CN118052902A - 数据处理方法、光刻处理系统及可读存储介质 - Google Patents
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Abstract
本申请涉及凹版印刷技术领域,具体公开一种数据处理方法、光刻处理系统及可读存储介质。方法包括对预设的立体模型进行高度方向上的数据压缩处理,得到位于二维平面的矢量线条数据;生成透光模板集T={T1,T2,…,TN},获取立体模型表面在各采样点位置处的法向量,并根据各采样点的法向量与二维平面的夹角,确定各采样点的透光级;根据各采样点的透光级与各透光模板的对应关系,确定各采样点对应的透光模板;叠加矢量线条数据与各采样点对应的透光模板,得到光刻数据。由于线条之间填充有不同疏密度的透光网点,因此可以在体现3D景深的变化的同时,实现透光率的渐变效果,体现出立体模型的光影变化,立体效果的表达方式更多元,更能体现真实立体感。
Description
技术领域
本申请涉及凹版印刷技术领域,特别是涉及一种数据处理方法、光刻处理系统及可读存储介质。
背景技术
凹版印刷术是利用拓印的原理,将图文雕刻在平面或圆筒状的金属表面而制成印版,凹版印刷的印版由与原稿图文相对应的下凹部分和空白的印版表面组成,印刷时,将油墨填充于下凹部分,通过刮墨刀将印版表面的油墨刮干净,再控制印版表面与承印物以一定的压力接触,将下凹部分的油墨转移到承印物上,由此完成印刷。
然而,现有的凹印技术一般仅是通过油墨的颜色深浅来体现图像的浮雕感,无法体现真实立体感,且由于只有颜色深浅这一种表达方式,表达效果较为单一。
发明内容
基于此,有必要针对上述问题,提供一种数据处理方法、光刻处理系统及计算机可读存储介质。
根据本申请实施例的第一方面,提供一种数据处理方法,包括:
对预设的立体模型进行高度方向上的数据压缩处理,得到位于二维平面的矢量线条数据;
生成透光模板集T={T1,T2,…,TN},所述透光模板集T中包括N个透光模板;
获取所述立体模型表面在各采样点位置处的法向量,并根据各所述采样点的法向量与二维平面的夹角,确定各所述采样点的透光级;
根据各所述采样点的透光级与各所述透光模板的对应关系,确定各所述采样点对应的透光模板;
叠加所述矢量线条数据与各所述采样点对应的透光模板,得到光刻数据。
在其中一个实施例中,所述对预设的立体模型进行高度方向上的数据压缩处理,得到位于二维平面的矢量线条数据的步骤包括:
对所述立体模型进行等高切分,并将所述立体模型表面的切分点投影至二维平面,形成若干投影点;
将同一高度的切分点所对应的投影点依次连接,形成若干折线;
对各所述折线进行拟合处理,得到若干曲线,以若干曲线作为所述矢量线条数据。
在其中一个实施例中,各矢量线条连续,不同的矢量线条不相交,且每个矢量线条对应立体模型的一个高度。
在其中一个实施例中,在所述生成透光模板集T={T1,T2,…,TN},所述透光模板集T中包括N个透光模板的步骤中,根据文件分辨率和设备数据分辨率获得透光模板的像素尺寸,透光模板的宽度W’=文件分辨率/设备数据分辨率,透光模板的高度L’=透光模板的宽度W’;
其中,所述透光模板集中透光模板的数量N≤透光模板的宽度*透光模板的高度+1;所述透光模板中包含W’*L’个像素,包括透光像素和不透光像素;
T1为透光级最低的透光模板,表示不透光;
TN为透光级最高的透光模板,表示全透;
所述透光模板集中,所述透光级越高,所述透光模板中透光像素的数量越多。
在其中一个实施例中,在所述获取所述立体模型表面在各采样点位置处的法向量,并根据各所述采样点的法向量与二维平面的夹角,确定各所述采样点的透光级的步骤中,所述夹角与所述透光级的映射关系通过如下公式表示:
T(a)=Tmax-fabs(a-90)*Td
Td=Tmax/90
其中,Tmax为最大透光级,a为所述法向量与二维平面的夹角,Td为透光级的最小分辨率,T(a)为当所述法向量与二维平面的夹角为a时所述采样点的透光级,T(a)为整数。
在其中一个实施例中,当所述夹角位于0°至90°之间时,所述夹角越大,对应的所述透光级越高;
当所述夹角位于90°至180°之间时,所述夹角越大,对应的所述透光级越低。
在其中一个实施例中,所述透光模板的形状包括圆形、正方形、X型、十字形中的任意一种。
在其中一个实施例中,所述叠加所述矢量线条数据与各所述采样点对应的透光模板,得到光刻数据的步骤包括:
根据文件分辨率将矢量图转化为位图;
根据各采样点对应的透光模板对位图中的线条数据进行填充,对位图中的空白区域采用透光模板集中透光级最高的透光模板进行填充,以获得光刻数据;或者,根据各采样点对应的透光模板对位图中的空白区域进行填充,对位图中的空白区域采用透光板集中透光级最高的透光模板进行填充,以获得光刻数据。
在其中一个实施例中,所述立体模型包括由规则曲面组合而成的三维曲面,或者由多边形网络拟合而成的三维曲面,或者灰度位图,当所述立体模型为灰度位图时,灰度对应立体模型的高度,像素坐标对应立体模型的二维坐标。
根据本申请实施例的第二方面,提供一种光刻处理系统,包括存储器和处理器,所述存储器存储有计算机程序,所述处理器执行所述计算机程序时实现上述的数据处理方法。
根据本申请实施例的第三方面,提供一种计算机可读存储介质,其上存储有计算机程序,所述计算机程序被处理器执行时实现上述的数据处理方法。
上述数据处理方法、光刻处理系统及可读存储介质,与传统技术中仅依靠矢量线条数据得到光刻数据的方式不同,本申请中还根据立体模型表面在各采样点位置处的法向量与二维平面的夹角确定各采样点的透光级,并根据透光级确定各采样点对应的透光模板,进而将矢量线条数据与各采样点对应的透光模板叠加得到光刻数据,当光刻设备根据上述得到的光刻数据进行制版时,由于线条之间填充有不同疏密度的透光网点,因此可以在体现3D景深的变化的同时,实现透光率的渐变效果,体现出立体模型的光影变化,立体效果的表达方式更多元,更能体现真实立体感。
附图说明
图1为本申请一实施例提供的数据处理方法的流程框图;
图2为对四棱锥模型和球面模型两种示例性立体模型进行等高切分并投影的示意图;
图3为二维平面的结构示意图;
图4为对二维数组中的各数据进行矢量拟合的示意图;
图5为一个具体示例中,透光级与各阵列单元的对应示意图;
图6为本申请一实施例提供的数据处理装置的结构示意图;
图7为本申请一实施例提供的光刻处理系统的结构示意图。
具体实施方式
为了便于理解本申请,下面将参照相关附图对本申请进行更全面的描述。附图中给出了本申请的优选实施方式。但是,本申请可以以许多不同的形式来实现,并不限于本文所描述的实施方式。相反的,提供这些实施方式的目的是为了对本申请的公开内容理解得更加透彻全面。
在本申请中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系,除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本申请的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。
除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本申请的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的,不是旨在于限制本申请。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
现有的杂质、产品目录等精细出版物,或包装印刷和钞票、邮票等有价证券,或装饰材料等特殊领域的印刷技术,通常采用的是丝网印刷或凹版印刷等印刷技术,将油墨转移到承印物表面。其中,凹版印刷术是利用拓印的原理,将图文雕刻在平面或圆筒状的金属表面而制成印版,即,印版是由与原稿图文相对应的下凹部分和空白的印版表面组成,印刷时,将油墨填充于下凹部分,再将印版表面的油墨刮干净,最后控制印版表面与承印物以一定的压力接触,将下凹部分的油墨转移到承印物上。
其中,印刷得到的图像的浓淡层次感一般是由印版的下凹部分的大小和深浅决定的,如果下凹部分较深,含的油墨则较多,压印后承印物上留下的墨层较厚,相反,如果下凹部分较浅,含的油墨则较少,压印后承印物上留下的墨层较薄。但是,仅通过油墨的颜色深浅来体现图像的浮雕感,较为单一,且无法体现真实立体感。并且,现有的凹印技术受精度限制,凹坑网点尺寸一般大于50微米,图像精细程度不高。
为此,本申请实施例提供了一种数据处理方法、数据处理装置、计算机设备及计算机可读存储介质。
在一个实施例中,提供了一种数据处理方法,该数据处理方法可以用于根据立体模型生成光刻数据,以便后续光刻设备可以根据光刻数据在印版上形成与立体模型对应的下凹图案。
参照图1,本实施例提供的数据处理方法包括以下步骤:
步骤S200、对预设的立体模型进行高度方向上的数据压缩处理,得到位于二维平面的矢量线条数据。
立体模型即3D(3-dimension,三维)模型,其可以是由规则曲面组合而成的三维曲面,也可以是由多边形网格拟合而成的三维曲面,也可以是灰度位图,当其为灰度位图时,灰度位图中,灰度对应立体模型的高度,像素坐标对应立体模型的二维坐标。
获取到立体模型后,可以对立体模型进行高度方向上的数据压缩处理。具体地,立体模型的高度为该模型在X、Y二维平面位置上,立体模型表面在Z轴方向上的高度,对立体模型的表面高度按照一定的压缩高度进行等分,并将立体模型表面的各等分点投影至X、Y二维平面上,得到二维数据集合。再对二维数据集合进行矢量拟合,进而得到矢量线条数据,同一表面高度所对应的二维数据拟合成同一矢量线条。
即,可通过数据压缩处理及拟合处理,将立体模型转换为矢量线条数据,作为后续光刻所需的数据文件。当然,在实际应用中,还可以通过其他数据压缩处理方式,对立体模型进行压缩处理,在此不赘述。
步骤S300、生成透光模板集T={T1,T2,…,TN},透光模板集T中包括N个透光模板。
为了将透光效果融合进光刻数据中,本实施例中,针对不同的透光级设计了不同的透光模板。本实施例中,可以预先设置多种透光模板,形成透光模板集,各透光模板均具有对应的透光级,例如透光级最低时,即不透光,透光模板中可以仅包含不透光像素,当透光级最高时,透光模板中可以仅包含透光像素,当透光级介于最低和最高之间时,透光模板中可以同时包含透光像素和不透光像素。
步骤S400、获取立体模型表面在各采样点位置处的法向量,并根据各采样点的法向量与二维平面的夹角,确定各采样点的透光级。
为了进一步体现印刷的真实立体感,本实施例在形成光刻数据的过程中,同时考虑到立体模型表面不同位置的透光效果,并可将不同位置的透光效果表征为相应的数据,融合于光刻数据中。
具体地,立体模型表面的不同位置的透光级有所区别,每个位置处的透光级与该位置处立体模型表面的法向量与二维平面的夹角有关,一般地,夹角为90度时,透光级最高,夹角为0度或180度时,透光级最低。根据上述规律,可以首先获取立体模型表面在各采样点位置处的法向量,然后计算得到法向量与二维平面的夹角,再根据夹角与透光级的关系,确定立体模型表面各采样点的透光级。
步骤S500、根据各采样点的透光级与各透光模板的对应关系,确定各采样点对应的透光模板。
在确定了立体模型表面各采样点的透光级后,即可根据透光级与透光模板的对应关系,确定与各采样点的透光级相对应的透光模板,由此可组合形成立体模型表面的整体透光模板。
步骤S600、叠加矢量线条数据与各采样点对应的透光模板,得到光刻数据。
在得到矢量线条数据和各采样点对应的透光模板之后,即可将两者叠加融合,形成光刻数据。其中,透光模板中包含的像素数据可以填充于各矢量线条之间的空白位置处,形成疏密变化的透光网点。
与传统技术中仅依靠矢量线条数据得到光刻数据的方式不同,本申请中还根据立体模型表面在各采样点位置处的法向量与二维平面的夹角确定各采样点的透光级,并根据透光级确定各采样点对应的透光模板,进而将矢量线条数据与各采样点对应的透光模板叠加得到光刻数据,当光刻设备根据上述得到的光刻数据进行制版时,由于线条之间填充有不同疏密度的透光网点,因此可以在体现3D景深的变化的同时,实现透光率的渐变效果,体现出立体模型的光影变化,立体效果的表达方式更多元,更能体现真实立体感。
在其中一个实施例中,步骤S200,即对预设的立体模型进行高度方向上的数据压缩处理,得到位于二维平面的矢量线条数据的步骤包括:
步骤S210、对立体模型进行等高切分,并将立体模型表面的切分点投影至二维平面,形成若干投影点。
图2中示出了立体模型的两个示例,其中,图2中(a)为四棱锥模型,图2中(b)为球面模型。如图2所示,将立体模型的表面高度H按照压缩高度h进行等分,并将表面的等高切分点投影至XY二维平面位置P上,当模型表面在位置P处的高度H为压缩高度h的整数倍,且倍数为n时,标记该投影点为P(n)。其中,对球面模型等高切分后投影,所得到的矢量线条有疏密变化,边缘较密,中间较疏;对四棱锥模型进行等高切分后投影,所得到的矢量线条的疏密变化保持一致。当然,在实际应用中,可以选择所需的立体模型,对此不做限制。
参照图3,所有投影点共同构成二维数组,二维数组的两个维度分别为平面坐标系下的X轴和Y轴,且每个维度的维数与对应轴的采集间隔和采集长度有关。X轴的采集间隔为dx,采集长度为W,则对应X轴的维数m=W/dx+1,Y轴的采集间隔为dy,采集长度为L,则对应Y轴的维数n=L/dy+1,即,二维数组为m行×n列的二维数组。
步骤S220、将同一高度的切分点所对应的投影点依次连接,形成若干折线。
参照图4,可以将二维数据中所有值为P(n)的投影点依次相连,形成折线,不同的P(n)值,形成不同的折线。即,一条折线上的所有投影点代表立体模型中同一高度,多条折线则代表立体模型中的不同高度。
步骤S230、对各折线进行拟合处理,得到若干曲线,以若干曲线作为矢量线条数据。
可以通过拟合算法对各折线进行拟合处理,将折线转换为曲线,进而形成矢量线条数据。
在矢量线条数据中,各矢量线条连续、不间断,不同的矢量线条不相交,且每个矢量线条均对应立体模型的某一高度。
在后续光刻处理后获得的线条宽度固定,宽度值在500纳米至100微米之间可调。线条与线条之间的间距不固定,其与立体模型表面的法向量与二维平面的夹角有关,夹角越大,该位置处的线条间距越大,夹角越小,该位置处的线条间距越小,其中,在后续光刻处理后获得的线条之间的间距的变换范围为500纳米至500微米之间。
通过线条周期的变化,可以体现出3D景深的变化,线条周期小,衍射角大,视觉景深大,线条周期大,衍射角小,视觉景深小。
另外,在得到若干曲线后,可以根据文件分辨率对各矢量曲线图进行光栅化处理,形成位图,进而利于后续形成光刻数据。
在其中一个实施例中,在步骤S300,即生成透光模板集T={T1,T2,…,TN},透光模板集T中包括N个透光模板的步骤中,可以根据文件分辨率和设备数据分辨率获得透光模板的像素尺寸,其中,透光模板的宽度W’=文件分辨率/设备数据分辨率,透光模板的高度L’=透光模板的宽度W’。
透光模板集中,透光模板的数量N≤透光模板的宽度W’*透光模板的高度L’+1。透光模板中包含W’*L’个像素,包括透光像素和不透光像素,其中,T1为透光级最低的透光模板,表示不透光,TN为透光级最高的透光模板,表示全透,在透光模板集中,透光级越高,透光模板中的透光像素的数量越多。并且,透光模板中透光像素可以是随机排布,例如,透光模板包括4个透光像素,那么这4个透光像素可以随机分布于透光模板中的任意位置。
透光模板可以为包含透光像素和不透光像素的阵列单元,例如,透光级最高时,阵列单元中均由透光像素构成,随着透光级降低,阵列单元中的透光像素变少,非透光像素增多,透光像素逐渐被非透光像素取代,直到透光级最低时,阵列单元中可均由非透光像素构成。
假设文件分辨率为40μm/dot,光刻设备的数据分辨率为2μm/dot,阵列单元位图的宽和高均为文件分辨率/设备数据分辨率=40/2=20,一共有401个阵列单元,每个阵列单元位图的宽和高均为20*20个像素,则可以表达401种透光级,最小透光级为0,最大透光级为400。图5中以4*4像素的阵列单元进行举例说明,一共可以表达17种透光级。
透光模板的形状不仅限于图5中示出的正方形,还可以为圆形或X型或十字形等形状,例如,透光模板为圆形,当透光模板的透光级为最高时,即全透时,透光像素则填满整个圆形的透光模板。
在其中一个实施例中,透光像素包括白色像素,不透光像素包括黑色像素,透光模板包括白色像素和/或黑色像素构成的黑白阵列单元位图。即,透光级最高时,黑白阵列单元位图为全白图片,透光级最低时,黑白阵列单元位图为全黑图片,透光级由最高递减至最低时,黑白阵列单元位图中白色像素点数逐渐递减,其中,白色像素可以随机分布。
在其中一个实施例中,在步骤S400,即获取立体模型表面在各采样点位置处的法向量,并根据各采样点的法向量与二维平面的夹角,确定各采样点的透光级的步骤中,夹角与透光级的映射关系通过如下公式表示:
T(a)=Tmax-fabs(a-90)*Td
Td=Tmax/90
其中,Tmax为最大透光级,a为法向量与二维平面的夹角,Td为透光级的最小分辨率,T(a)为当法向量与二维平面的夹角为a时采样点的透光级,T(a)为整数。
法向量与二维平面的夹角a的范围为0~180度,一般地,夹角与透光级之间存在潜在的关联,夹角为90度时,透光级最大,为Tmax,夹角为0度和180度时,透光级最小,为Tmin,透光级的最小分辨率为Td,Td=Tmax/90,则夹角a与透光级T(a)之间存在映射关系T(a)=Tmax-fabs(a-90)*Td,由此,可通过该映射关系,将夹角a转换为透光级T(a)。
在其中一个实施例中,当夹角位于0度至90度之间时,夹角越大,对应的透光级越高,当夹角位于90度至180度之间时,夹角越大,对应的透光级越低。
本实施例中,在确定了各采样点的透光级后,即可调用与各采样点的透光级相对应的黑白阵列单元位图,生成与立体模型对应尺寸的随机网格数据文件。另外,由于光刻设备的分辨率与数据点的分辨率有区别,为了提高图形的精细度,可以结合光刻设备的分辨率和数据点的分辨率对随机网格数据文件进行填充放大。例如,光刻设备的分辨率为0.25μm/dot,数据点的分辨率为2μm/dot,即,一个数据点需要转换为8*8个像素点的表达方式,当像素点为黑色像素时,可以直接填充8*8个黑色像素,当像素点为白色像素时,可以填充8*8的十字线或圆等图案。
在其中一个实施例中,步骤S600,即叠加矢量线条数据与各采样点对应的透光模板,得到光刻数据的步骤包括:根据文件分辨率将矢量图转化为位图;根据各采样点对应的透光模板对位图中的线条数据进行填充,对位图中的空白区域采用透光模板集中透光级最高的透光模板进行填充,以获得光刻数据;或者,根据各采样点对应的透光模板对位图中的空白区域进行填充,对位图中的空白区域采用透光板集中透光级最高的透光模板进行填充,以获得光刻数据。
首先可根据文件分辨率将位于二维平面的矢量线条数据所在的矢量图转换为位图,然后再在位图上进行透光模板的填充。位图上存在线条区域以及非线条区域,填充的方式可以具有两种,第一种可以是在存在线条的位置根据确定好的各采样点对应的透光模板对其进行填充,而线条与线条之间的空白区域则可以通过透光级最高的透光模板进行填充;另一种与第一种方式相反,即在存在线条的位置采用透光级最高的透光模板对其进行填充,而针对线条与线条之间的空白区域,则可以根据确定好的各采样点对应的透光模板进行填充。通过上述任意一种填充方式均可以得到所需的光刻数据。
在位图上对应的位置填充疏密变化的透光网点,网点的疏密度与立体模型表面的法向量、二维平面之间的夹角有关,夹角越大,透光网点越密,夹角越小,透光网点越稀。透光网点的透光点形状不固定,可以是单一的圆点或方点,也可以是复杂的组合点阵,如十字点阵、X点阵等。透光网点的尺寸范围为500纳米-100微米之间。
当线条数据和各采样点对应的透光模板(即变疏密网点)结合时,线条与线条之间或者线条所在位置填充有不同疏密度的随机网格点,可以实现透光率的渐变,立体模型表面变化剧烈的地方,则线条周期小,网格点密度高,表面变化平缓的地方,则线条周期大,网格点密度低。通过线条周期的变化,可以体现3D景深的变化,线条周期小,则衍射角大、视觉景深大,线条周期大,则衍射角小、视觉景深小。通过透光网点的疏密变化,可以体现出3D模型的光影变化,镂空网点稀疏的区域透光率低,光影效果偏暗,其对应3D模型起伏剧烈的区域;镂空网点密集的区域透光率高,光影效果明亮,其对应3D模型表面起伏平缓的区域。由此,通过叠加后得到的光刻数据进行光刻处理,可以得到精密的印版图案,进而凹印时能够在承印物上形成真实立体感的图案。
应该理解的是,虽然如上所述的各实施例所涉及的流程图中的各个步骤按照箭头的指示依次显示,但是这些步骤并不是必然按照箭头指示的顺序依次执行。除非本文中有明确的说明,这些步骤的执行并没有严格的顺序限制,这些步骤可以以其它的顺序执行。而且,如上所述的各实施例所涉及的流程图中的至少一部分步骤可以包括多个步骤或者多个阶段,这些步骤或者阶段并不必然是在同一时刻执行完成,而是可以在不同的时刻执行,这些步骤或者阶段的执行顺序也不必然是依次进行,而是可以与其它步骤或者其它步骤中的步骤或者阶段的至少一部分轮流或者交替地执行。
基于同样的发明构思,本申请另一实施例还提供了一种用于实现上述所涉及的数据处理方法的数据处理装置。该数据处理装置所提供的解决问题的实现方案与上述方法中所记载的实现方案相似,故下面所提供的一个或多个数据处理装置实施例中的具体限定可以参见上文中对于数据处理方法的限定,在此不再赘述。
参照图6,本实施例提供的数据处理装置包括第一获取模块200、生成模块300、确定模块400、第二获取模块500及数据叠加模块600。其中:
第一获取模块200,用于对预设的立体模型进行高度方向上的数据压缩处理,得到位于二维平面的矢量线条数据;
生成模块300,用于生成透光模板集T={T1,T2,…,TN},所述透光模板集T中包括N个透光模板;
确定模块400,用于获取立体模型表面在各采样点位置处的法向量,并根据各采样点的法向量与二维平面的夹角,确定各采样点的透光级;
第二获取模块500,用于根据各采样点的透光级与各透光模板的对应关系,确定各采样点对应的透光模板;
数据叠加模块600,用于叠加矢量线条数据与各采样点对应的透光模板,得到光刻数据。
与传统技术中仅依靠矢量线条数据得到光刻数据的方式不同,本申请中还根据立体模型表面在各采样点位置处的法向量与二维平面的夹角确定各采样点的透光级,并根据透光级确定各采样点对应的透光模板,进而将矢量线条数据与透光模板叠加得到光刻数据,当光刻设备根据上述得到的光刻数据进行制版时,由于线条之间填充有不同疏密度的透光网点,因此可以在体现3D景深的变化的同时,实现透光率的渐变效果,体现出立体模型的光影变化,立体效果的表达方式更多元,更能体现真实立体感。
在其中一个实施例中,第一获取模块200用于:对立体模型进行等高切分,并将立体模型表面的切分点投影至二维平面,形成若干投影点;将同一高度的切分点所对应的投影点依次连接,形成若干折线;对各折线进行拟合处理,得到若干曲线,以若干曲线作为矢量线条数据。
在其中一个实施例中,生成模块300用于根据文件分辨率和设备数据分辨率获得透光模板的像素尺寸,透光模板的宽度W’=文件分辨率/设备数据分辨率,透光模板的高度L’=透光模板的宽度W’;
其中,透光模板集中透光模板的数量N≤透光模板的宽度*透光模板的高度+1;透光模板中包含W’*L’个像素,包括透光像素和不透光像素;
T1为透光级最低的透光模板,表示不透光;
TN为透光级最高的透光模板,表示全透;
透光模板集中,透光级越高,透光模板中透光像素的数量越多。
在其中一个实施例中,确定模块400用于通过如下公式表示夹角与透光级的映射关系:
T(a)=Tmax-fabs(a-90)*Td
Td=Tmax/90
其中,Tmax为最大透光级,a为法向量与二维平面的夹角,Td为透光级的最小分辨率,T(a)为当法向量与二维平面的夹角为a时采样点的透光级,T(a)为整数。
在其中一个实施例中,当夹角位于0度至90度之间时,夹角越大,对应的透光级越高,当夹角位于90度至180度之间时,夹角越大,对应的透光级越低。
在其中一个实施例中,透光模板的形状包括圆形、正方形、X型、十字形中的任意一种。
在其中一个实施例中,数据叠加模块600用于根据文件分辨率将矢量图转化为位图;根据各采样点对应的透光模板对位图中的线条数据进行填充,对位图中的空白区域采用透光模板集中透光级最高的透光模板进行填充,以获得光刻数据;或者,根据各采样点对应的透光模板对位图中的空白区域进行填充,对位图中的空白区域采用透光板集中透光级最高的透光模板进行填充,以获得光刻数据。
上述数据处理装置中的各个模块可全部或部分通过软件、硬件及其组合来实现。上述各模块可以硬件形式内嵌于或独立于计算机设备中的处理器中,也可以以软件形式存储于计算机设备中的存储器中,以便于处理器调用执行以上各个模块对应的操作。
在一个实施例中,提供了一种光刻处理系统,包括存储器和处理器,存储器存储有计算机程序,该处理器执行计算机程序时实现上述各方法实施例中的步骤。
图7为本申请一实施例提供的光刻处理系统的结构示意图,该光刻处理系统可以是服务器,其内部结构图可以如图7所示。该光刻处理系统包括通过系统总线连接的处理器、存储器和网络接口。其中,该光刻处理系统的处理器用于提供计算和控制能力。该光刻处理系统的存储器包括非易失性存储介质、内存储器。该非易失性存储介质存储有操作系统、计算机程序和数据库。该内存储器为非易失性存储介质中的操作系统和计算机程序的运行提供环境。该光刻处理系统的数据库用于存储数据处理方法涉及到的各类数据。该光刻处理系统的网络接口用于与外部的终端通过网络连接通信。该计算机程序被处理器执行时以实现一种数据处理方法。
本领域技术人员可以理解,图7中示出的结构,仅仅是与本申请方案相关的部分结构的框图,并不构成对本申请方案所应用于其上的光刻处理系统的限定,具体的光刻处理系统可以包括比图中所示更多或更少的部件,或者组合某些部件,或者具有不同的部件布置。
在一个实施例中,提供了一种计算机可读存储介质,其上存储有计算机程序,该计算机程序被处理器执行时实现上述各方法实施例中的步骤。
本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例方法中的全部或部分流程,是可以通过计算机程序来指令相关的硬件来完成,所述的计算机程序可存储于一非易失性计算机可读取存储介质中,该计算机程序在执行时,可包括如上述各方法的实施例的流程。其中,本申请所提供的各实施例中所使用的对存储器、存储、数据库或其它介质的任何引用,均可包括非易失性和易失性存储器中的至少一种。非易失性存储器可包括只读存储器(Read-Only Memory,ROM)、磁带、软盘、闪存或光存储器等。易失性存储器可包括随机存取存储器(Random Access Memory,RAM)或外部高速缓冲存储器。作为说明而非局限,RAM可以是多种形式,比如静态随机存取存储器(Static Random Access Memory,SRAM)或动态随机存取存储器(Dynamic Random Access Memory,DRAM)等。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本申请的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本申请构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本申请的保护范围。因此,本申请的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (11)
1.一种数据处理方法,其特征在于,包括:
对预设的立体模型进行高度方向上的数据压缩处理,得到位于二维平面的矢量线条数据;
生成透光模板集T={T1,T2,…,TN},所述透光模板集T中包括N个透光模板;
获取所述立体模型表面在各采样点位置处的法向量,并根据各所述采样点的法向量与二维平面的夹角,确定各所述采样点的透光级;
根据各所述采样点的透光级与各所述透光模板的对应关系,确定各所述采样点对应的透光模板;
叠加所述矢量线条数据与各所述采样点对应的透光模板,得到光刻数据。
2.根据权利要求1所述的数据处理方法,其特征在于,所述对预设的立体模型进行高度方向上的数据压缩处理,得到位于二维平面的矢量线条数据的步骤包括:
对所述立体模型进行等高切分,并将所述立体模型表面的切分点投影至二维平面,形成若干投影点;
将同一高度的切分点所对应的投影点依次连接,形成若干折线;
对各所述折线进行拟合处理,得到若干曲线,以若干曲线作为所述矢量线条数据。
3.根据权利要求2所述的数据处理方法,其特征在于,各矢量线条连续,不同的矢量线条不相交,且每个矢量线条对应立体模型的一个高度。
4.根据权利要求1所述的数据处理方法,其特征在于,在所述生成透光模板集T={T1,T2,…,TN},所述透光模板集T中包括N个透光模板的步骤中,
根据文件分辨率和设备数据分辨率获得透光模板的像素尺寸,透光模板的宽度W’=文件分辨率/设备数据分辨率,透光模板的高度L’=透光模板的宽度W’;
其中,所述透光模板集中透光模板的数量N≤透光模板的宽度*透光模板的高度+1;所述透光模板中包含W’*L’个像素,包括透光像素和不透光像素;
T1为透光级最低的透光模板,表示不透光;
TN为透光级最高的透光模板,表示全透;
所述透光模板集中,所述透光级越高,所述透光模板中透光像素的数量越多。
5.根据权利要求1所述的数据处理方法,其特征在于,在所述获取所述立体模型表面在各采样点位置处的法向量,并根据各所述采样点的法向量与二维平面的夹角,确定各所述采样点的透光级的步骤中,所述夹角与所述透光级的映射关系通过如下公式表示:
T(a)=Tmax-fabs(a-90)*Td
Td=Tmax/90
其中,Tmax为最大透光级,a为所述法向量与二维平面的夹角,Td为透光级的最小分辨率,T(a)为当所述法向量与二维平面的夹角为a时所述采样点的透光级,T(a)为整数。
6.根据权利要求1所述的数据处理方法,其特征在于,当所述夹角位于0°至90°之间时,所述夹角越大,对应的所述透光级越高;
当所述夹角位于90°至180°之间时,所述夹角越大,对应的所述透光级越低。
7.根据权利要求1所述的数据处理方法,其特征在于,所述透光模板的形状包括圆形、正方形、X型、十字形中的任意一种。
8.根据权利要求1所述的数据处理方法,其特征在于,所述叠加所述矢量线条数据与各所述采样点对应的透光模板,得到光刻数据的步骤包括:
根据文件分辨率将矢量图转化为位图;
根据各采样点对应的透光模板对位图中的线条数据进行填充,对位图中的空白区域采用透光模板集中透光级最高的透光模板进行填充,以获得光刻数据;或者,根据各采样点对应的透光模板对位图中的空白区域进行填充,对位图中的空白区域采用透光板集中透光级最高的透光模板进行填充,以获得光刻数据。
9.根据权利要求1所述的数据处理方法,其特征在于,所述立体模型包括由规则曲面组合而成的三维曲面,或者由多边形网络拟合而成的三维曲面,或者灰度位图,当所述立体模型为灰度位图时,灰度对应立体模型的高度,像素坐标对应立体模型的二维坐标。
10.一种光刻处理系统,包括存储器和处理器,所述存储器存储有计算机程序,其特征在于,所述处理器执行所述计算机程序时实现权利要求1-9中任一项所述的数据处理方法。
11.一种计算机可读存储介质,其上存储有计算机程序,其特征在于,所述计算机程序被处理器执行时实现权利要求1-9中任一项所述的数据处理方法。
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