CN110524499B - 磁浮导轨运动平台 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种磁浮导轨运动平台，包括底座、Y向导轨、下悬浮体、X向导轨、上悬浮体以及Z向主动重力补偿装置。Y向导轨安装于底座上，下悬浮体安装于Y向导轨上并能够沿Y向导轨进行悬浮运动，X向导轨与下悬浮体固定连接以与下悬浮体沿Y向导轨进行悬浮运动，上悬浮体安装于X向导轨上并能够沿X向导轨进行悬浮运动，Z向主动重力补偿装置安装于底座上并与X向导轨配合，在上悬浮体沿X向导轨运动的过程中，Z向主动重力补偿装置动态地对X向导轨进行悬浮支撑，其中，X向导轨和Y向导轨相互垂直。本发明的磁浮导轨运动平台具有结构紧凑、运行过程中导轨受力均匀以及行程大的优点。

Description

磁浮导轨运动平台

技术领域

本发明涉及磁悬浮领域，具体涉及一种磁浮导轨运动平台

背景技术

以集成电路制造为代表的高端半导体制造领域，随着加工产品的性能要求越来越高，精密程度指数上升，对精密加工设备的要求也越来越严格，更具体的来说，对其直线运动和多维运动平台的定位精度、运行速度、加速度以及工作环境的洁净度等要求越来越严格，比如高端数控机床和用于芯片制造的光刻机等。直线运动平台经历了机械式直线运动台、气浮式直线运动台以及目前的基于磁悬浮导轨的磁浮式运动台三大技术代。与传统的机械式直线运动台和气浮式直线运动台相比，磁悬浮导轨无机械接触，避免了由于摩擦产生的磨损及粉尘污染，提高了导轨寿命，减少了维护费用，满足超洁净制造环境的要求。同时磁浮导轨利用电磁力将负载悬浮，相比于气浮导轨，能够满足需要真空环境的工作场合。

总之，磁浮导轨凭借其无摩擦、高速度、高加速度、高精度、易于维护和适用于真空环境、负载范围大等优点，结合先进控制技术，在高端半导体装备制造领域具有巨大的研究价值和应用前景。

然而，目前的一种做法是在磁浮导轨的动子上固定多对磁阻式电机(EI电机)，在线圈通电情况下与固定在导轨上的硅钢叠层之间产生磁阻力，克服动子自身重力及其负载，从而保证动子与导轨间的悬浮间隙稳定在一定范围内，达到动子稳定悬浮的效果，但该方法具有的缺点是当负载越重时，需要设计具有更多线圈的EI电机提供更大的磁阻力来支撑负载，因此动子的体积势必增大，造成结构的不紧凑与整体质量的增加，并在同等条件下，降低了负载能力。

另一种做法是通过模块化叠加磁浮导轨，设计了一种基于磁浮导轨的二维磁浮运动装置，但是类似于第一种做法的缺点，由于下导轨的动子需要承载上导轨整体和负载，使得下导轨动子的质量为上导轨动子的十倍，整体结构不紧凑，质量过大，同时由于上导轨两端未有支撑，当上导轨的动子运动到上导轨的两端时，上导轨受力不均，且上导轨越长，越容易产生较大的弯矩，影响运动精度，因此也限制了上导轨的行程。

因此，现阶段需要一种新的二维磁浮导轨运动装置，既能解决磁浮导轨动子结构不紧凑，质量过大且运行过程中受力不均的问题，又能实现大行程高精度运动的功能。

发明内容

本发明的目的是提供一种磁浮导轨运动平台，以解决上述现有技术中存在的问题。

为了解决上述问题，根据本发明的一个方面，提供了一种磁浮导轨运动平台，所述磁浮导轨运动平台包括底座、Y向导轨、下悬浮体、X向导轨、上悬浮体以及Z向主动重力补偿装置，所述Y向导轨安装于所述底座上，所述下悬浮体安装于所述Y向导轨上并能够沿所述Y向导轨进行悬浮运动，所述X向导轨与所述下悬浮体固定连接以与所述下悬浮体沿所述Y向导轨进行悬浮运动，所述上悬浮体安装于所述X向导轨上并能够沿所述X向导轨进行悬浮运动，所述Z向主动重力补偿装置安装于所述底座上并与所述X向导轨配合，在所述上悬浮体沿所述X向导轨运动的过程中，所述Z向主动重力补偿装置动态地对所述X向导轨进行悬浮支撑，其中，所述X向导轨和所述Y向导轨相互垂直。

在一个实施例中，所述Z向主动重力补偿装置为EI电机，所述EI电机的E部分安装于所述X向导轨的两端，所述EI电机的I部分安装于所述底座上。

在一个实施例中，所述Z向主动重力补偿装置包括设置于所述X向导轨两端的励磁线圈和设置于所述底座上与所述励磁线圈配合的导磁层，在所述上悬浮体沿所述X向导轨运动的过程中，所述励磁线圈中的电流随所述上悬浮体的位置进行动态变化，从而动态地对所述X向导轨进行悬浮支撑。

在一个实施例中，所述底座的上表面设有两块立板，所述两块立板布置在所述Y向导轨的两侧并与所述Y向导轨平行，每一块所述立板的上部设有向所述X向导轨的两端伸出的突出部，所述突出部的下表面设置有所述导磁层，所述X向导轨的两端设置有L形构件，所述L形构件的水平部分的上表面设置有所述励磁线圈并与所述突出部的下表面配合。

在一个实施例中，所述底座的上表面设有两块立板，所述两块立板布置在所述Y向导轨两侧并与所述Y向导轨平行，每一块所述立板的上部设有垂于所述立板的表面的凹槽，所述凹槽沿平行于所述Y向导轨的方向延伸并在顶壁上设置有所述导磁层，以及所述X向导轨的两端设置有L形构件，所述L形构件的水平部分的上表面设置有所述励磁线圈并配合安装于所述凹槽内。

在一个实施例中，所述L形构件的水平部分还设有间隙传感器，所述励磁线圈根据所述间隙传感器监测的数据调整通过的电流，从而在所述上悬浮体沿所述X向导轨运动的过程中对所述X向导轨的两端动态地进行悬浮支撑。

在一个实施例中，所述间隙传感器安装于所述水平部分的侧面以测量所述励磁线圈与所述导磁层的间距。

在一个实施例中，所述磁浮导轨运动平台还包括控制器，所述控制器与所述间隙传感器信号联通，所述控制器接收间隙传感器的信号并适时调节所述励磁线圈的电流大小，从而主动式地补偿由动子位置变化带来的不期望的重力。

在一个实施例中，所述底座的上表面设置四块立板，所述四块立板分布在所述Y向导轨两侧并与所述Y向导轨平行，每一块所述立板的上部设有垂直于所述立板表面的凹槽，所述凹槽沿平行于所述Y向导轨的方向延伸，所述凹槽的顶壁上设置有所述导磁层，以及所述X向导轨的两端分别设置有两个L形构件，每一个所述L形构件的水平部分与对应的一块所述立板的所述凹槽配合并在其上表面设置有所述励磁线圈。

在一个实施例中，每一块所述立板上的凹槽的开口都朝向所述X向导轨的两端；

在一个实施例中，所述X向导轨包括导轨主体，所述导轨主体的上表面设置有凹槽，所述凹槽的两侧分别设有导轨部，所述导轨部的上表面、下表面以及侧面镶嵌有硅钢片；

在一个实施例中，所述上悬浮体是由多块可拆卸的板组装而成的框架结构，且所述框架结构的内部设置有多对对称分布的磁阻电机；

在一个实施例中，所述凹槽内设置直线电机定子，所述直线电机定子采用卧式设置，以及在所述凹槽的两端设置挡板，通过所述挡板限制直线电机动子的行程；

在一个实施例中，紧贴所述凹槽的侧壁还设置有光栅尺，通过所述光栅尺为直线电机的直线运动提供位置反馈。

本发明通过Z向主动重力补偿装置对X向导轨进行悬浮支撑，从而不仅能解决大载荷造成的能量消耗大，磁浮导轨动子结构不紧凑，体积与质量过大的问题，又能解决导轨大载荷造成的导轨运行过程中受力不均以及多维磁悬浮导轨行程受限的问题，从而实现大行程运动的功能。

附图说明

图1是本发明的磁浮导轨运动平台的立体图。

图2是图1的磁浮导轨运动平台的又一立体图。

图3是图1的磁浮导轨运动平台的俯视图。

图4是图1的磁浮导轨运动平台的立体分解图。

图5是图1的磁浮导轨运动平台的主视图。

图6-7是Z向主动重力补偿装置的控制方式的框图。

图8是本发明EI电机的原理示意图。

图9是本发明一实施例的X向导轨的立体分解图。

图10是本发明一实施例的上悬浮体的立体图。

图11是图10的上悬浮体的立体分解图。

图12是本发明另一实施例的磁浮导轨运动平台的立体图。

具体实施方式

以下将结合附图对本发明的较佳实施例进行详细说明，以便更清楚理解本发明的目的、特点和优点。应理解的是，附图所示的实施例并不是对本发明范围的限制，而只是为了说明本发明技术方案的实质精神。

在下文的描述中，出于说明各种公开的实施例的目的阐述了某些具体细节以提供对各种公开实施例的透彻理解。但是，相关领域技术人员将认识到可在无这些具体细节中的一个或多个细节的情况下来实践实施例。在其它情形下，与本申请相关联的熟知的装置、结构和技术可能并未详细地示出或描述从而避免不必要地混淆实施例的描述。

在整个说明书中对“一个实施例”或“一实施例”的提及表示结合实施例所描述的特定特点、结构或特征包括于至少一个实施例中。因此，在整个说明书的各个位置“在一个实施例中”或“在一实施例”中的出现无需全都指相同实施例。另外，特定特点、结构或特征可在一个或多个实施例中以任何方式组合。

在以下描述中，为了清楚展示本发明的结构及工作方式，将借助诸多方向性词语进行描述，但是应当将“前”、“后”、“左”、“右”、“外”、“内”、“向外”、“向内”、“上”、“下”等词语理解为方便用语，而不应当理解为限定性词语。

图1是本发明的磁浮导轨运动平台100的立体图，图2是图1的磁浮导轨运动平台100的另一立体图，图3是图1的磁浮导轨运动平台100的俯视图，图4是图1的磁浮导轨运动平台100的立体分解图，图5是图1的磁浮导轨运动平台100的主视图。如图1-5所示，磁浮导轨运动平台100包括底座10、Y向导轨20、下悬浮体30、X向导轨40、上悬浮体50以及Z向主动重力补偿装置60，Y向导轨20安装于底座10上，下悬浮体30安装于Y向导轨20上并能够沿Y向导轨20进行悬浮运动，X向导轨40与下悬浮体30固定连接以与下悬浮体30沿Y向导轨进行悬浮运动，上悬浮体50安装于X向导轨40上并能够沿X向导轨40进行悬浮运动，Z向主动重力补偿装置60安装于底座10上并与X向导轨40配合，在上悬浮体50沿X向导轨40运动的过程中，Z向主动重力补偿装置60动态地对X向导轨40进行悬浮支撑，其中，X向导轨20和Y向导轨40相互垂直。

具体地，Z向主动重力补偿装置60包括设置于X向导轨两端的励磁线圈623和设置于底座10上与励磁线圈配合的导磁层612，在上悬浮体50沿X向导轨40运动的过程中，励磁线圈中的电流随上悬浮体50的位置进行动态变化，从而动态地对X向导轨40进行悬浮支撑。

继续参照图1-5，底座10的上表面设有两块立板61，两块立板61布置在Y向导轨20的两侧并与Y向导轨20平行，每一块立板61的上部设有向X向导轨40的两端伸出的突出部613，突出部613的下表面设置导磁层612，X向导轨40的两端设置有L形构件62，L形构件62的水平部分622的上表面设置有励磁线圈623，励磁线圈623与突出部613下表面的导磁层612相互配合，当励磁线圈623通电时，在磁力的作用下对X向导轨进行动态悬浮支撑。虽然在图1-4所示的图形中，突出部613形成为凹槽的上部，然而本领域的技术人员应该理解，突出部613可以单独形成，即在立板61的侧面上一体向外伸出突出部613。

下面继续描述图1-5所示的凹槽的形式。每一块立板61的上部设有垂直于立板61的表面的凹槽611，凹槽611沿平行于Y向导轨20的方向延伸并在凹槽611的顶壁上设置导磁层612，L形构件62的水平部分622的上表面设置有励磁线圈623并配合安装于凹槽611内。在L形构件62的水平部分622上还设有间隙传感器63，该间隙传感器63与控制器(图未示)信号联通，该控制器接收间隙传感器63的信号并适时调节励磁线圈的电流大小，从而主动式地补偿由上悬浮体位置变化带来的不期望的重力。具体地，间隙传感器安装于L形构件62的水平部分622的侧面，以测量励磁线圈623与导磁层612的间距。

在一个实施例中，上述图1-5所示的立板61为铝合金板，该凹槽611也为铝合金凹槽。Z向主动重力补偿装置60设置为EI电机的形式，EI电机的E部分(即励磁线圈623)安装于X向导轨40的两端，EI电机的I部分(即导磁层612)安装于底座10上。下面参照图5-7对Z向主动重力补偿装置60的主动补偿方式进行说明。

图6-7是Z向主动重力补偿装置60的控制方式的框图，图8是EI电机的原理示意图。如图6-8所示，主动重力补偿的核心控制思想是通过间隙传感器测量间隙，构成反馈回路，控制器通过反馈信号，给予实时的响应，调节EI电机出力的大小，从而达到主动重力补偿的目的。具体的是，间隙传感器用以测量EI电机的励磁线圈“E”与其上方的导磁层“I”的间距，当上悬浮体50位于X向导轨40中间位置的时候，设定间隙保证左右间隙1、间隙2相等，从而保证导轨的水平。在上悬浮体50运动的过程中，随着上悬浮体50的位置变化，X向导轨会有一定程度的“倾斜”，出现一边下降，一边上升的现象，此时，下降的一侧的间隙传感器63可以测到下降的一侧间隙增大，上升的一侧的间隙传感器63可以检测到上升的一侧间隙减小，并将此信号反馈给控制器，控制器将会做出响应，间隙减小的一侧，输出到EI电机的命令使得EI电机出力相应减小，间隙增大的一侧，输出到EI电机的命令使得EI电机出力相应增大，最终以两侧间隙相等或者达到一定的误差范围为调节终止信号。

图9是本发明一实施例的X向导轨的立体分解图。下面参照图9对本发明的X向导轨进行说明。由于本发明的Y向导轨和X向导轨的结构和功能都相似，因此，此处仅仅参照图7对X向导轨进行说明，Y向导轨的结构与X向导轨的结构类似，此处不再赘述。

如图9所示，X向导轨40包括导轨主体41，导轨主体41的上表面设置有凹槽410，凹槽410的两侧分别设有导轨部411，导轨部411的上表面镶嵌有上硅钢片43，导轨部411的下表面镶嵌有下硅钢片44，导轨部411的侧面镶嵌有侧硅钢片42。与传统磁阻电机的线圈与导轨间采用整体的导轨进行磁力感应的情况相比，本发明采用的硅钢镶嵌的形式，硅钢外的材料不导磁，发热小，而传统形式整体发热大。凹槽410内设置直线电机定子45，直线电机定子45采用卧式设置，相比立式可使得纵向空间更紧凑。凹槽410的两端设置挡板46，通过挡板46限制直线电机动子的行程。紧贴凹槽410的侧壁还设置有光栅尺47，通过光删尺47为直线电机的直线运动提供位置反馈。

图10是本发明一实施例的上悬浮体50的立体图，图11是图10的上悬浮体50的立体分解图。下面参照图10-11对本发明的上悬浮体50进行说明。如图8-9所示，上悬浮体50整体上由上侧板51、左侧板52、右侧板53、左下侧板54和右下侧板55组装而成的框架结构，这种组装而成的上悬浮体，方便拆卸，利于某一面的重新设计。

继续参照图10-11，上悬浮体50的内部设置有多对对称分布的磁阻电机56。具体地，在本实施中，在上悬浮体50内设置有六对磁阻电机56，分别为设置于左右侧板上的两对磁阻电机56，设置于左下侧板54和上侧板51上的两对磁阻电机56，以及设置于右下侧板55和上侧板51上的两对磁阻电机56。在上侧板51的底部还设置有直线电机动子57，直线电机动子57与设置于X向导轨40上的直线电机定子45配合。上侧板51的底部还设置有光栅探头58，通过光栅探头58读取光栅尺47上的数据，从而7为直线电机的直线运动提供位置反馈。较佳地，光栅探头58和直线电机动子57并排布置并布置在顶板上设置的两个磁阻电机56之间。上悬浮体50的左侧板52和右侧板53的前表面和后表面上还设有测量上悬浮体水平方向悬浮间隙的水平传感器591，以及上侧板51和左下侧板54以及上侧板51和右下侧板55的前表面和后表面上还设有上悬浮体50的垂直方向悬浮间隙的垂直传感器592，通过水平传感器591和垂直传感器592适时控制上悬浮体50和X向导轨40的水平间隙和垂直间隙。

下悬浮体30的结构与上悬浮体50类似，此处不再赘述。区别在于下悬浮体30的框架优选为一体结构，并在框架的顶部与X向导轨固定连接。

综上，Y向导轨、Y向直线电机定子和基座固定连接为整个平台的上悬浮体和下悬浮体提供悬浮基座和Y方向的运动导轨，X向导轨与Y向直线电机动子固连在下悬浮体上，为上悬浮体提供悬浮基座和X向导轨。上悬浮体和下悬浮体与导轨面对应的地方装有磁阻电机和气隙传感器，通过磁阻电机通电产生的悬浮力以及气隙传感器的实时反馈，使悬浮体稳定悬浮于导轨上方。安装于悬浮体上的直线电机动子与安装于导轨上的直线电机定子驱动悬浮体沿导轨方向移动。Y向导轨上的直线电机动子的直线运动带动X向导轨运动，进而带动位于上悬浮体顶部的工作台沿Y方向运动，同时，X向导轨直线电机动子壳带动工作台及工作面实现X方向的精密快速定位，从而实现X、Y方向的联动。在整个运动的过程中，位于X向导轨两端的Z向主动重力补偿装置对X向导轨的两端进行支撑，从而使得该平台既能解决大载荷造成的能量消耗大，磁浮导轨动子结构不紧凑，质量过大的问题，又能实现大行程运动的功能。

上悬浮体和下悬浮体(上悬浮体和下悬浮体又统称为动子)中内嵌的水平方向的两对磁阻电机为提供水平方向的磁阻力，且磁阻力大小相等，方向相反，使其水平方向保持平衡，并维持一定的间隙，保证零摩擦；内嵌的竖直方向的四对磁阻电机为动子提供Z向的磁阻力，其中上下面的磁阻力大小不等，方向相反，力的大小差值，恰好为磁浮导轨动子自重及其负载。直线运动位移检测的光栅尺可获取运行过程中的实时位置，提供给控制器用于位置反馈控制。放置于X和Y向磁浮导轨动子上用于检测间隙的位移传感器组可获取磁浮导轨动子的实时间隙，提供给控制器用于姿态的反馈控制，与位置反馈控制相结合，二者共同维持动子的平稳运行。

在x向磁浮导轨动子长行程运动过程中，由于动子位置接近两端时，会产生较大转矩，此时用于主动重力补偿的装置发挥作用，其中固定在底座上的硅钢叠层和放置于X向磁浮导轨两端并固定在其下边沿的励磁线圈，二者产生磁阻力，主动式地补偿由动子位置变化带来的不期望的重力，进而使得转矩为0，导轨与动子始终保持受力均匀，从而能够保证二维磁浮导轨长行程高精度的平稳运行。用于主动重力补偿的EI电机，其工作模式为励磁模式，且出力与电流平方成正比，具有小电流，大推力的特点。

下面参照图12对本发明的磁浮导轨运动平台的另一实施例进行说明。图12是本发明另一实施例的磁浮导轨运动平台200的立体图。本实施例的磁浮导轨运动平台200与上一实施例的磁浮导轨运动平台100大部分相同，不同之处仅在于Z向主动重力补偿装置的设置方式。下文仅就不同之处进行详细描述，其他方面请参照图1-10所示的实施例的相关描述。

如图12所示，底座10上设置有四块立板61，四块立板61布置于Y向导轨20的两侧并与Y向导轨平行布置，其中底座10的上表面的两端各布置一块立板21，Y向导轨20与端部的立板61之间再布置一块立板61。每一块立板61的上部设有垂直于立板61表面的凹槽611，凹槽611沿平行于Y向导轨20的方向延伸，凹槽611的顶壁上设置有导磁层612，以及X向导轨40的两端分别设置有两个L形构件62，每一个L形构件62的水平部分与对应的一块立板61的凹槽611配合并在其上表面设置有励磁线圈623。

因此，本实施例主要是将X向磁浮导轨的主动重力补偿装置放置在不同位置，在更大行程的工作环境下，可以使得导轨受力更均匀，利于运动的高速和高稳定性。

此外，虽然本文中描述的实施例的立板61上的凹槽611的开口都是朝向X向导轨的同一侧的端部，然而，本领域的技术人员可以理解，凹槽611可以设置在立板61的任一侧面，并朝向X向导轨的任意一端，只需要与设置在X向导轨的底部L形构件的水平部分配合，就可以实现本发明的目的。

通过以上示例实施例的描述，本领域的技术人员可以清楚了解到，本发明通过Z向主动重力补偿装置对X向导轨进行悬浮支撑，从而不仅能解决大载荷造成的能量消耗大，磁浮导轨动子结构不紧凑，体积与质量过大的问题，又能解决导轨大载荷造成的导轨运行过程中受力不均以及多维磁悬浮导轨行程受限的问题，从而实现大行程运动的功能。

以上已详细描述了本发明的较佳实施例，但应理解到，在阅读了本发明的上述讲授内容之后，本领域技术人员可以对本发明作各种改动或修改。这些等价形式同样落于本申请所附权利要求书所限定的范围。

Claims (9)

1.一种磁浮导轨运动平台，其特征在于，所述磁浮导轨运动平台包括底座、Y向导轨、下悬浮体、X向导轨、上悬浮体以及Z向主动重力补偿装置，所述Y向导轨安装于所述底座上，所述下悬浮体安装于所述Y向导轨上并能够沿所述Y向导轨进行悬浮运动，所述X向导轨与所述下悬浮体固定连接以与所述下悬浮体沿所述Y向导轨进行悬浮运动，所述上悬浮体安装于所述X向导轨上并能够沿所述X向导轨进行悬浮运动，所述Z向主动重力补偿装置安装于所述底座上并与所述X向导轨配合，在所述上悬浮体沿所述X向导轨运动的过程中，所述Z向主动重力补偿装置动态地对所述X向导轨进行悬浮支撑，并主动式地补偿由上悬浮体位置变化而导致X向导轨两端悬浮间隙偏差，其中，所述X向导轨和所述Y向导轨相互垂直；所述Z向主动重力补偿装置包括设置于所述X向导轨两端的励磁线圈和设置于所述底座上与所述励磁线圈配合的导磁层，在所述上悬浮体沿所述X向导轨运动的过程中，所述励磁线圈中的电流随所述上悬浮体的位置进行动态变化，从而动态地对所述X向导轨进行悬浮支撑；所述底座的上表面设置四块立板，所述四块立板分布在所述Y向导轨两侧并与所述Y向导轨平行，每一块所述立板的上部设有垂直于所述立板表面的凹槽，所述凹槽沿平行于所述Y向导轨的方向延伸，所述凹槽的顶壁上设置有所述导磁层，以及所述X向导轨的两端分别设置有两个L形构件，每一个所述L形构件的水平部分与对应的一块所述立板的所述凹槽配合并在其上表面设置有所述励磁线圈。

2.根据权利要求1所述的磁浮导轨运动平台，其特征在于，所述L形构件的水平部分还设有间隙传感器，所述励磁线圈根据所述间隙传感器监测的数据调整通过的电流，从而在所述上悬浮体沿所述X向导轨运动的过程中对所述X向导轨的两端动态地进行悬浮支撑。

3.根据权利要求2所述的磁浮导轨运动平台，其特征在于，所述间隙传感器安装于所述水平部分的侧面以测量所述励磁线圈与所述导磁层的间距。

4.根据权利要求3所述的磁浮导轨运动平台，其特征在于，所述磁浮导轨运动平台还包括控制器，所述控制器与所述间隙传感器信号联通，所述控制器接收间隙传感器的信号并适时调节所述励磁线圈的电流大小，从而主动式地补偿由动子位置变化带来的不期望的重力。

5.根据权利要求1所述的磁浮导轨运动平台，其特征在于，每一块所述立板上的凹槽的开口都朝向所述X向导轨的两端。

6.根据权利要求5所述的磁浮导轨运动平台，其特征在于，所述X向导轨包括导轨主体，所述导轨主体的上表面设置有凹槽，所述凹槽的两侧分别设有导轨部，所述导轨部的上表面、下表面以及侧面镶嵌有硅钢片。

7.根据权利要求5所述的磁浮导轨运动平台，其特征在于，所述上悬浮体是由多块可拆卸的板组装而成的框架结构，且所述框架结构的内部设置有多对对称分布的磁阻电机。

8.根据权利要求5所述的磁浮导轨运动平台，其特征在于，所述凹槽内设置直线电机定子，所述直线电机定子采用卧式设置，以及在所述凹槽的两端设置挡板，通过所述挡板限制直线电机动子的行程。

9.根据权利要求5所述的磁浮导轨运动平台，其特征在于，紧贴所述凹槽的侧壁还设置有光栅尺，通过所述光栅尺为直线电机的直线运动提供位置反馈。

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