CN118222997A - 防着板表面的钼去除工艺 - Google Patents
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- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 63
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 63
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 title claims abstract description 63
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 34
- JKQOBWVOAYFWKG-UHFFFAOYSA-N molybdenum trioxide Chemical compound O=[Mo](=O)=O JKQOBWVOAYFWKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 40
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims abstract description 30
- 238000007664 blowing Methods 0.000 claims abstract description 21
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 13
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 28
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 25
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 4
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 claims description 3
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 28
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 7
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 6
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 230000002596 correlated effect Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- VLAPMBHFAWRUQP-UHFFFAOYSA-L molybdic acid Chemical compound O[Mo](O)(=O)=O VLAPMBHFAWRUQP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/564—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F4/00—Processes for removing metallic material from surfaces, not provided for in group C23F1/00 or C23F3/00
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
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- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
本发明公开了一种防着板表面的钼去除工艺,包括如下步骤:提供附着有钼层的防着板;将防着板放置在烤架上,推入高温烤箱;开启高温烤箱,使得高温烤箱内的温度维持在350℃~600℃,并同时向高温烤箱内鼓入氧化性气体,充分反应使得防着板上的钼层被氧化性气体氧化成三氧化钼;反应完成后关闭高温烤箱,冷却后取出防着板;对防着板进行后处理。本发明的防着板表面的钼去除工艺通过将附着有钼层的防着板置于烤箱内350℃~600℃处理,并同时向高温烤箱内鼓入氧化性气体,从而使得防着板上的钼层被氧化性气体氧化成三氧化钼,三氧化钼会随着氧化性气体的鼓入,脱离防遮板表面,从而达到去除防着板表面的钼层的目的。
Description
技术领域
本发明涉及防着板表面清洗领域,尤其是涉及一种防着板表面的钼去除工艺。
背景技术
物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)指利用物理过程实现物质转移,将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。它的作用是可以使某些有特殊性能(强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等)的微粒喷涂在性能较低的母体上,使得母体具有更好的性能。PVD基本方法包括:真空蒸发、溅射、离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀)。
在PVD过程中,不仅仅是产品上有镀层,整个镀膜机的腔室内也都被溅射上了镀层,为了防止溅射的镀层污染整个腔室,通常会在腔室内壁四周围上一层可拆卸清洗的防着板。随着PVD过程,镀层积累会逐渐变厚,当镀层积累到一定程度就要将防着板拆卸下来进行清洗,清洗后重新使用。
而附着了不同的镀层的防着板,分别会采用不同的清洗工艺。对于附着了钼层的防着板(即,镀层为钼),传统的清洗工艺为硝酸(30%)浸泡工艺。通过高浓度硝酸对钼浸泡,钼以钼酸形式得到去除。
然而,钼与硝酸的反应速度与硝酸的浓度成正相关,当硝酸浓度降低时,钼的溶解速度(钼与硝酸的反应速度)大幅降低,当硝酸浓度低于10%时,钼的表面很快钝化,反应几乎停止,钼也基本上不再继续溶解。
这就导致对附着了钼层的防着板进行采用传统的硝酸清洗工艺时,不仅清洗工艺耗时较长,而且需要频繁地补充硝酸,操作流程较为繁琐。
发明内容
基于此,有必要提供一种可以解决上述问题的防着板表面的钼去除工艺。
一种防着板表面的钼去除工艺,包括如下步骤:
提供附着有钼层的防着板;
将所述防着板放置在烤架上,推入高温烤箱;
开启所述高温烤箱,使得所述高温烤箱内的温度维持在350℃~600℃,并同时向所述高温烤箱内鼓入氧化性气体,充分反应使得所述防着板上的钼层被所述氧化性气体氧化成三氧化钼;
反应完成后关闭所述高温烤箱,冷却后取出所述防着板;
对所述防着板进行后处理。
在一个实施例中,所述氧化性气体为氧气或空气。
在一个实施例中,向所述高温烤箱内鼓入氧化性气体的操作中,所述氧化性气体的流量为5L/min~20L/min。
在一个实施例中,开启所述高温烤箱,使得所述高温烤箱内的温度维持在350℃~600℃的操作为:开启所述高温烤箱,使得所述高温烤箱内的温度维持在400℃~500℃。
在一个实施例中,充分反应使得所述防着板上的钼层被所述氧化性气体氧化成三氧化钼的操作中,反应时间为6h~8h。
在一个实施例中,所述防着板为钛板。
在一个实施例中,对所述防着板进行后处理的操作为:将所述防着板用清洗干净后干燥。
在一个实施例中,还包括在将所述防着板放置在烤架上,推入高温烤箱的操作之后,在开启所述高温烤箱的操作之前,进行如下操作:在所述高温烤箱的出风口处设置高温滤网。
在一个实施例中,还包括在将所述防着板放置在烤架上,推入高温烤箱的操作之后,在开启所述高温烤箱的操作之前,进行如下操作:在所述烤架的下方设置收集板。
在一个实施例中,将所述防着板用清洗干净后干燥的操作为:采用浓度为20wt%~30wt%的硝酸清洗所述防着板后,再次用清水清洗干净,最后在50℃~200℃下干燥。
本发明的防着板表面的钼去除工艺通过将附着有钼层的防着板置于烤箱内350℃~600℃处理,并同时向所述高温烤箱内鼓入氧化性气体,从而使得所述防着板上的钼层被所述氧化性气体氧化成三氧化钼,三氧化钼会随着氧化性气体的鼓入,脱离防遮板表面,从而达到去除防着板表面的钼层的目的。
结合具体实施例,与传统的仅采用硝酸的工艺相比,本发明的防着板表面的钼去除工艺,不仅处理速度大幅度提升并且流程简单,减少了操作流程。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
其中:
图1为一实施方式的防着板表面的钼去除工艺的流程图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
结合图1,本发明公开了一实施方式的防着板表面的钼去除工艺,包括如下步骤:
S10、提供附着有钼层的防着板。
一般来说,防着板为钛板。
S20、将防着板放置在烤架上,推入高温烤箱。
需要注意的是,防着板放置在烤架上时,应当避免堆叠。
优选的,本实施方式中,S20还包括在将防着板放置在烤架上,推入高温烤箱的操作之后,进行如下操作:在高温烤箱的出风口处设置高温滤网。
优选的,本实施方式中,S20还包括在将防着板放置在烤架上,推入高温烤箱的操作之后,在开启高温烤箱的操作之前,进行如下操作:在烤架的下方设置收集板。
S30、开启高温烤箱,使得高温烤箱内的温度维持在350℃~600℃,并同时向高温烤箱内鼓入氧化性气体,充分反应使得防着板上的钼层被氧化性气体氧化成三氧化钼。
考虑到三氧化钼会随着氧化性气体的鼓入,脱离防遮板表面,通过设置高温滤网和收集板可以将这部分的三氧化钼收集起来。
一般来说,氧化性气体为氧气或空气。
通过鼓入氧气或空气,并且维持高温烤箱内的温度维持在350℃~600℃,既可以实现将防着板上的钼层氧化成三氧化钼,也可以避免防着板(钛板)本身被氧化。
优选的,本实施方式中,向高温烤箱内鼓入氧化性气体的操作中,氧化性气体的流量为5L/min~20L/min。
优选的,本实施方式中,开启高温烤箱,使得高温烤箱内的温度维持在350℃~600℃的操作为:开启高温烤箱,使得高温烤箱内的温度维持在400℃~500℃。
优选的,本实施方式中,充分反应使得防着板上的钼层被氧化性气体氧化成三氧化钼的操作中,反应时间为6h~8h。
S40、反应完成后关闭高温烤箱,冷却后取出防着板。
一般来说,反应完成后也随之停止鼓风,待高温烤箱内的温度降低至室温,即可取出防着板。
S50、对防着板进行后处理。
优选的,本实施方式中,对防着板进行后处理的操作为:将防着板用清洗干净后干燥。
具体来说,本实施方式中,将防着板用清洗干净后干燥的操作为:采用浓度为20wt%~30wt%的硝酸清洗防着板后,再次用清水清洗干净,最后在50℃~200℃下干燥。
本发明的防着板表面的钼去除工艺通过将附着有钼层的防着板置于烤箱内350℃~600℃处理,并同时向高温烤箱内鼓入氧化性气体,从而使得防着板上的钼层被氧化性气体氧化成三氧化钼,三氧化钼会随着氧化性气体的鼓入,脱离防遮板表面,从而达到去除防着板表面的钼层的目的。
结合具体实施例,与传统的仅采用硝酸的工艺相比,本发明的防着板表面的钼去除工艺,不仅处理速度大幅度提升,避免了硝酸的使用并且流程简单,减少了操作流程。
以下为具体实施例。其中,附着有钼层的防着板来自深圳某光电厂的同一批次的钛板。
实施例1
将20kg附着有钼层的防着板放入清洗槽中,放置在烤架上,推入高温烤箱。同时在高温烤箱的出风口处设置高温滤网,在烤架的下方设置收集板。
开启高温烤箱,使得高温烤箱内的温度维持在400℃,并同时向高温烤箱内鼓入空气(流量为10L/min),反应8h使得防着板上的钼层被氧化成三氧化钼,并随着空气的鼓入脱离防遮板表面,最终落入高温滤网和收集板上。
反应完成后关闭高温烤箱同时停止鼓风,待高温烤箱内的温度降低至室温后取出防着板。
采用浓度为30wt%的硝酸清洗防着板后,再次用清水清洗三次,最后在120℃下干燥。
实施例2
将20kg附着有钼层的防着板放入清洗槽中,放置在烤架上,推入高温烤箱。同时在高温烤箱的出风口处设置高温滤网,在烤架的下方设置收集板。
开启高温烤箱,使得高温烤箱内的温度维持在450℃,并同时向高温烤箱内鼓入空气(流量为10L/min),反应7h使得防着板上的钼层被氧化成三氧化钼,并随着空气的鼓入脱离防遮板表面,最终落入高温滤网和收集板上。
反应完成后关闭高温烤箱同时停止鼓风,待高温烤箱内的温度降低至室温后取出防着板。
采用浓度为30wt%的硝酸清洗防着板后,再次用清水清洗三次,最后在120℃下干燥。
实施例3
将20kg附着有钼层的防着板放入清洗槽中,放置在烤架上,推入高温烤箱。同时在高温烤箱的出风口处设置高温滤网,在烤架的下方设置收集板。
开启高温烤箱,使得高温烤箱内的温度维持在500℃,并同时向高温烤箱内鼓入空气(流量为10L/min),反应6h使得防着板上的钼层被氧化成三氧化钼,并随着空气的鼓入脱离防遮板表面,最终落入高温滤网和收集板上。
反应完成后关闭高温烤箱同时停止鼓风,待高温烤箱内的温度降低至室温后取出防着板。
采用浓度为30wt%的硝酸清洗防着板后,再次用清水清洗三次,最后在120℃下干燥。
对比例1
配制清洗液,其中,清洗液包括30wt%的硝酸。
将20kg附着有钼层的防着板放入清洗槽中,同时注入5L清洗液,使得防着板浸泡到清洗液中,同时开启气搅拌,反应24h后,将防着板取出。
将取出的防着板用清水清洗三次后,120℃热风吹干。
测试例
分别采用肉眼观测实施例1~3以及对比例1~3中,清洗干燥后的防着板的状态,结果如下表1所示。
表1
结合表1,可以看出,实施例1~3以及对比例1均可以实现防着板表面附着的钼层的去除,但是实施例1~3整体的耗时明显低于对比例1。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对申请专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。因此,本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (10)
1.一种防着板表面的钼去除工艺,其特征在于,包括如下步骤:
提供附着有钼层的防着板;
将所述防着板放置在烤架上,推入高温烤箱;
开启所述高温烤箱,使得所述高温烤箱内的温度维持在350℃~600℃,并同时向所述高温烤箱内鼓入氧化性气体,充分反应使得所述防着板上的钼层被所述氧化性气体氧化成三氧化钼;
反应完成后关闭所述高温烤箱,冷却后取出所述防着板;
对所述防着板进行后处理。
2.根据权利要求1所述的防着板表面的钼去除工艺,其特征在于,所述氧化性气体为氧气或空气。
3.根据权利要求2所述的防着板表面的钼去除工艺,其特征在于,向所述高温烤箱内鼓入氧化性气体的操作中,所述氧化性气体的流量为5L/min~20L/min。
4.根据权利要求2所述的防着板表面的钼去除工艺,其特征在于,开启所述高温烤箱,使得所述高温烤箱内的温度维持在350℃~600℃的操作为:开启所述高温烤箱,使得所述高温烤箱内的温度维持在400℃~500℃。
5.根据权利要求4所述的防着板表面的钼去除工艺,其特征在于,充分反应使得所述防着板上的钼层被所述氧化性气体氧化成三氧化钼的操作中,反应时间为6h~8h。
6.根据权利要求4所述的防着板表面的钼去除工艺,其特征在于,所述防着板为钛板。
7.根据权利要求1~6中任意一项所述的防着板表面的钼去除工艺,其特征在于,对所述防着板进行后处理的操作为:将所述防着板用清洗干净后干燥。
8.根据权利要求7所述的防着板表面的钼去除工艺,其特征在于,还包括在将所述防着板放置在烤架上,推入高温烤箱的操作之后,在开启所述高温烤箱的操作之前,进行如下操作:在所述高温烤箱的出风口处设置高温滤网。
9.根据权利要求8所述的防着板表面的钼去除工艺,其特征在于,还包括在将所述防着板放置在烤架上,推入高温烤箱的操作之后,在开启所述高温烤箱的操作之前,进行如下操作:在所述烤架的下方设置收集板。
10.根据权利要求7所述的防着板表面的钼去除工艺,其特征在于,将所述防着板用清洗干净后干燥的操作为:采用浓度为20wt%~30wt%的硝酸清洗所述防着板后,再次用清水清洗干净,最后在50℃~200℃下干燥。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202410472281.4A CN118222997A (zh) | 2024-04-18 | 2024-04-18 | 防着板表面的钼去除工艺 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202410472281.4A CN118222997A (zh) | 2024-04-18 | 2024-04-18 | 防着板表面的钼去除工艺 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN118222997A true CN118222997A (zh) | 2024-06-21 |
Family
ID=91506638
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202410472281.4A Pending CN118222997A (zh) | 2024-04-18 | 2024-04-18 | 防着板表面的钼去除工艺 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN118222997A (zh) |
-
2024
- 2024-04-18 CN CN202410472281.4A patent/CN118222997A/zh active Pending
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