CN118119235A - 显示面板及其制备方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本申请提供了一种显示面板及其制备方法、显示装置，属于显示技术领域。本申请提供的显示面板包括衬底，位于衬底一侧的像素，以及位于像素中层叠的像素电路和发光元件之间的绝缘层。由于绝缘层位于像素发光区的部分远离衬底的表面包括透镜组件，透镜组件包括依次排布的多个透镜，相邻透镜之间具有凸起结构和凹陷结构，且由于凸起结构和凹陷结构均包括相对的两个斜面，因此能够使得被限制在显示面板内的光线集中在斜面上，并经斜面较好的反射出显示面板，从而提高光线的出光量，改善光取出效果，提高显示面板的显示亮度，确保显示面板的显示效果较好。

Description

显示面板及其制备方法、显示装置

技术领域

本申请涉及显示技术领域，特别涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。

背景技术

有机发光二极管(organic light-emitting diode，OLED)因其自发光，反应快，视角广，亮度高，色彩鲜艳，重量轻及厚度薄等优点被广泛应用于显示面板中。

相关技术中，OLED显示面板一般包括：衬底，以及位于衬底一侧的多个像素。其中，每个像素包括像素电路和发光元件OLED，像素电路与发光元件OLED连接，并用于驱动发光元件OLED发光，从而使得显示面板显示画面。

但是，经研究发现，目前发光元件OLED发出的光线中出射角度较大的光线会被反射回显示面板内而无法从显示面板的出光侧出射，导致显示效果较差。

发明内容

本申请提供了一种显示面板及其制备方法、显示装置，可以解决相关技术中显示面板的显示效果较差的问题。所述技术方案如下：

一方面，提供了一种显示面板，所述显示面板包括：

衬底；

像素，位于所述衬底的一侧，且所述像素包括沿远离所述衬底的方向依次层叠的像素电路和发光元件，所述像素电路与所述发光元件连接，并用于驱动所述发光元件发光；

绝缘层，位于所述像素电路和所述发光元件之间，且所述绝缘层位于所述像素的发光区的部分远离所述衬底的表面包括透镜组件；其中，沿平行于所述衬底的承载面的方向，所述透镜组件包括依次排布的多个透镜，且相邻的所述透镜之间具有依次排布的至少一个凸起结构和至少一个凹陷结构；所述凸起结构沿远离所述衬底的方向凸起，且所述凸起结构远离所述衬底的一侧包括相交的第一表面和第二表面；所述凹陷结构沿靠近所述衬底的方向凹陷，且所述凹陷结构靠近所述衬底的一侧包括相交的第三表面和第四表面。

可选地，相邻的所述透镜之间具有的所述凸起结构和所述凹陷结构间隔排布。

可选地，间隔排布的所述凸起结构和所述凹陷结构中，相邻的所述凸起结构和所述凹陷结构相接。

可选地，所述凸起结构和所述凹陷结构相接的表面的延伸线共线。

可选地，相邻的所述透镜之间具有依次排布的一个凸起结构和两个凹陷结构。

可选地，沿垂直于所述衬底的承载面的方向，所述凸起结构的横截面的形状与所述凹陷结构的横截面的形状相同。

可选地，沿垂直于所述衬底的承载面方向，所述凸起结构的横截面的形状与所述凹陷结构的横截面的形状包括：三角锥形或圆弧锥形。

可选地，所述第一表面至所述第四表面中，任一表面与所述衬底的承载面的夹角的夹角范围均相同；

所述凸起结构的高度的高度范围不小于所述凹陷结构的深度的深度范围；其中，所述凸起结构的高度是指所述凸起结构远离所述衬底的顶点到所述绝缘层靠近所述衬底的一侧的距离；所述凹陷结构的深度是指所述凹陷结构远离所述衬底的一侧到所述凹陷结构靠近所述衬底一侧的距离。

可选地，所述夹角范围为20度至45度；所述高度范围为1.5微米至4微米；所述深度范围为0.5微米至1.5微米。

可选地，所述发光元件包括：沿远离所述衬底的方向依次层叠的第一电极、发光层和第二电极，且所述第一电极通过贯穿所述绝缘层的过孔与所述像素电路连接；

其中，所述发光层位于所述第一表面至所述第四表面中每个表面的部分的厚度，小于所述发光层位于除所述每个表面外的其他部分的厚度。

可选地，所述第一电极包括多个电极图案，所述发光层包括多个发光图案，所述显示面板还包括：

像素界定层，位于所述绝缘层远离所述衬底的一侧，且所述像素界定层具有多个镂空区，每个镂空区露出一个所述电极图案，每个所述发光图案通过一个所述镂空区与一个所述电极图案接触，所述镂空区为所述发光区。

可选地，所述像素电路用于驱动所述发光元件发出白光；所述显示面板还包括：

彩膜层，位于所述像素电路与所述绝缘层之间，且所述彩膜层包括不同颜色的多个色阻块，每个所述色阻块在所述衬底上的正投影与所述发光区在所述衬底上的正投影交叠；

并且，所述显示面板的出光侧为所述衬底远离所述像素的一侧，所述第一表面至所述第四表面中任一表面均用于反射来自所述衬底一侧的光线，以及反射后的光线经所述色阻块后从所述衬底的出光面一侧射出。

可选地，所述透镜组件呈网状结构。

另一方面，提供了一种显示面板的制备方法，用于制备如上述一方面所述的显示面板；所述方法包括：

提供衬底；

在所述衬底的一侧形成像素电路；

在所述像素电路远离所述衬底的一侧形成绝缘薄膜；

在所述绝缘薄膜远离所述衬底的一侧形成金属掩膜；

采用所述金属掩膜对所述绝缘薄膜进行刻蚀，形成绝缘层；

去除所述金属掩膜；

在所述绝缘层远离所述衬底的一侧形成发光元件，且连接所述发光元件与所述像素电路以得到多个像素，所述像素电路用于驱动所述发光元件发光；

其中，形成的所述绝缘层位于所述像素的发光区的部分远离所述衬底的表面包括透镜组件；并且，沿平行于所述衬底的承载面的方向，所述透镜组件包括依次排布的多个透镜，且相邻的所述透镜之间具有依次排布的至少一个凸起结构和至少一个凹陷结构；所述凸起结构沿远离所述衬底的方向凸起，且所述凸起结构远离所述衬底的一侧包括相交的第一表面和第二表面；所述凹陷结构沿靠近所述衬底的方向凹陷，且所述凹陷结构靠近所述衬底的一侧包括相交的第三表面和第四表面。

又一方面，提供了一种显示装置，所述显示装置包括：供电组件，以及如上述一方面所述的显示面板；

其中，所述供电组件与所述显示面板连接，并用于为所述显示面板供电。

综上所述，本申请提供的技术方案带来的有益效果至少包括：

提供了一种显示面板及其制备方法、显示装置。其中，显示面板包括衬底，位于衬底一侧的像素，以及位于像素中层叠的像素电路和发光元件之间的绝缘层。由于绝缘层位于像素发光区的部分远离衬底的表面包括透镜组件，透镜组件包括依次排布的多个透镜，相邻透镜之间具有凸起结构和凹陷结构，且由于凸起结构和凹陷结构均包括相对的两个斜面，因此能够使得被限制在显示面板内的光线集中在斜面上，并经斜面较好的反射出显示面板，从而提高光线的出光量，改善光取出效果，提高显示面板的显示亮度，确保显示面板的显示效果较好。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本申请实施例提供的一种显示面板的结构示意图；

图2是本申请实施例提供的一种具有透镜的绝缘层的结构示意图；

图3是本申请实施例提供的一种透镜的俯视结构示意图；

图4是本申请实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；

图5是本申请实施例提供的一种绝缘层及发光元件的结构示意图；

图6是本申请实施例提供的一种显示面板的制备方法的流程示意图；

图7是本申请实施例提供的一种形成有绝缘薄膜的结构示意图；

图8是本申请实施例提供的一种形成有金属掩膜的结构示意图；

图9是本申请实施例提供的一种形成的绝缘层的结构示意图；

图10是本申请实施例提供的一种显示装置的结构示意图。

具体实施方式

为使本申请的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本申请实施方式作进一步地详细描述。

常见的OLED显示面板一般为红绿蓝(RGB)三基色OLED单独发光的显示面板。该OLED显示面板的制备工艺简单成熟，操作方便。但是，针对高分辨率的显示需求，因需要高精度掩膜及精确对位，故导致产能较低，且成本较高。此外，三基色OLED的寿命、激发率和衰减度也相差较大，容易导致OLED显示面板出现色偏的显示不良。由此，提出一种采用白光OLED和彩膜相结合的OLED显示面板。该显示面板的制备过程中无需掩膜对位，且因通常采用底发射型发光方式，故还极大的简化了蒸镀过程，从而利于大尺寸高分辨率的制备。但是，在使用过程中发现，目前该类显示面板中，因出光量较小，光取出效果较差，故依然存在显示效果较差的问题。

基于此，本申请实施例提供了一种显示面板，可以较好的提高出光量，改善显示效果。如图1所示，该显示面板包括：衬底01，像素02和绝缘层03。

其中，像素02位于衬底01的一侧，且该像素02包括沿远离衬底01的方向依次层叠的像素电路021和发光元件022，像素电路021与发光元件022连接，并用于驱动发光元件022发光。例如，像素电路021可以向发光元件022提供发光驱动信号(如，驱动电流)，从而驱动发光元件022发光，下述实施例将像素02发光时光线出射的区域称为发光区。可以理解的是，衬底01可以具有显示区和至少部分围绕显示区的非显示区。像素02可以位于衬底01的显示区，相应的可知，像素02的发光区可以位于显示区。

绝缘层03位于像素电路021和发光元件022之间。并且，参考图1可以看出，绝缘层03在衬底01上的正投影可以覆盖像素电路021在衬底01上的正投影，且覆盖发光元件022在衬底01上的正投影。以及，绝缘层03可以具有过孔K0，像素电路021和发光元件022可以通过该过孔K0可靠连接。

在图1基础上，结合图2示出的绝缘层03的局部放大示意图和图3示出的俯视图可以看出，本申请实施例记载的绝缘层03位于像素02的发光区的部分远离衬底01的表面包括透镜(lens)组件031。其中，沿平行于衬底01的承载面的方向X1，透镜组件031包括依次排布的多个透镜0311，且相邻的透镜0311之间具有依次排布的至少一个凸起结构n和至少一个凹陷结构u。凸起结构n沿远离衬底01的方向凸起，且凸起结构n远离衬底01的一侧包括相交的第一表面n1和第二表面n2。凹陷结构u沿靠近衬底01的方向凹陷，且凹陷结构u靠近衬底01的一侧包括相交的第三表面u1和第四表面u2。

可以理解的是，凸起结构n中相交的第一表面n1和第二表面n2可以称为凸起结构n相对的两个斜面，凹陷结构u中相交的第三表面u1和第四表面u2可以称为凹陷结构u相对的两个斜面。该结构基础上，一方面，在制备发光元件022时，可以使得斜面上发光元件022的膜层厚度相对较薄，进而可以使得发光主要集中在斜面上。并且，对于照射至斜面的光线，可以按照比全反射临界角还小的角度传播，即能够被该斜面较好的反射出显示面板，从而使得被限制在显示面板内的光线能够较好的出射，而不会被困在显示面板内，进而可以提高显示面板的出光量和光取出效果，增加发光元件022的发光亮度，改善显示面板的显示效果，且同时还能够改善视角。另一方面，相对于仅凸起结构n或是仅凹陷结构u的设置，通过同时设置凸起结构n和凹陷结构u，可以增加光线的反射面积，从而增加显示面板的有效发光面积，更好的改善显示效果。又一方面，因在绝缘层03一侧制备透镜组件031即可，故操作简单，易于量产。

示例的，图2示意性示出平面大角度光线1和斜面大角度光线2。参考图2可以看出，光线1在衬底01的一侧发生全反射，无法经显示面板出射。而光线2经斜面反射后，光路自然发生改变，从而能够经显示面板可靠出射。

综上所述，本申请实施例提供了一种显示面板。该显示面板包括衬底，位于衬底一侧的像素，以及位于像素中层叠的像素电路和发光元件之间的绝缘层。由于绝缘层位于像素发光区的部分远离衬底的表面包括透镜组件，透镜组件包括依次排布的多个透镜，相邻透镜之间具有凸起结构和凹陷结构，且由于凸起结构和凹陷结构均包括相对的两个斜面，因此能够使得被限制在显示面板内的光线集中在斜面上，并经斜面较好的反射出显示面板，从而提高光线的出光量，改善光取出效果，提高显示面板的显示亮度，确保显示面板的显示效果较好。

可选地，结合1至图3可以看出，相邻的透镜0311之间具有的凸起结构n和凹陷结构u可以间隔排布。即，沿平行于衬底01的承载面的方向X1，可以按照一个凹陷结构u、一个凸起结构n、一个凹陷结构u……的方式依次排布。也即，在凸起结构n的相邻两侧分别设置凹陷结构u。当然，在一些其他实施例中，相邻的透镜0311之间具有的凸起结构n和凹陷结构u也可以非间隔排布。

可选地，结合1至图3可以看出，间隔排布的凸起结构n和凹陷结构u中，相邻的凸起结构n和凹陷结构u可以相接。即，相邻的凸起结构n和凹陷结构u可以连续设置。当然，在一些其他实施例中，相邻的凸起结构n和凹陷结构u也可以以一定间隔排布，即可以不连续设置。

可以理解的是，参考图2，在设置凸起结构n和凹陷结构u间隔且连续的基础上，可以使得照射至凸起结构n的斜面的光线以较大角度经凹陷结构u的斜面反射出去，从而可以增加发光面积，更好的提高显示面板的显示亮度。此外，还可以通过一次刻蚀同步形成凸起结构n和凹陷结构u，简化工艺，节省成本。

可选地，结合1至图3可以看出，凸起结构n和凹陷结构u相接的表面的延伸线可以共线。即，凸起结构n和凹陷结构u相接的斜面属于同一个斜面，与衬底01承载面的夹角相等。如此，可以使得光线在连续且共斜面的凸起结构n和凹陷结构u上进一步较好的反射出显示面板，即可以进一步确保示面板的显示效果较好。当然，在一些其他实施例中，凸起结构n和凹陷结构u相接的表面的延伸线也可以不共线，如呈折线方式延伸。

可选地，结合1至图3可以看出，相邻的透镜0311之间可以具有依次排布的一个凸起结构n和两个凹陷结构u。当然，这里的数量仅是示意性说明。

示例的，沿平行于衬底01的承载面的方向X1，该一个凸起结构n和两个凹陷结构u可以按照一个凹陷结构u、一个凸起结构n和一个凹陷结构u的顺序连续排布，且该一个凸起结构n与两侧相邻的凹陷结构u共斜面。

可选地，结合1至图3可以看出，沿垂直于衬底01的承载面的方向Y1，凸起结构n的横截面的形状与凹陷结构u的横截面的形状可以相同。

示例的，沿垂直于衬底01的承载面方向Y1，凸起结构n的横截面的形状与凹陷结构u的横截面的形状均可以包括：三角锥形或圆弧锥形。

可以理解的是，三角锥形可以是指斜面呈直线的锥形结构，圆弧锥形可以是指斜面呈弧线的锥形结构。

示例的，图1和图3示出的横截面形状均为三角锥形。三角锥形的凸起结构n也称为三角锥，三角锥形的凹陷结构u也称为三角形孔洞或三角形凹坑。

当然，在一些其他实施例中，凸起结构n的横截面的形状与凹陷结构u的横截面的形状也可以不同，本公开实施例对此不做限定。

可选地，结合图2，第一表面n1至第四表面u2中，任一表面与衬底01的承载面的夹角θ的夹角范围可以均相同。并且，凸起结构n的高度h的高度范围不小于(即，大于等于)凹陷结构u的深度d的深度范围。

其中，凸起结构n的高度h可以是指凸起结构n远离衬底01的顶点到绝缘层03靠近衬底01的一侧的距离。凹陷结构u的深度d可以是指凹陷结构u远离衬底01的一侧到凹陷结构u靠近衬底01一侧的距离。

示例的，夹角范围可以为20度(°)至45°。高度范围可以为1.5微米(μm)至4μm。深度范围可以为0.5μm至1.5μm。

可选地，参考图2还可以看出，其示出的绝缘层03中，凸起结构n的表面与衬底01的承载面的夹角θ为45°。凸起结构n的高度h为3.02μm，凹陷结构u的深度d为384纳米(nm)。以及，图2还示意性示出凹陷结构u的底部到绝缘层03靠近衬底01的一侧的距离l1，相邻的两个凸起结构n的间距l2，以及每个凸起结构n的宽度l3。其中，l1可以为1.06μm，l2可以为2.09μm，l3可以为2.24μm。当然，这里的数值均是示意性说明。

可选地，图4是本申请实施例提供的另一种显示面板的示意图。图5是在图4基础上示出的一种绝缘层03和发光元件022的局部放大示意图。

如图4和图5所示，发光元件022可以包括：沿远离衬底01的方向依次层叠的第一电极0221、发光层0222和第二电极0223，且参考图4可以看出，第一电极0221可以通过贯穿绝缘层03的过孔K0与像素电路021连接。即，发光元件022可以通过其中的第一电极0221与像素电路021搭接。像素电路021可以向第一电极0221提供发光驱动信号，且第二电极0223可以接收电源端提供的电源信号，发光层0222可以在发光驱动信号和电源信号的压差作用下可靠发光。可以理解的是，图1仅示意性示出发光元件022的第一电极0221。

其中，发光层0222位于第一表面n1至第四表面u2中每个表面的部分的厚度，可以小于发光层0222位于除每个表面外的其他部分的厚度。即，发光层0222在凸起结构n的斜面和凹陷结构u的斜面上的厚度相对较薄，如此可知，发光元件022的第一电极0221、发光层0222和第二电极0223的整体厚度在斜面上相对较薄。对于发光元件022，由于厚度较薄的部分相对于厚度较厚的部分更易出光，故可知如前文记载，发光元件022所发光线能够集中在斜面上。相应的可知，像素02的发光区其实可以认为是凸起结构n的斜面和凹陷结构u的斜面所在区域。也即是，像素02的发光区的实际发光面积可以等效为凸起结构n和凹陷结构u的总面积。

可选地，相同电流密度下要提高发光效率，增加发光亮度，则可以考虑减小像素02的发光区的实际发光面积。也即，对于像素02而言，位于像素02的发光区的凸起结构n和凹陷结构u远离衬底01一侧的面积可以小于像素02的发光区的面积。

可选地，第一电极0221可以为阳极(anode)，第二电极0223可以为阴极(cathode)，发光层0222可以为电致发光(electroluminescent，EL)层。当然，在一些其他实施例中，阳极和阴极还可以互换。

可选地，第一电极0221的材料可以为透明导电材料，如可以为氧化铟锡(indiumtin oxide，ITO)。相应的，第一电极0221也可以称为ITO层。

可选地，结合图1和图4可以看出，第一电极0221可以包括多个电极图案，发光层0222可以包括多个发光图案，显示面板还可以包括：像素界定层(pixel definitionlayer，PDL)。

该像素界定层PDL可以位于绝缘层03远离衬底01的一侧，且该像素界定层PDL可以具有多个镂空区Q1，每个镂空区Q1可以露出一个电极图案，每个发光图案可以通过一个镂空区Q1与一个电极图案接触。相应的可知，镂空区Q1即可以为前文记载的发光区。

可选地，在本申请实施例中，像素电路021可以用于驱动发光元件022发出白光。在此基础上，结合图1和图4可以看出，显示面板还可以包括：彩膜(color filter，CF)层CF。

彩膜层CF可以位于像素电路021与绝缘层03之间，且彩膜层CF可以包括不同颜色的多个色阻块CF1，每个色阻块CF1在衬底01上的正投影与发光区在衬底01上的正投影可以交叠。如，每个色阻块CF1在衬底01上的正投影可以覆盖一个像素02的发光区在衬底01上的正投影。

并且，显示面板的出光侧可以为衬底01远离像素02的一侧，第一表面n1至第四表面u2中任一表面均可以用于反射来自衬底01一侧的光线，以及反射后的光线经色阻块后可以从衬底01的出光面一侧射出。也即，本申请实施例记载的显示面板可以为前文记载的白光OLED和彩膜相结合的底发射显示面板。

示例的，彩膜层CF可以包括红色色阻块CF1、绿色色阻块CF1和蓝色色阻块CF1，且红色色阻块CF1、绿色色阻块CF1和蓝色色阻块CF1可以与三个像素02的发光区一一对应，以发出红光、绿光和蓝光。

可选地，对于不同颜色的像素02，绝缘层03可以包括一一对应的不同透镜组件031。并且，该不同的透镜组件031中凸起结构n的斜面或是凹陷结构u的斜面与衬底01的承载面的夹角可以不同。

因不同颜色的像素02属性不同，故不同颜色的像素02的寿命不同，进而会导致显示面板在一段在使用一段时间之后的显示效果较差。通常情况下，像素02的发光区的实际发光面积越大，电流密度越大，寿命越长。相应的，可以设置寿命较短的像素02的实际发光面积大于寿命较长的像素02的实际发光面积，从而平衡不同颜色的像素02的寿命。由此，通过设置不同颜色的像素02一一对应的各个透镜组件031中斜面与衬底01的承载面的夹角不同，可以使得不同像素02的实际发光面积不同，从而较好的平衡不同颜色的像素02的寿命。一般，夹角越大，实际发光面积越大；反之，夹角越小，实际发光面积越小。可选地，参考图3还可以看出，本申请实施例记载的透镜组件031可以呈网状结构。即，透镜组件031可以包括阵列排布的多个网格。

可选地，该多个网格的形状可以相同，当然也可以不同。可以理解的是，设置多个网格的形状相同，可以使得发光区发出的光线较为均匀，进而使得显示面板的发光均一性较好。示例的，参考图3，其示出的网格的形状为六边形。

可选地，继续参考图3可以看出，每个网格围成的区域(网格围成的区域即为透镜0311)在衬底01上的正投影的形状可以为圆形。因圆形上的各点到圆心的距离相等，故可以保证凸起结构n或凹陷结构u的任意位置到圆心之间的距离相等。由此可以保证斜面上的任意位置对光线的光取出效果的均一性较好。

可选地，继续参考图1和图4可以看出，像素电路021可以包括：多个薄膜晶体管(thin film transistor，TFT)。每个TFT可以包括：沿远离衬底01的方向依次层叠的栅(gate)金属层G1，第一栅绝缘层(gate insulator，GI)GI1，有源(active)层A1，第二栅绝缘层GI2，以及源漏(source&drain，SD)金属层SD。其中，源漏金属层SD可以包括间隔的源极金属层S1和漏极金属层D1，且像素电路021中的TFT可以通过其中的源漏金属层SD与发光元件022的第一电极0221搭接。当然，这里TFT的结构仅是示意性说明。

可选地，像素电路021可以为7T1C(即，包括7个TFT和1个电容)结构，或者也可以为其他结构，如10T2C。

可选地，继续参考图1和图4可以看出，显示面板还可以包括：位于像素电路021与彩膜层CF之间的钝化层(passivation layer，PVX)。绝缘层03的材料可以为树脂(resin)。相应的，绝缘层03也可以称为Resin层。衬底01的材料可以为玻璃(galss)，或者在一些其他实施例中，衬底01也可以为可折叠的柔性衬底，相应的，衬底01的材料可以为聚酰亚胺(polyimide，PI)。

可选地，在本申请实施例中，透镜组件031除可以位于发光区外，还可以位于其他区。如，可以位于像素界定层PDL与绝缘层03之间。

可以理解的是，本申请实施例通过设置绝缘层03位于像素02的发光区的部分包括透镜组件031，且设置透镜组件包括依次排布的多个透镜，相邻透镜之间具有凸起结构和凹陷结构，可以使得被困在显示面板内的光线经凸起结构的斜面和凹陷结构的斜面可靠出射，从而可以增加底发射OLED器件的有效发光面积，再结合三角锥较好的光取出效果，可以使得相同电流密度下OLED的发光亮度增加，从而确保显示面板的显示效果较好。

综上所述，本申请实施例提供了一种显示面板。该显示面板包括衬底，位于衬底一侧的像素，以及位于像素中层叠的像素电路和发光元件之间的绝缘层。由于绝缘层位于像素发光区的部分远离衬底的表面包括透镜组件，透镜组件包括依次排布的多个透镜，相邻透镜之间具有凸起结构和凹陷结构，且由于凸起结构和凹陷结构均包括相对的两个斜面，因此能够使得被限制在显示面板内的光线集中在斜面上，并经斜面较好的反射出显示面板，从而提高光线的出光量，改善光取出效果，提高显示面板的显示亮度，确保显示面板的显示效果较好。

本申请实施例还提供了一种显示面板的制备方法，该方法能够用于制备如前文记载的显示面板。如图6所示，该方法包括：

步骤601、提供衬底。

可选地，结合图1和图7，提供的衬底01可以为玻璃基板或柔性衬底。

步骤602、在衬底的一侧形成像素电路。

可选地，结合图1和图7，在获取到衬底01后，可以在衬底01上依次形成栅金属层G1，第一栅绝缘层GI1，有源层A1，第二栅绝缘层GI2，以及源漏金属层SD1得到TFT，以形成所需的像素电路021。可以理解的是，这里仅是以一个像素02中像素电路021的形成为例进行说明。

可选地，像素电路021的各膜层可以采用构图工艺形成。构图工艺包括：光刻胶涂覆，曝光，显影，刻蚀以及去除光刻胶等一系列工艺步骤。

步骤603、在像素电路远离衬底的一侧形成绝缘薄膜。

可选地，结合图1和图7可知，在形成绝缘薄膜之前，还可以先在TFT远离衬底01的一侧依次形成钝化层PVX和彩膜层CF。之后，再在彩膜层CF远离衬底01的一侧形成绝缘薄膜M1。参考图7，该绝缘薄膜M1远离衬底01的一侧可以为平坦表面，相应的，该绝缘薄膜M1也可以称为平坦化层。

可选地，该绝缘薄膜M1的材料可以为树脂resin。相应的，在制备中，可以通过在彩膜层CF远离衬底01的一侧涂覆树脂resin材料形成该绝缘薄膜M1。

步骤604、在绝缘薄膜远离衬底的一侧形成金属掩膜。

可选地，参考图8，在形成绝缘薄膜M1后，可以先在绝缘薄膜M1远离衬底01的一侧形成金属薄膜，然后再采用图案化处理工艺对金属薄膜进行处理得到所需的金属掩膜M2。并且，形成的金属掩膜M2的形状可以大致为后续所需形成的凸起结构n和凹陷结构u的形状，如可以为图3所示的形状。

可选的，金属掩膜M2的材料可以为金属钼(Mo)，当然也可以为其他金属材料。金属掩膜M2也可以称为金属硬掩模(hard mask)。

步骤605、采用金属掩膜对绝缘薄膜进行刻蚀，形成绝缘层。

可选地，在形成金属掩膜M2后，即可以基于该金属掩膜M2对绝缘薄膜M1进行刻蚀，如进行各向同性的干刻，从而得到如图2和图9所示的绝缘层03。并且，结合图2和图9可以看出，形成的绝缘层03位于像素02的发光区的部分远离衬底01的表面包括透镜组件031。并且，沿平行于衬底01的承载面的方向X1，透镜组件031包括依次排布的多个透镜0311，且相邻的透镜0311之间具有依次排布的至少一个凸起结构n和至少一个凹陷结构u。凸起结构n沿远离衬底01的方向凸起，且凸起结构n远离衬底01的一侧包括相交的第一表面n1和第二表面n2。凹陷结构u沿靠近衬底01的方向凹陷，且凹陷结构u靠近衬底01的一侧包括相交的第三表面u1和第四表面u2。

可以理解的是，由于刻蚀工艺的影响，通常会导致凸起结构n或凹陷结构u的中部的宽度和高度都小于两端。当然，中部的宽度和高度也可以不小于两端。

步骤606、去除金属掩膜。

可选地，结合图9，在刻蚀形成绝缘层03后，即可去除(strip)该金属掩M2。也即，该金属掩膜M2是用于形成绝缘成03的结构，而非显示面板的结构。

步骤607、在绝缘层远离衬底的一侧形成发光元件，且连接发光元件与像素电路以得到多个像素，像素电路用于驱动发光元件发光。

可选地，结合图4，在形成绝缘层03之后，首先，可以在绝缘层03远离衬底01的一侧形成第一电极0221(如，阳极)，且形成的阳极的形状与像素02的形状可以相同，阳极的材料可以为ITO。然后，可以在第一电极0221远离衬底01的一侧形成像素界定层PDL。最后，可以在像素界定层PDL远离衬底01的一侧依次蒸镀形成发光层0222和第二电极0223(如，阴极)，从而形成发光元件022。并且，在形成绝缘层03时可以在绝缘层03上开设过孔K0，以供发光元件022与像素电路021连接。可以理解的是，在凹陷结构u的底部，形成的发光层0222和第二电极0223会不可避免的出现堆积。

可选地，在形成发光元件022之后，还可以对发光元件022进行封装。即，可以在发光元件022远离衬底01的一侧形成封装层。

示例的，封装层可以包括：沿远离衬底01的方向层叠设置的第一封装层，第二封装层以及第三封装层。该第一封装层和该第三封装层可以由无机材料制成，该第二封装层可以由有机材料制成。例如，该第一封装层和该第三封装层可以由氮化硅(SiNx)、氧化硅(SiOx)和氮氧化硅(SiOxNy)等一种或多种无机氧化物制成。第二封装层可以由树脂材料制成。该树脂可以为热塑性树脂或热塑性树脂，热塑性树脂可以包括亚克力(PMMA)树脂，热固性树脂可以包括环氧树脂。第二封装层可以采用喷墨打印(ink jet printing，IJP)的方法制作。第一封装层和第三封装层可以采用化学气相沉积(chemical vapor deposition，CVD)的方法制作。

综上所述，本申请实施例提供了一种显示面板的制备方法，该方法制备的显示面板包括衬底，位于衬底一侧的像素，以及位于像素中层叠的像素电路和发光元件之间的绝缘层。由于绝缘层位于像素发光区的部分远离衬底的表面包括透镜组件，透镜组件包括依次排布的多个透镜，相邻透镜之间具有凸起结构和凹陷结构，且由于凸起结构和凹陷结构均包括相对的两个斜面，因此能够使得被限制在显示面板内的光线集中在斜面上，并经斜面较好的反射出显示面板，从而提高光线的出光量，改善光取出效果，提高显示面板的显示亮度，确保显示面板的显示效果较好。

本申请实施例还提供了一种显示装置。如图10所示，该显示装置包括：供电组件10，以及如前文记载的显示面板00。

其中，供电组件10与显示面板00连接，并用于为显示面板00供电。

可选的，该显示装置可以为OLED显示装置。且该显示装置可以为任意适当的显示装置，包括但不限于手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪以及电子书等任何具有显示功能的产品或部件。

由于显示装置可以与前面实施例描述的显示面板具有基本相同的技术效果，因此，出于简洁的目的，此处不再重复描述显示装置的技术效果。

可以理解的是，本申请的实施方式部分使用的术语仅用于对本申请的实施例进行解释，而非旨在限定本申请。除非另作定义，本申请的实施方式使用的技术术语或者科学术语应当为本申请所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。

还可以理解的是，本申请的实施方式部分使用的术语仅用于对本申请的实施例进行解释，而非旨在限定本申请。除非另作定义，本申请的实施方式使用的技术术语或者科学术语应当为本申请所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本申请专利申请说明书以及权利要求书中使用的“第一”、“第二”、“第三”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“一个”或者“一”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在至少一个。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现在“包括”或者“包含”前面的元件或者物件涵盖出现在“包括”或者“包含”后面列举的元件或者物件及其等同，并不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则所述相对位置关系也可能相应地改变。

以上所述仅为本申请的可选实施例，并不用以限制本申请，凡在本申请的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本申请的保护范围之内。

Claims (15)

1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括：

衬底；

像素，位于所述衬底的一侧，且所述像素包括沿远离所述衬底的方向依次层叠的像素电路和发光元件，所述像素电路与所述发光元件连接，并用于驱动所述发光元件发光；

绝缘层，位于所述像素电路和所述发光元件之间，且所述绝缘层位于所述像素的发光区的部分远离所述衬底的表面包括透镜组件；其中，沿平行于所述衬底的承载面的方向，所述透镜组件包括依次排布的多个透镜，且相邻的所述透镜之间具有依次排布的至少一个凸起结构和至少一个凹陷结构；所述凸起结构沿远离所述衬底的方向凸起，且所述凸起结构远离所述衬底的一侧包括相交的第一表面和第二表面；所述凹陷结构沿靠近所述衬底的方向凹陷，且所述凹陷结构靠近所述衬底的一侧包括相交的第三表面和第四表面。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，相邻的所述透镜之间具有的所述凸起结构和所述凹陷结构间隔排布。

3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，间隔排布的所述凸起结构和所述凹陷结构中，相邻的所述凸起结构和所述凹陷结构相接。

4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述凸起结构和所述凹陷结构相接的表面的延伸线共线。

5.根据权利要求1至4任一所述的显示面板，其特征在于，相邻的所述透镜之间具有依次排布的一个凸起结构和两个凹陷结构。

6.根据权利要求1至4任一所述的显示面板，其特征在于，沿垂直于所述衬底的承载面的方向，所述凸起结构的横截面的形状与所述凹陷结构的横截面的形状相同。

7.根据权利要求1至4任一所述的显示面板，其特征在于，沿垂直于所述衬底的承载面方向，所述凸起结构的横截面的形状与所述凹陷结构的横截面的形状包括：三角锥形或圆弧锥形。

8.根据权利要求1至4任一所述的显示面板，其特征在于，所述第一表面至所述第四表面中，任一表面与所述衬底的承载面的夹角的夹角范围均相同；

所述凸起结构的高度的高度范围不小于所述凹陷结构的深度的深度范围；其中，所述凸起结构的高度是指所述凸起结构远离所述衬底的顶点到所述绝缘层靠近所述衬底的一侧的距离；所述凹陷结构的深度是指所述凹陷结构远离所述衬底的一侧到所述凹陷结构靠近所述衬底一侧的距离。

9.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述夹角范围为20度至45度；所述高度范围为1.5微米至4微米；所述深度范围为0.5微米至1.5微米。

10.根据权利要求1至4任一所述的显示面板，其特征在于，所述发光元件包括：沿远离所述衬底的方向依次层叠的第一电极、发光层和第二电极，且所述第一电极通过贯穿所述绝缘层的过孔与所述像素电路连接；

其中，所述发光层位于所述第一表面至所述第四表面中每个表面的部分的厚度，小于所述发光层位于除所述每个表面外的其他部分的厚度。

11.根据权利要求10所述的显示面板，其特征在于，所述第一电极包括多个电极图案，所述发光层包括多个发光图案，所述显示面板还包括：

像素界定层，位于所述绝缘层远离所述衬底的一侧，且所述像素界定层具有多个镂空区，每个镂空区露出一个所述电极图案，每个所述发光图案通过一个所述镂空区与一个所述电极图案接触，所述镂空区为所述发光区。

12.根据权利要求1至4任一所述的显示面板，其特征在于，所述像素电路用于驱动所述发光元件发出白光；所述显示面板还包括：

彩膜层，位于所述像素电路与所述绝缘层之间，且所述彩膜层包括不同颜色的多个色阻块，每个所述色阻块在所述衬底上的正投影与所述发光区在所述衬底上的正投影交叠；

并且，所述显示面板的出光侧为所述衬底远离所述像素的一侧，所述第一表面至所述第四表面中任一表面均用于反射来自所述衬底一侧的光线，以及反射后的光线经所述色阻块后从所述衬底的出光面一侧射出。

13.根据权利要求1至4任一所述的显示面板，其特征在于，所述透镜组件呈网状结构。

14.一种显示面板的制备方法，其特征在于，用于制备如权利要求1至13任一所述的显示面板；所述方法包括：

提供衬底；

在所述衬底的一侧形成像素电路；

在所述像素电路远离所述衬底的一侧形成绝缘薄膜；

在所述绝缘薄膜远离所述衬底的一侧形成金属掩膜；

采用所述金属掩膜对所述绝缘薄膜进行刻蚀，形成绝缘层；

去除所述金属掩膜；

在所述绝缘层远离所述衬底的一侧形成发光元件，且连接所述发光元件与所述像素电路以得到多个像素，所述像素电路用于驱动所述发光元件发光；

其中，形成的所述绝缘层位于所述像素的发光区的部分远离所述衬底的表面包括透镜组件；并且，沿平行于所述衬底的承载面的方向，所述透镜组件包括依次排布的多个透镜，且相邻的所述透镜之间具有依次排布的至少一个凸起结构和至少一个凹陷结构；所述凸起结构沿远离所述衬底的方向凸起，且所述凸起结构远离所述衬底的一侧包括相交的第一表面和第二表面；所述凹陷结构沿靠近所述衬底的方向凹陷，且所述凹陷结构靠近所述衬底的一侧包括相交的第三表面和第四表面。

15.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括：供电组件，以及如权利要求1至13任一所述的显示面板；

其中，所述供电组件与所述显示面板连接，并用于为所述显示面板供电。