CN215639375U - 一种晶片平整度测量仪 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供一种晶片平整度测量仪，涉及蓝宝石加工技术领域，该一种晶片平整度测量仪，包括平整度测量仪，所述平整度测量仪的顶部设置有用于带动平整度测量仪沿纵向方向运动的纵向移动机构，所述纵向移动机构的顶部设置有横向移动机构，所述横向移动机构通过纵向移动机构带动所述平整度测量仪沿横向方向运动，所述横向移动机构的一侧固定连接有升降机构；启动升降机构，调整平整度测量仪与晶片之间的距离，通过纵向移动机构和横向移动机构调整平整度测量仪的位置，使得平整度测量仪能够测得晶片上不同区域的厚度，从而计算平整度，避免调节平整度测量仪时至倾斜状态，导致测得数据误差较大的问题。
Description
技术领域
本实用新型涉及蓝宝石加工技术领域，具体是一种晶片平整度测量仪。
背景技术
在蓝宝石上游加工领域，控制晶片的表面平整度是一个非常重要的环节，目前，一般将晶片粘贴在光滑平整的陶瓷盘上，然后通过研磨、抛光等工序满足下游工序对平整度、粗糙度及表面划痕的要求。
在授权公告号为CN201920740468.2的中国专利中公开了一种晶片平整度测量仪，包括伸缩式量表、支撑板和支架，所述支架至少为三个，所述支架贯穿支撑板与支撑板可拆卸连接，支架与支撑板的下侧形成有晶片放置区；所述晶片放置区内形成有安装孔，所述伸缩式量表贯穿所述安装孔并与支撑板可拆卸连接。本实用新型提出了一种晶片平整度测量仪，受环境因素影响较小，测量更加准确快捷，节省劳动力，提高生产效率。
但是，上述技术方案还存在以下缺陷，通过根据晶片尺寸和伸缩式量表显示的数据调节三个支架和伸缩式量表的位置和高度，而三个支架调节的高度会存在误差，导致支撑板处于倾斜状态时，肉眼无法察觉，因此会导致测得的数据误差较大。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种晶片平整度测量仪，旨在解决现有技术中的晶片平整度测量仪测量数据误差较大的问题。
为实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：一种晶片平整度测量仪，包括平整度测量仪，所述平整度测量仪的顶部设置有用于带动平整度测量仪沿纵向方向运动的纵向移动机构，所述纵向移动机构的顶部设置有横向移动机构，所述横向移动机构通过纵向移动机构带动所述平整度测量仪沿横向方向运动，所述横向移动机构的一侧固定连接有升降机构，所述升降机构用于带动平整度测量仪沿竖直方向上升或下降，所述升降机构包括L形底座，所述L形底座的顶部设置有大理石，且所述大理石位于所述平整度测量仪的正下方，所述L形底座的一侧设置有用于清除大理石表面灰尘的清灰机构。
为了使得本实用新型具有带动平整度测量仪纵向移动的作用，本实用新型的进一步的技术方案为，所述纵向移动机构包括用于安装平整度测量仪的安装板，所述安装板的顶部通过连接杆固定连接有第一滑块，所述第一滑块的外表面滑动连接有沿纵向设置的第一滑板，所述第一滑板的内部开设有与第一滑块相适配的第一滑槽，所述第一滑板的内部转动连接有第一螺纹杆，所述第一螺纹杆与所述第一滑块为螺纹连接，所述第一螺纹杆的一端贯穿至第一滑板的外部并固定连接有第一转盘。
为了使得本实用新型具有带动平整度测量仪横向移动的作用，本实用新型的进一步的技术方案为，所述横向移动机构包括与第一滑板固定连接的C型板，所述C型板的顶部固定连接有第二滑块，所述第二滑块的外表面滑动连接有沿横向设置的第二滑板，所述第二滑板的内部开设有与第二滑块相适配的第二滑槽，所述第二滑板的内部转动连接有第二螺纹杆，所述第二螺纹杆与所述第二滑块螺纹连接，所述第二螺纹杆的一端贯穿至第二滑板的外部并固定连接有第二转盘。
为了使得本实用新型具有带动平整度测量仪升降的作用，本实用新型的进一步的技术方案为，所述升降机构还包括固定连接在L形底座内部的第一伸缩部件，所述第一伸缩部件的输出端固定连接有支撑板，所述支撑板的顶部固定连接有导向杆，且所述L形底座上开设有与导向杆相适配的导向孔，所述导向杆的顶端延伸至L形底座的外部并固定连接有升降板，所述升降板的一侧通过支撑杆与横向移动机构固定连接。
为了使得本实用新型具有清除大理石表面灰尘的作用，本实用新型的进一步的技术方案为，所述清灰机构包括固定安装在L形底座一侧的固定板，所述固定板的底部固定安装有电机，所述电机的输出端通过驱动轴固定连接有清扫板，所述电机通过驱动轴带动清扫板转动时，清扫板的下表面与大理石的上表面相接触。
为了使得本实用新型具有稳固晶片的作用，本实用新型的进一步的技术方案为，所述L形底座的底部固定安装有第二伸缩部件，所述L形底座的内部开设有内腔，且所述第二伸缩部件的输出端延伸至内腔的内部并固定连接有活塞，所述大理石的中部开设有通孔，且所述内腔通过通孔与外界连通。
本实用新型的有益效果是：
1、测量晶片平整度时，将晶片放置在大理石的上方，打开平整度测量仪，启动升降机构，调整平整度测量仪与晶片之间的距离，通过纵向移动机构和横向移动机构调整平整度测量仪的位置，使得平整度测量仪能够测得晶片上不同区域的厚度，从而计算平整度，避免调节平整度测量仪时至倾斜状态，导致测得数据误差较大的问题，通过设置清灰机构，可清除大理石表面的灰尘。
2、电机通过驱动轴带动清扫板转动，可清扫大理石表面的灰尘，大理石上放置有吸盘，吸盘遮挡住通孔后，并与内腔形成密闭空间，启动第二伸缩部件带动活塞向下运动，能够将吸盘吸附在大理石上，避免测量晶片平整度时，触碰到晶片导致晶片落在地面导致损坏的问题。
附图说明
图1是本实用新型的具体实施例的立体结构示意图；
图2是本实用新型的具体实施例的正视结构示意图；
图3是本实用新型的具体实施例的纵向移动机构结构示意图；
图4是图3的俯视结构示意图；
图5是本实用新型的具体实施例的L形底座内部结构示意图；
图6是本实用新型的具体实施例的清灰机构结构示意图。
图中：1、平整度测量仪；2、纵向移动机构；201、安装板；202、连接杆；203、第一滑块；204、第一滑板；205、第一螺纹杆；206、第一转盘；3、横向移动机构；301、C型板；302、第二滑块；303、第二滑板；304、第二螺纹杆；305、第二转盘；4、升降机构；401、L形底座；402、第一伸缩部件；403、支撑板；404、导向杆；405、升降板；406、支撑杆；5、大理石；6、清灰机构；601、固定板；602、电机；603、驱动轴；604、清扫板；7、第二伸缩部件；8、内腔；9、活塞。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的具体实施方式作进一步的说明。
如图1-6所示，一种晶片平整度测量仪，包括平整度测量仪1，平整度测量仪1的顶部设置有用于带动平整度测量仪1沿纵向方向运动的纵向移动机构2，纵向移动机构2的顶部设置有横向移动机构3，横向移动机构3通过纵向移动机构2带动平整度测量仪1沿横向方向运动，横向移动机构3的一侧固定连接有升降机构4，升降机构4用于带动平整度测量仪1沿竖直方向上升或下降，升降机构4包括L形底座401，L形底座401的顶部设置有大理石5，且大理石5位于平整度测量仪1的正下方，L形底座401的一侧设置有用于清除大理石5表面灰尘的清灰机构6。
在本具体实施例中，测量晶片平整度时，将晶片放置在大理石5的上方，打开平整度测量仪1，启动升降机构4，调整平整度测量仪1与晶片之间的距离，通过纵向移动机构2和横向移动机构3调整平整度测量仪1的位置，使得平整度测量仪1能够测得晶片上不同区域的厚度，从而计算平整度，避免调节平整度测量仪1时至倾斜状态，导致测得数据误差较大的问题，通过设置清灰机构6，可清除大理石5表面的灰尘。
本实用新型的另一具体实施例中，纵向移动机构2包括用于安装平整度测量仪1的安装板201，安装板201的顶部通过连接杆202固定连接有第一滑块203，第一滑块203的外表面滑动连接有沿纵向设置的第一滑板204，第一滑板204的内部开设有与第一滑块203相适配的第一滑槽，第一滑板204的内部转动连接有第一螺纹杆205，第一螺纹杆205与第一滑块203为螺纹连接，第一螺纹杆205的一端贯穿至第一滑板204的外部并固定连接有第一转盘206，通过转动第一转盘206转动第一螺纹杆205，使得第一滑块204可通过连接杆202带动安装板201沿纵向方向运动，从而调整平整度测量仪1纵向的位置。
具体的，横向移动机构3包括与第一滑板204固定连接的C型板301，C型板301的顶部固定连接有第二滑块302，第二滑块302的外表面滑动连接有沿横向设置的第二滑板303，第二滑板303的内部开设有与第二滑块302相适配的第二滑槽，第二滑板303的内部转动连接有第二螺纹杆304，第二螺纹杆304与第二滑块302螺纹连接，第二螺纹杆304的一端贯穿至第二滑板303的外部并固定连接有第二转盘305，通过转动第二转盘305带动第二螺纹杆304转动，使得第二滑块302通过C型板301带动第一滑板203横向运动，因此能够调节平整度测量仪1横向的位置。
具体的，升降机构4还包括固定连接在L形底座401内部的第一伸缩部件402，第一伸缩部件402的输出端固定连接有支撑板403，支撑板403的顶部固定连接有导向杆404，且L形底座401上开设有与导向杆404相适配的导向孔，导向杆404的顶端延伸至L形底座401的外部并固定连接有升降板405，升降板405的一侧通过支撑杆406与横向移动机构3固定连接，通过启动第一伸缩部件402带动升降板405上升或下降，能够调节平整度测量仪1与大理石5之间的距离，第一伸缩部件402为气缸、液压缸或者电动伸缩杆。
具体的，清灰机构6包括固定安装在L形底座401一侧的固定板601，固定板601的底部固定安装有电机602，电机602的输出端通过驱动轴603固定连接有清扫板604，电机602通过驱动轴603带动清扫板604转动时，清扫板604的下表面与大理石5的上表面相接触，电机602通过驱动轴603带动清扫板604转动，可清扫大理石5表面的灰尘。
具体的，L形底座401的底部固定安装有第二伸缩部件7，L形底座401的内部开设有内腔8，且第二伸缩部件7的输出端延伸至内腔8的内部并固定连接有活塞9，大理石5的中部开设有通孔，且内腔8通过通孔与外界连通，大理石5上放置有吸盘，吸盘遮挡住通孔后，并与内腔8形成密闭空间，启动第二伸缩部件7带动活塞9向下运动，能够将吸盘吸附在大理石5上，避免测量晶片平整度时，触碰到晶片导致晶片落在地面导致损坏的问题，第二伸缩部件7为电动伸缩杆。
在本实用新型的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。
Claims (6)
1.一种晶片平整度测量仪，包括平整度测量仪(1)，其特征是：所述平整度测量仪(1)的顶部设置有用于带动平整度测量仪(1)沿纵向方向运动的纵向移动机构(2)，所述纵向移动机构(2)的顶部设置有横向移动机构(3)，所述横向移动机构(3)通过纵向移动机构(2)带动所述平整度测量仪(1)沿横向方向运动，所述横向移动机构(3)的一侧固定连接有升降机构(4)，所述升降机构(4)用于带动平整度测量仪(1)沿竖直方向上升或下降，所述升降机构(4)包括L形底座(401)，所述L形底座(401)的顶部设置有大理石(5)，且所述大理石(5)位于所述平整度测量仪(1)的正下方，所述L形底座(401)的一侧设置有用于清除大理石(5)表面灰尘的清灰机构(6)。
2.根据权利要求1所述的一种晶片平整度测量仪，其特征是，所述纵向移动机构(2)包括用于安装平整度测量仪(1)的安装板(201)，所述安装板(201)的顶部通过连接杆(202)固定连接有第一滑块(203)，所述第一滑块(203)的外表面滑动连接有沿纵向设置的第一滑板(204)，所述第一滑板(204)的内部开设有与第一滑块(203)相适配的第一滑槽，所述第一滑板(204)的内部转动连接有第一螺纹杆(205)，所述第一螺纹杆(205)与所述第一滑块(203)为螺纹连接，所述第一螺纹杆(205)的一端贯穿至第一滑板(204)的外部并固定连接有第一转盘(206)。
3.根据权利要求2所述的一种晶片平整度测量仪，其特征是，所述横向移动机构(3)包括与第一滑板(204)固定连接的C型板(301)，所述C型板(301)的顶部固定连接有第二滑块(302)，所述第二滑块(302)的外表面滑动连接有沿横向设置的第二滑板(303)，所述第二滑板(303)的内部开设有与第二滑块(302)相适配的第二滑槽，所述第二滑板(303)的内部转动连接有第二螺纹杆(304)，所述第二螺纹杆(304)与所述第二滑块(302)螺纹连接，所述第二螺纹杆(304)的一端贯穿至第二滑板(303)的外部并固定连接有第二转盘(305)。
4.根据权利要求1所述的一种晶片平整度测量仪，其特征是，所述升降机构(4)还包括固定连接在L形底座(401)内部的第一伸缩部件(402)，所述第一伸缩部件(402)的输出端固定连接有支撑板(403)，所述支撑板(403)的顶部固定连接有导向杆(404)，且所述L形底座(401)上开设有与导向杆(404)相适配的导向孔，所述导向杆(404)的顶端延伸至L形底座(401)的外部并固定连接有升降板(405)，所述升降板(405)的一侧通过支撑杆(406)与横向移动机构(3)固定连接。
5.根据权利要求1所述的一种晶片平整度测量仪，其特征是，所述清灰机构(6)包括固定安装在L形底座(401)一侧的固定板(601)，所述固定板(601)的底部固定安装有电机(602)，所述电机(602)的输出端通过驱动轴(603)固定连接有清扫板(604)，所述电机(602)通过驱动轴(603)带动清扫板(604)转动时，清扫板(604)的下表面与大理石(5)的上表面相接触。
6.根据权利要求1至5任一项所述的一种晶片平整度测量仪，其特征是，所述L形底座(401)的底部固定安装有第二伸缩部件(7)，所述L形底座(401)的内部开设有内腔(8)，且所述第二伸缩部件(7)的输出端延伸至内腔(8)的内部并固定连接有活塞(9)，所述大理石(5)的中部开设有通孔，且所述内腔(8)通过通孔与外界连通。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202120863046.1U CN215639375U (zh) | 2021-04-25 | 2021-04-25 | 一种晶片平整度测量仪 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202120863046.1U CN215639375U (zh) | 2021-04-25 | 2021-04-25 | 一种晶片平整度测量仪 |
Publications (1)
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| CN215639375U true CN215639375U (zh) | 2022-01-25 |
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| CN202120863046.1U Active CN215639375U (zh) | 2021-04-25 | 2021-04-25 | 一种晶片平整度测量仪 |
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| CN (1) | CN215639375U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114643687A (zh) * | 2022-02-22 | 2022-06-21 | 江苏兆丰智能装备制造有限公司 | 一种导电带自动化生产线及导电带制造方法 |
-
2021
- 2021-04-25 CN CN202120863046.1U patent/CN215639375U/zh active Active
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114643687A (zh) * | 2022-02-22 | 2022-06-21 | 江苏兆丰智能装备制造有限公司 | 一种导电带自动化生产线及导电带制造方法 |
| CN114643687B (zh) * | 2022-02-22 | 2024-04-30 | 江苏兆丰智能装备制造有限公司 | 一种导电带自动化生产线及导电带制造方法 |
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