线。

多个透射区域可以具有圆形形状、三角形形状、椭圆形形状、矩形形状或多边形形状。

尽管已参照附图详细描述了本公开内容的示例性实施方式，但本公开内容并不局限于此，并且在不脱离本公开内容的技术构思的情况下，本公开内容可以以多种不同的形式体现。因此，本公开内容的示例性实施方式仅用于说明目的而提供，而不旨在限制本公开内容的技术构思。本公开内容的技术构思的范围并不局限于此。因此，应当理解的是，上述示例性实施方式在所有方面都是说明性的，并不限制本公开内容。本公开内容的保护范围应基于所述权利要求进行解释，并且其等同范围内的所有技术构思应解释为落入本公开内容的范围内。

Claims

1.一种显示装置，包括：

基板，其包括显示区域和非显示区域，所述显示区域包括第一光学区域和常规区域；

平坦化层，其设置在所述基板上且在所述显示区域中；

多个发光二极管，所述多个发光二极管设置在所述平坦化层上，并且包括阳极、发光层和阴极；

堤部，其在所述平坦化层上被设置成覆盖所述阳极的端部；

封装单元，其被设置成覆盖所述多个发光二极管和所述堤部；

触摸感测单元，其设置在所述封装单元上，并且包括多个触摸电极；以及

多个屏蔽图案，所述多个屏蔽图案设置在所述第一光学区域中且在所述封装单元和所述多个触摸电极之间，

其中，所述第一光学区域包括其中所述阴极使所述堤部暴露的多个透射区域。

2.根据权利要求1所述的显示装置，还包括：

光学电子装置，其被设置成与所述第一光学区域交叠且在所述基板下方。

3.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述多个屏蔽图案被设置成在所述多个透射区域和所述多个发光二极管之间的边界区域中与所述多个触摸电极交叠。

4.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述触摸感测单元还包括触摸缓冲膜和设置在所述触摸缓冲膜上的触摸层间绝缘层，

所述多个触摸电极包括：设置在所述触摸层间绝缘层上且沿第一方向和与所述第一方向相交的第二方向设置的多个触摸传感器电极、以及连接沿所述第一方向设置的所述多个触摸传感器电极的桥电极，并且

所述桥电极与所述多个屏蔽图案设置在相同层上。

5.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述多个屏蔽图案中的每一个屏蔽图案的宽度大于所述多个触摸电极中的与该屏蔽图案交叠的触摸电极的宽度。

6.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述多个屏蔽图案接地。

7.根据权利要求6所述的显示装置，还包括：

连接至所述多个屏蔽图案的接地线。

8.根据权利要求7所述的显示装置，其中，所述接地线与所述多个触摸电极设置在相同层上并且由与所述多个触摸电极相同的材料形成。

9.根据权利要求7所述的显示装置，还包括：

连接所述接地线和所述多个屏蔽图案的连接线。

10.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述多个透射区域中的每一者具有圆形形状、三角形形状、椭圆形形状、矩形形状或多边形形状。

11.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述第一光学区域包括中心区域和位于中心区域的外周的边框区域，

所述多个透射区域位于所述中心区域中，并且所述中心区域中没有设置晶体管，以及

所述多个发光二极管中的设置在所述中心区域中的发光二极管与设置在所述边框区域中的晶体管电连接。

12.根据权利要求4所述的显示装置，其中，所述桥电极由与所述多个屏蔽图案相同的材料形成。