CN118248614A - 一种视觉检测运动三轴平台 - Google Patents
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- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 title claims description 12
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 24
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 63
- 238000007667 floating Methods 0.000 claims description 21
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 claims description 9
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims description 7
- 230000006835 compression Effects 0.000 claims description 6
- 238000007906 compression Methods 0.000 claims description 6
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 6
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 abstract description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 4
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 239000004579 marble Substances 0.000 description 7
- 230000007306 turnover Effects 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000001960 triggered effect Effects 0.000 description 1
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- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
Abstract
本发明涉及晶圆检测技术领域,公开了一种视觉检测运动三轴平台,包括底座,所述底座上设有Y轴气浮导轨,且Y轴气浮导轨上设有X轴气浮导轨,所述底座上还安装有Z轴支架,且Z轴支架上设有Z轴气浮导轨;所述X轴滑块上设有限位翻转组件,用于对放置在X轴滑块上的晶圆进行翻转,对晶圆进行双面检测,并对晶圆的活动位置进行限位,使得在对晶圆进行X轴和Y轴移动时,晶圆能够在X轴滑块上保持稳定。本发明有效地解决了平台定位精度差,以及,在较高精度运动下,受环境影响很大,对于已经达到纳米级精度,材料的轻微受热就会引起变形,从而影响精度的技术问题。
Description
技术领域
本发明涉及晶圆检测技术领域,更具体地说,它涉及一种视觉检测运动三轴平台。
背景技术
平整度是圆晶最主要的参数之一,主要是因为光刻工艺对局部位置的平整度是非常敏感的,圆晶平整度是指在通过硅片的直线上的厚度变化,常用两组上下相对的光谱聚焦传感器进行检测圆晶的上表面和下表面,早期圆晶的平面度及厚度检测平台主要为三轴运动平台。
目前市场常用的三轴运动平台均由旋转电机控制丝杆运动,常用于常规机械零件的加工,定位精度在几个um之间,相对来说满足不了半导体行业的需求,其次,在较高精度运动下,受环境影响很大,对于已经达到纳米级精度,材料的轻微受热就会引起变形,从而影响精度。
发明内容
本发明提供一种视觉检测运动三轴平台,解决相关技术中常用的三轴运动平台定位精度差,其次,在较高精度运动下,受环境影响很大,对于已经达到纳米级精度,材料的轻微受热就会引起变形,从而影响精度的技术问题。
本发明提供了一种视觉检测运动三轴平台,包括:
底座,所述底座上设有Y轴气浮导轨,且Y轴气浮导轨上设有X轴气浮导轨,所述底座上还安装有Z轴支架,且Z轴支架上设有Z轴气浮导轨;
所述Y轴气浮导轨包括设于底座两侧的双主轨和双辅轨,通过双主轨和双辅轨组成Y轴气浮导轨;
所述X轴气浮导轨包括设于双主轨之间的X轴滑块,X轴滑块上可安装被检测物品的治具,且X轴滑块下方设有X轴导轨,所述X轴滑块滑动连接于X轴导轨上方,所述X轴导轨上安装有Y轴滑块,且Y轴滑块与双辅轨滑动连接;
所述Z轴气浮导轨包括安装在Z轴支架上的Z轴导轨,且Z轴导轨上滑动连接有Z轴滑块,所述Z轴导轨上安装有无阻尼配重气缸,且无阻尼配重气缸的伸缩端安装有气缸连接件,所述气缸连接件安装在Z轴滑块的两侧;
所述X轴滑块上设有限位翻转组件,用于对放置在X轴滑块上的晶圆进行翻转,对晶圆进行双面检测,并对晶圆的活动位置进行限位,使得在对晶圆进行X轴和Y轴移动时,晶圆能够在X轴滑块上保持稳定。
作为本发明的进一步优化方案,所述X轴导轨上安装有第一光栅尺读头,所述底座上安装有Y轴直线电机,用于控制Y轴气浮导轨进行移动,并通过第一光栅尺读头反馈位置;
所述X轴滑块上安装有第二光栅尺读头,所述X轴导轨上安装有X轴直线电机,用于控制X轴气浮导轨进行移动,并通过第二光栅尺读头反馈位置;
所述Z轴滑块上安装有第三光栅尺读头,所述Z轴导轨上安装有Z轴直线电机,用于控制Z轴气浮导轨进行移动,并通过第三光栅尺读头反馈位置。
作为本发明的进一步优化方案,所述底座的下方设有支撑组件,且支撑组件包括设于底座下方的支撑架,所述支撑架与底座之间安装有多个伸缩气缸,且伸缩气缸的伸缩端安装有上脚杯,用于气浮弹簧断气时保护气浮弹簧以及运输保护,所述支撑架的四周还安装有下脚杯,且下脚杯用于对底座的水平度进行初步调节。
作为本发明的进一步优化方案,所述支撑架与底座之间还设有抗干扰组件,且抗干扰组件包括多个安装在底座和支撑架之间的气浮弹簧,所述支撑架上还安装有多个调节阀,且调节阀与气浮弹簧相连接,用于对底座进行水平调节。
作为本发明的进一步优化方案,所述限位翻转组件包括安装在X轴滑块两侧的侧板,且侧板上安装有电动推杆,所述电动推杆的伸缩端安装有连接座,且连接座内轴承连接有连接轴,两组所述连接轴相靠近的一端安装有固定架,且固定架上安装有用于放置晶圆的检测盘,其中一组所述连接座上安装有第一驱动电机,且第一驱动电机的输出轴与其中一组连接轴固定连接。
作为本发明的进一步优化方案,所述检测盘内部的上下两侧皆设有多个垫板,且垫板上安装有限位杆,所述检测盘与所述限位杆之间为滑动连接,
作为本发明的进一步优化方案,所述限位杆上还设有压缩弹簧。
作为本发明的进一步优化方案,所述限位杆远离垫板的一端安装有连接架,且连接架内轴承连接有滚轮,所述连接座内部的上下两侧皆设有连接环,且连接环位于所述连接架内部,所述连接环上安装有多个凸块,且凸块设置为弧形。
作为本发明的进一步优化方案,所述垫板上胶粘有橡胶防护层,所述橡胶防护层与晶圆表面接触,对晶圆外表面进行保护。
作为本发明的进一步优化方案,所述连接环上还安装有齿条板,且齿条板为弧形设置,所述齿条板上啮合连接有齿轮,所述连接座上还安装有第二驱动电机,且第二驱动电机的输出轴与齿轮固定连接。
本发明的有益效果在于:
1、本发明通过采用大理石和铝合金材料结合的特点,大理石能防止底座上关键X轴导轨和Y轴导轨因运动产生热量影响运动性能,能够保证运动的稳定性,铝合金能够和在一定程度上消除温度变化的影响减轻Z轴的负载。
2、本发明通过Z轴滑块使用无阻尼配重气缸平衡负载重力,使Z轴滑块能够实现带负载达到高精度高频往复运动。
3、本发明通过X轴导轨和Y轴导轨作为关键性导轨,X轴导轨为长导轨,质量较大,Y轴导轨使用双主轨和双辅轨的方式设计,避免了长行程导轨结构悬臂而造成导轨受力导致外形变化。
4、本发明通过支撑架设计四个上脚杯避免了气浮弹簧断气直接与底座受力影响气浮弹簧寿命。
附图说明
图1是本发明中实施例一的结构立体示意图一;
图2是本发明中实施例一的结构立体示意图二;
图3是本发明中实施例一的局部俯视结构示意图;
图4是本发明中实施例一的图3中A-A处结构剖视图;
图5是本发明中实施例一的图3中B-B处结构剖视图;
图6是本发明中实施例一的Z轴支架结构示意图一;
图7是本发明中实施例一的Z轴支架结构示意图二;
图8是本发明中实施例一的Z轴支架结构剖视示意图;
图9是本发明中实施例一的控制流程图;
图10是本发明中实施例二的结构立体示意图;
图11是本发明中实施例二的限位翻转组件结构立体示意图;
图12是本发明中实施例二的限位翻转组件局部结构立体示意图;
图13是本发明中实施例二的限位翻转组件结构剖视立体示意图;
图14是本发明中实施例二的图13中A处结构放大图。
图中:1、底座;2、Z轴支架;3、Y轴气浮导轨;301、双主轨;302、双辅轨;303、第一光栅尺读头;304、Y轴直线电机;4、X轴气浮导轨;401、X轴滑块;402、X轴导轨;403、第二光栅尺读头;404、X轴直线电机;405、Y轴滑块;5、Z轴气浮导轨;501、Z轴导轨;502、Z轴滑块;503、气缸连接件;504、无阻尼配重气缸;505、第三光栅尺读头;506、Z轴直线电机;6、支撑组件;601、上脚杯;602、下脚杯;603、支撑架;7、抗干扰组件;701、气浮弹簧;702、调节阀;8、电控柜;9、限位翻转组件;901、侧板;902、电动推杆;903、连接座;904、连接轴;905、固定架;906、检测盘;907、第一驱动电机;908、垫板;909、限位杆;910、连接架;911、滚轮;912、压缩弹簧;913、连接环;914、凸块;915、齿条板;916、齿轮;917、第二驱动电机。
具体实施方式
现在将参考示例实施方式讨论本文描述的主题。应该理解,讨论这些实施方式只是为了使得本领域技术人员能够更好地理解从而实现本文描述的主题,可以在不脱离本说明书内容的保护范围的情况下,对所讨论的元素的功能和排列进行改变。各个示例可以根据需要,省略、替代或者添加各种过程或组件。另外,相对一些示例所描述的特征在其他例子中也可以进行组合。
实施例一:请参阅附图1和附图2,一种视觉检测运动三轴平台,包括底座1,所述底座1上设有Y轴气浮导轨3,且Y轴气浮导轨3上设有X轴气浮导轨4,所述底座1上还安装有Z轴支架2,且Z轴支架2上设有Z轴气浮导轨5。其中,底座1和Z轴支架2皆为大理石材质,该部分采用天然大理石加工而成,天然大理石主要成分为碳酸钙可耐高温,在运动时引起的温度变化不易影响导轨运动的精度和稳定性。大理石底座1相对于Y轴气浮导轨3和X轴气浮导轨4及其负载的质量较大,避免运动时由于动量守恒大理石底座1相对严重晃动。
请参阅附图1、附图2、附图3和附图4,所述Y轴气浮导轨3包括设于底座1两侧的双主轨301和双辅轨302,通过双主轨301和双辅轨302组成Y轴气浮导轨3,避免了X轴过程质量过重而造成悬臂结构。
请参阅附图3和附图5,所述X轴气浮导轨4包括设于双主轨301之间的X轴滑块401,X轴滑块401上可安装被检测物品的治具,且X轴滑块401下方设有X轴导轨402,所述X轴滑块401滑动连接于X轴导轨402上方,所述X轴导轨402上安装有Y轴滑块405,且Y轴滑块405与双辅轨302滑动连接。
其中,X轴导轨402上安装有第一光栅尺读头303,所述底座1上安装有Y轴直线电机304,用于控制Y轴气浮导轨3进行移动,并通过第一光栅尺读头303反馈位置。
所述X轴滑块401上安装有第二光栅尺读头403,所述X轴导轨402上安装有X轴直线电机404,用于控制X轴气浮导轨4进行移动,并通过第二光栅尺读头403反馈位置。
请参阅附图6、附图7和附图8,所述Z轴气浮导轨5包括安装在Z轴支架2上的Z轴导轨501,且Z轴导轨501上滑动连接有Z轴滑块502,所述Z轴导轨501上安装有无阻尼配重气缸504,且无阻尼配重气缸504的伸缩端安装有气缸连接件503,所述气缸连接件503安装在Z轴滑块502的两侧。在本实施例中,无阻尼配重气缸504用于调节Z轴的负载配重,根据无阻尼配重气缸504调节气压压力大小控制Z轴负载,让Z轴能够相当于水平条件下自由运动。并且通过无阻尼配重气缸504,能够在0.1微米的微小范围左右做往复运动时,内部几乎无摩擦无阻力,在Z轴直线电机506的控制下能够实现高于30HZ频率运动。
无阻尼配重气缸504形同Z轴气浮导轨5,具有摩擦力小,运动精度高的特点。使用无阻尼配重气缸504能够平衡Z轴负载带来的重力,从而使Z轴运动性能达到处于水平轴的水平。此设计能够满足Z轴跑出较高的动态性能。
其中,所述Z轴滑块502上安装有第三光栅尺读头505,所述Z轴导轨501上安装有Z轴直线电机506,用于控制Z轴气浮导轨5进行移动,并通过第三光栅尺读头505反馈位置。
需要注意的是,Z轴滑块502优选为航空铝7075,能够在满足硬度的条件下减轻了Z轴的负载,能让运动性能发挥到更佳状态。
在本实施例中,需要说明的是,X轴导轨402、Y轴导轨和Z轴导轨501用大理石设计凸字形结构在中间挖槽,分别在X轴滑块401、Y轴滑块405和Z轴滑块502上四个面上打气孔来确保对X轴滑块401、Y轴滑块405和Z轴滑块502上下左右的约束。使X轴导轨402、Y轴导轨和Z轴导轨501共有上下左右四个面接触,通过调节四个面的空气间隙,使X轴滑块401、Y轴滑块405和Z轴滑块502与X轴导轨402、Y轴导轨和Z轴导轨501之间悬浮从而形成气浮导轨。
请参阅附图1和附图2,所述底座1的下方设有支撑组件6,且支撑组件6包括设于底座1下方的支撑架603,所述支撑架603与底座1之间安装有多个伸缩气缸,且伸缩气缸的伸缩端安装有上脚杯601,用于气浮弹簧701断气时保护气浮弹簧701以及运输保护,所述支撑架603的四周还安装有下脚杯602,且下脚杯602用于对底座1的水平度进行初步调节。
请参阅附图1和附图2,目前,视觉检测运动三轴平台运动的抗干扰稳定性差,极大地影响三轴运动平台长期运行,导致加工生产的产品效率低影响,在高精度运动下,三轴运动平台在外界环境变化引起的微小震动都会影响机床的正常使用。在本实施例中,所述支撑架603与底座1之间还设有抗干扰组件7,且抗干扰组件7包括多个安装在底座1和支撑架603之间的气浮弹簧701,所述气浮弹簧701优选为四组,通过气浮弹簧701将支撑架603与Y轴气浮导轨3、X轴气浮导轨4和Z轴气浮导轨5隔开,使得外界震动与底座1隔绝,避免了外界的干扰。所述支撑架603上还安装有多个调节阀702,且调节阀702与气浮弹簧701相连接,用于对底座1进行水平调节,所述调节阀702优选为三组,通过三组调节阀702共同调节一个平面的水平度,便于气浮弹簧701对底座1进行支撑和水平调节。
其中,所述支撑架603上还安装有电控柜8,用于安装驱动等控制机台电器元件置于支撑架603中。
请参阅附图1至附图9,需要理解的是,本视觉检测运动三轴平台通过数控系统控制驱动X轴直线电机404、Y轴直线电机304和Z轴直线电机506运动,通过光栅尺反馈位置,X轴直线电机404、Y轴直线电机304、Z轴直线电机506、第一光栅尺读头303、第二光栅尺读头403和第三光栅尺读头505能够形成闭环控制从而使三轴运动平台运动稳定,定位精度和重复定位精度高。
具体的,控制卡的控制流程如下:
步骤一、初始化位置比较卡设置;
步骤二、上位机通过通讯接口连接位置比较卡;
步骤三、设置位置比较卡的编码器零点;
步骤四、设置控制参数,如比较模式、控制模式触发范围、脉冲输出时间、输入输出端口等;其中,比较模式包括一维比较、二维比较和三维比较;控制模式包括FIFO方式等间隔方式;
步骤五、通过接口向位置比较卡写入比较数据;
步骤六、通过接口控制开启比较输出功能;
步骤七、位置比较卡定时检测编码器返回时,读取并存储编码器值和比较条件。
其中,步骤四中的控制模式包括如下方式:
FIFO方式:先进先出方式,在预设比较值中根据传入的数据顺序对比较值进行逐个比较。
等间隔方式:设定起始比较值与间隔值,当编码器值达到指定的间隔值后触发输出。
其中,步骤四中的比较模式包括如下步骤:
步骤一、以5ns的间隔定时读取编码器值,与预设比较值进行比较。如果满足比较条件则在输出端口中输出指定脉冲输出时间的24V脉冲;
步骤二、满足比较条件的判断条件为:
一维比较模式:比较一组预设的比较值,触发条件为以比较点,2倍触发范围值的线段区间区域;
二维比较模式,同时比较两组预设的比较值,触发条件是以比较点为中心,2倍触发范围值的正方形区域;
三维比较模式,同时比较三组预设的比较值,触发条件是以比较点为中心,2倍触发范围值的正方体区域;
步骤三、脉冲输出功能:
如果满足比较条件,则触发24V脉冲输出,脉冲输出时间由脉冲输出时间参数控制。
实施例二:目前,晶圆是制造IC的基本原料,生产硅晶圆的过程当中,良品率是很重要的条件,对于硅晶圆的品质要求极为严格,在大批量生产的时候,往往需要对硅晶圆进行外观检测,比如:尺寸,破损,裂粒,气孔,裂痕,镍层不良等等。
其中,在对晶圆检测的过程中,通常为单面检测,先检测晶圆的其中一面,再对晶圆的另一面进行检测,在对晶圆翻面时,通常采用机械臂对晶圆进行夹取并翻面,但晶圆边缘较为脆弱,在夹取过程中极易产生损伤,降低良品率。在本实施例中,所述X轴滑块401上设有限位翻转组件9,一方面用于对晶圆的活动位置进行限位,使得在对晶圆进行X轴和Y轴移动时,晶圆能够在X轴滑块401上保持稳定,避免在检测的过程中出现误差,提高了精准率;另一方面用于对放置在X轴滑块401上的晶圆进行翻转,能够一次性地对晶圆进行双面检测,提高了工作效率。
请参阅附图10和附图11,具体的,所述限位翻转组件9包括安装在X轴滑块401两侧的侧板901,且侧板901上安装有电动推杆902,所述电动推杆902的伸缩端安装有连接座903,且连接座903内轴承连接有连接轴904,两组所述连接轴904相靠近的一端安装有固定架905,且固定架905上安装有用于放置晶圆的检测盘906,其中一组所述连接座903上安装有第一驱动电机907,且第一驱动电机907的输出轴与其中一组连接轴904固定连接。
也就是说,当第一驱动电机907旋转时,连接轴904进行同步转动,从而驱动固定架905进行同步转动,使得检测盘906进行翻转运动,从而实现晶圆从A面到B面的转换或是晶圆B面到A面的转换,从而便于对晶圆进行双面检测。其中,电动推杆902能够驱动连接座903进行上下移动,使得检测盘906在进行翻转时,电动推杆902能够对检测盘906进行顶升,从而对检测盘906翻转预留出让位空间,操作简单便捷。
请参阅附图12和附图13,进一步的,所述检测盘906内部的上下两侧皆设有多个垫板908,且垫板908上安装有限位杆909,所述检测盘906与所述限位杆909之间为滑动连接,所述限位杆909上还设有压缩弹簧912,所述压缩弹簧912的一端与垫板908固定连接,所述压缩弹簧912的另一端与检测盘906内壁固定连接。
需要注意的是,所述限位杆909远离垫板908的一端安装有连接架910,且连接架910内轴承连接有滚轮911,所述连接座903内部的上下两侧皆设有连接环913,且连接环913位于所述连接架910内部,所述连接环913上安装有多个凸块914,且凸块914为弧形设置,在本实施例中,凸块914的数量与垫板908的数量相同,从而便于驱动等同数量的垫板908进行同步移动。当连接环913旋转时,驱动凸块914进行同步转动,使得凸块914对滚轮911进行挤压,使得滚轮911带动限位杆909进行同步移动,使得垫板908进行位移,从而便于在检测盘906进行翻转时,垫板908进行同步移动,从而对晶圆进行支撑,便于对晶圆进行检测。
在其他实施例中,所述垫板908内可开设多组气孔,所述垫板908内开设连接通道,使得多组气孔内部相互连通,并在连接座903上安装气泵,将气泵的抽气端与连接通道相连通,使得气泵工作时,能够使得气孔与晶圆接触面之间形成负压,从而对晶圆进行固定,提高了稳定性。
其中,当检测盘906驱动晶圆进行翻转时,上下两组垫板908同步向检测盘906中心位置移动,对晶圆的上下两侧进行限位,从而使得在对晶圆进行翻转时,对晶圆进行限位,避免与检测盘906产生脱离。并且,晶圆在翻转完成后,再次驱动向上的一组垫板908进行收缩运动,从而解除对晶圆检测面的遮挡。在本实施例中,所述晶圆的两个面分别为A面和B面,当A面的朝向为上时或B面的朝向为上时,为晶圆检测面。
请参阅附图13和附图14,需要说明的是,所述连接环913上还安装有齿条板915,且齿条板915为弧形设置,所述齿条板915上啮合连接有齿轮916,所述连接座903上还安装有第二驱动电机917,且第二驱动电机917的输出轴与齿轮916固定连接。当第二驱动电机917旋转时,带动齿轮916进行同步转动,通过齿条板915与齿轮916啮合连接,使得连接环913进行转动,从而能够驱动凸块914进行同步旋转,控制垫板908进行伸缩运动。
在其他实施例中,所述垫板908上胶粘有橡胶防护层,所述橡胶防护层与晶圆表面接触,对晶圆外表面进行保护,避免晶圆在翻转时产生损伤。
也就是说,通过上下两侧的垫板908对晶圆移动进行限位,从而便于对晶圆进行翻转运动,对晶圆的A面和B面进行检测,并且通过垫板908对晶圆进行限位,利用橡胶防护层对晶圆进行保护,避免了机械臂夹持对晶圆边缘造成损伤,一方面对晶圆的边缘进行了保护同时,另一方面也便于对晶圆进行限位固定,提高了良品率。
上面对本实施例的实施例进行了描述,但是本实施例并不局限于上述的具体实施方式,上述的具体实施方式仅仅是示意性的,而不是限制性的,本领域的普通技术人员在本实施例的启示下,还可做出很多形式,均属于本实施例的保护之内。
Claims (10)
1.一种视觉检测运动三轴平台,其特征在于,包括:
底座(1),所述底座(1)上设有Y轴气浮导轨(3),且Y轴气浮导轨(3)上设有X轴气浮导轨(4),所述底座(1)上还安装有Z轴支架(2),且Z轴支架(2)上设有Z轴气浮导轨(5);
所述Y轴气浮导轨(3)包括设于底座(1)两侧的双主轨(301)和双辅轨(302),通过双主轨(301)和双辅轨(302)组成Y轴气浮导轨(3);
所述X轴气浮导轨(4)包括设于双主轨(301)之间的X轴滑块(401),X轴滑块(401)上可安装被检测物品的治具,且X轴滑块(401)下方设有X轴导轨(402),所述X轴滑块(401)滑动连接于X轴导轨(402)上方,所述X轴导轨(402)上安装有Y轴滑块(405),且Y轴滑块(405)与双辅轨(302)滑动连接;
所述Z轴气浮导轨(5)包括安装在Z轴支架(2)上的Z轴导轨(501),且Z轴导轨(501)上滑动连接有Z轴滑块(502),所述Z轴导轨(501)上安装有无阻尼配重气缸(504),且无阻尼配重气缸(504)的伸缩端安装有气缸连接件(503),所述气缸连接件(503)安装在Z轴滑块(502)的两侧;
所述X轴滑块(401)上设有限位翻转组件(9),用于对放置在X轴滑块(401)上的晶圆进行翻转,对晶圆进行双面检测,并对晶圆的活动位置进行限位,使得在对晶圆进行X轴和Y轴移动时,晶圆能够在X轴滑块(401)上保持稳定。
2.根据权利要求1所述的一种视觉检测运动三轴平台,其特征在于,所述X轴导轨(402)上安装有第一光栅尺读头(303),所述底座(1)上安装有Y轴直线电机(304),用于控制Y轴气浮导轨(3)进行移动,并通过第一光栅尺读头(303)反馈位置;
所述X轴滑块(401)上安装有第二光栅尺读头(403),所述X轴导轨(402)上安装有X轴直线电机(404),用于控制X轴气浮导轨(4)进行移动,并通过第二光栅尺读头(403)反馈位置;
所述Z轴滑块(502)上安装有第三光栅尺读头(505),所述Z轴导轨(501)上安装有Z轴直线电机(506),用于控制Z轴气浮导轨(5)进行移动,并通过第三光栅尺读头(505)反馈位置。
3.根据权利要求1所述的一种视觉检测运动三轴平台,其特征在于,所述底座(1)的下方设有支撑组件(6),且支撑组件(6)包括设于底座(1)下方的支撑架(603),所述支撑架(603)与底座(1)之间安装有多个伸缩气缸,且伸缩气缸的伸缩端安装有上脚杯(601),用于气浮弹簧(701)断气时保护气浮弹簧(701)以及运输保护,所述支撑架(603)的四周还安装有下脚杯(602),且下脚杯(602)用于对底座(1)的水平度进行初步调节。
4.根据权利要求3所述的一种视觉检测运动三轴平台,其特征在于,所述支撑架(603)与底座(1)之间还设有抗干扰组件(7),且抗干扰组件(7)包括多个安装在底座(1)和支撑架(603)之间的气浮弹簧(701),所述支撑架(603)上还安装有多个调节阀(702),且调节阀(702)与气浮弹簧(701)相连接,用于对底座(1)进行水平调节。
5.根据权利要求1所述的一种视觉检测运动三轴平台,其特征在于,所述限位翻转组件(9)包括安装在X轴滑块(401)两侧的侧板(901),且侧板(901)上安装有电动推杆(902),所述电动推杆(902)的伸缩端安装有连接座(903),且连接座(903)内轴承连接有连接轴(904),两组所述连接轴(904)相靠近的一端安装有固定架(905),且固定架(905)上安装有用于放置晶圆的检测盘(906),其中一组所述连接座(903)上安装有第一驱动电机(907),且第一驱动电机(907)的输出轴与其中一组连接轴(904)固定连接。
6.根据权利要求5所述的一种视觉检测运动三轴平台,其特征在于,所述检测盘(906)内部的上下两侧皆设有多个垫板(908),且垫板(908)上安装有限位杆(909),所述检测盘(906)与所述限位杆(909)之间为滑动连接。
7.根据权利要求6所述的一种视觉检测运动三轴平台,其特征在于,所述限位杆(909)上还设有压缩弹簧(912)。
8.根据权利要求6所述的一种视觉检测运动三轴平台,其特征在于,所述限位杆(909)远离垫板(908)的一端安装有连接架(910),且连接架(910)内轴承连接有滚轮(911),所述连接座(903)内部的上下两侧皆设有连接环(913),且连接环(913)位于所述连接架(910)内部,所述连接环(913)上安装有多个凸块(914),且凸块(914)设置为弧形。
9.根据权利要求6所述的一种视觉检测运动三轴平台,其特征在于,所述垫板(908)上胶粘有橡胶防护层,所述橡胶防护层与晶圆表面接触,对晶圆外表面进行保护。
10.根据权利要求8所述的一种视觉检测运动三轴平台,其特征在于,所述连接环(913)上还安装有齿条板(915),且齿条板(915)为弧形设置,所述齿条板(915)上啮合连接有齿轮(916),所述连接座(903)上还安装有第二驱动电机(917),且第二驱动电机(917)的输出轴与齿轮(916)固定连接。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202410661043.8A CN118248614A (zh) | 2024-05-27 | 2024-05-27 | 一种视觉检测运动三轴平台 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202410661043.8A CN118248614A (zh) | 2024-05-27 | 2024-05-27 | 一种视觉检测运动三轴平台 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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CN118248614A true CN118248614A (zh) | 2024-06-25 |
Family
ID=91553668
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
Country | Link |
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CN (1) | CN118248614A (zh) |
-
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- 2024-05-27 CN CN202410661043.8A patent/CN118248614A/zh active Pending
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