CN118026515A - 玻璃刻划设备和方法 - Google Patents

Abstract

一种玻璃带刻划设备和方法，包括：刻划头；压力调节器，其被配置为对刻划头施加偏置力；第一枢轴机构，其位于刻划头和压力调节器之间；第二枢轴机构，其安装在支撑构件上；和杠杆臂，其位于所述第一枢轴机构和第二枢轴机构之间。所述第一枢轴机构和所述第二枢轴机构被配置为旋转，且所述杠杆臂被配置为与所述刻划头的移动联合移动。

Description

玻璃刻划设备和方法

相关申请的交叉引用

本申请根据35U.S.C.§119要求2022年6月9日提交的美国临时申请序列第63/305494号的优先权，该申请的内容以其整体为依据并以其整体通过引用纳入本文。

技术领域

本公开内容大体上涉及玻璃刻划设备和方法，更具体涉及一种能够使刻痕深度更加一致的玻璃刻划设备和方法。

背景技术

在玻璃制品的生产中，诸如用于显示应用(包括电视和手持装置，诸如电话和平板电脑)的玻璃板的生产中，玻璃带可以从成型设备中流出。随着玻璃带从成型设备中流出，它可以被输送用于进一步加工成单独的玻璃制品或玻璃板，这种加工可包括刻划玻璃带以便于制品或玻璃板的分离。随着玻璃带变得更薄和/或更宽，相对于玻璃带总厚度的玻璃带厚度的变化可能会随着时间和/或位置的变化而增加。这种变化反过来又会增加实现一致的刻痕深度的重要性，因为不一致的刻痕深度会导致不理想的板(例如板边缘)质量和/或工艺上的混乱。因此，需要能够使刻痕深度更一致的方法和设备。

发明内容

本文公开的实施方案包括一种用于刻划玻璃带的设备。该设备包括：刻划头；压力调节器，其被配置为对刻划头施加偏置力；第一枢轴机构，其位于刻划头和压力调节器之间；第二枢轴机构，其安装在支撑构件上；和杠杆臂，其位于第一枢轴机构和第二枢轴机构之间。第一枢轴机构和第二枢轴机构被配置为旋转，且所述杠杆臂被配置为与所述刻划头的移动联合移动。

本文公开的实施方案还包括一种刻划玻璃带的方法。该方法包括在沿玻璃带的宽度延伸的区域内移动刻划头。该方法还包括使用压力调节器对刻划头施加偏置力。此外，该方法还包括旋转设置在刻划头和压力调节器之间的第一枢轴机构。该方法还包括旋转安装在支撑构件上的第二枢轴机构。此外，该方法包括移动设置在第一枢轴机构和第二枢轴机构之间的杠杆臂。

本文公开的实施方案的其他特征和优点将在后面的详细描述中阐述，并且部分将由该描述而对本领域技术人员是清楚的或者通过实践本文描述的实施方案(包括后面的详细描述、权利要求书以及附图)来认识到。

应当理解的是，前述一般描述和以下详细描述两者旨在提供用于理解本文所公开的实施方案的性质和特征的概述或框架的实施方案。包含附图以提供进一步的理解，并且附图被纳入本说明书并构成其一部分。附图图示本公开内容的各种实施方案，并与描述一起解释其原理和操作。

附图说明

图1是示例性熔融下拉玻璃制造设备和工艺的示意图；

图2是示例性玻璃制造设备和工艺的侧面示意性透视图；

图3是经刻划的玻璃带的一部分的示意性剖视图；

图4是经刻划的玻璃带的一部分的示意性剖视图；

图5是根据本发明公开的实施方案的示例性刻划设备的侧面示意性透视图；

图6是图5的示例性刻划设备的一部分的侧面示意性透视图；

图7是根据本文公开的实施方案的经刻划的玻璃带的一部分的示意性剖视图；

图8是根据本发明公开的实施方案的经刻划的玻璃带的一部分的示意性剖视图；

图9是根据本文公开的实施方案的经刻划的玻璃带的一部分的示意性剖视图；和

图10是根据本文公开的实施方案的经刻划的玻璃带的一部分的示意性剖视图。

具体实施方式

现在将详细参考本公开内容的实施方案，其实施例在附图中图示。只要有可能，相同的附图将在整个附图中用于指代相同或相似的部分。然而，本公开内容可以以许多不同的形式体现，且不应该被理解为仅限于本文所阐述的实施方案。

范围在本文可以表示为从“约”一个特定值，和/或到“约”另一个特定值。当这样的范围被表达时，另一个实施方案包括从一个特定值和/或到另一个特定值。同样，当数值例如通过使用前缀“约”表示为近似值时，将理解该特定值构成另一个实施方案。将进一步理解，每个范围的端点关于另一端点且独立于另一端点为重要的。

本文使用的方向性术语--例如上、下、右、左、前、后、顶、底--仅参考所画的图，并且不旨在暗示绝对方向。

除非另有明确说明，本文阐述的任何方法都无意被解释为要求以特定的顺序执行其步骤，也无意要求对于任何设备的特定方向。因此，如果一个方法权利要求没有实际叙述其步骤应遵循的顺序，或者任何设备权利要求没有实际叙述单个部件的顺序或方向，或者在权利要求或描述中没有具体说明步骤应限于特定的顺序，或者没有叙述设备部件的特定顺序或方向，则绝不旨在在任何方面推断出顺序或定向。这适用于任何可能的非明确解释依据，包含：关于步骤安排、操作流程、组件顺序或组件定向的逻辑事项；从语法组织或标点符号得出的普通含义；以及说明书中描述的实施方案的数量或类型。

如本文所使用，除非上下文另有明确规定，单数形式“一(a/an)”和“该(the)”包含复数指代物。因此，例如，除非上下文明确指出，对“一”组件的提及包含具有两个或更多此类组件的方面。

如本文所使用，术语“外壳”是指在其中形成玻璃带的围件，其中当玻璃带穿过外壳时，它通常从相对较高的温度冷却到相对较低的温度。虽然本文公开的实施方案已经参照熔融下拉工艺进行了描述，其中玻璃带以大概垂直的方向向下流经外壳，但此类实施方案也适用于其他玻璃成型工艺，诸如浮法工艺、槽拉工艺、上拉工艺和压辊工艺，其中玻璃带可以在各种方向，诸如大概垂直的方向或大概水平的方向上流经外壳。

在图1中示出的是一个示例性的玻璃制造设备10。在一些实施例中，玻璃制造设备10可以包括玻璃熔化炉12，该玻璃熔化炉可包含熔化容器14。除了熔化容器14之外，玻璃熔化炉12可任选地包含一个或多个附加组件，诸如加热原料并将原料转化为熔融玻璃的加热元件(例如燃烧器或电极)。在进一步的实施例中，玻璃熔化炉12可以包含减少熔化容器附近损失的热量的热管理装置(例如，绝缘组件)。在更进一步的实施例中，玻璃熔化炉12可以包含促进原料熔化成玻璃熔体的电子装置和/或机电装置。再进一步，玻璃熔化炉12可以包含支撑结构(例如，支撑底盘、支撑构件等)或其他组件。

玻璃熔化容器14通常由耐火材料组成，诸如耐火陶瓷材料，例如包括氧化铝或氧化锆的耐火陶瓷材料。在一些实施例中，玻璃熔化容器14可以由耐火陶瓷砖构成。下面将更详细地描述玻璃熔化容器14的具体实施方案。

在一些实施例中，玻璃熔化炉可以被并入作为玻璃制造设备的组件，以制造玻璃基材，例如连续长度的玻璃带。在一些实施例中，本公开内容的玻璃熔化炉可以被并入作为玻璃制造设备的组件，该玻璃制造设备包括槽拉设备、浮动浴设备、下拉设备诸如熔融工艺、上拉设备、压辊设备、管拉设备或任何其他将从本公开内容的方面受益的玻璃制造设备。作为实施例，图1示意性地图示作为熔融下拉玻璃制造设备10的组件的玻璃熔化炉12，用于熔融拉制玻璃带以随后加工成单个玻璃板。

玻璃制造设备10(例如，熔融下拉装置10)可任选性地包含相对于玻璃熔化容器14设置在上游的上游玻璃制造设备16。在一些实施例中，一部分或整个上游玻璃制造设备16可以被并入作为玻璃熔化炉12的一部分。

如图示实施例中所示，上游玻璃制造设备16可包含存储仓18、原料递送装置20和连接到原料递送装置的马达22。储存仓18可以被配置为储存一定数量的原料24，这些原料可以被进料到玻璃熔化炉12的熔化容器14中，如箭头26所示。原料24通常包括一种或多种玻璃成型金属氧化物和一种或多种改性剂。在一些实施例中，原料递送装置20可由马达22提供动力，使得原料递送装置20将预定量的原料24从储存仓18递送到熔化容器14。在进一步的实施例中，马达22可为原料递送装置20提供动力，以便基于熔化容器14下游感应到的熔融玻璃的水平以可控的速度引入原料24。此后，熔化容器14内的原料24可被加热以形成熔融玻璃28。

玻璃制造设备10还可任选地包含相对于玻璃熔化炉12位于下游的下游玻璃制造设备30。在一些实施例中，下游玻璃制造设备30的一部分可以被并入作为玻璃熔化炉12的一部分。在一些情况中，下面讨论的第一连接导管32，或下游玻璃制造设备30的其他部分，可以被并入作为玻璃熔化炉12的一部分。下游玻璃制造设备的元件，包含第一连接导管32，可以由贵金属形成。合适的贵金属包含选自铂、铱、铑、锇、钌和钯的金属的铂族金属，或其合金。例如，玻璃制造设备的下游组件可以由铂-铑合金形成，该铂-铑合金包括约70wt％至约90wt％的铂和约10wt％至约30wt％的铑。然而，其他合适的金属可包含钼、钯、铼、钽、钛、钨及其合金。

下游玻璃制造设备30可以包括位于熔化容器14下游并借助于上述第一连接导管32联接到熔化容器14的第一调节(即，加工)容器，诸如澄清容器34。在一些实施例中，熔融玻璃28可以借助于第一连接导管32从熔化容器14重力进料到澄清容器34。然而，其他调节容器可以位于熔化容器14的下游，例如在熔化容器14和澄清容器34之间。在一些实施方案中，可以在熔化容器和澄清容器之间采用调节容器，其中来自一级熔化容器的熔融玻璃被进一步加热以继续熔化过程，或者在进入澄清容器之前被冷却到比熔化容器中的熔融玻璃的温度低的温度。

可以通过各种技术从澄清容器34内的熔融玻璃28中去除气泡。例如，原料24可以包含多价化合物(即，澄清剂)，诸如当被加热时发生化学还原反应并释放氧气的氧化锡。其他合适的澄清剂包括但不限于砷、锑、铁和铈。澄清容器34被加热到大于熔化容器的温度的温度，从而加热熔融玻璃和澄清剂。在熔化过程期间，由温度诱导的澄清剂的化学还原产生的氧气可扩散或凝聚到熔融玻璃中产生的气泡中。然后，扩大的气泡可上升到澄清容器中的熔融玻璃的自由表面，此后被排出澄清容器外。气泡可进一步诱导熔融玻璃在熔化容器中的机械混合。

下游玻璃制造设备30可进一步包含另一个调节容器，诸如用于混合熔融玻璃的混合容器36。混合容器36可以位于澄清容器34的下游。混合容器36可用于提供均匀的玻璃熔体组合物，从而减少化学或热不均匀性的条带，否则这些条带可能存在于离开澄清容器的熔融玻璃中。如图所示，澄清容器34可以借助于第二连接导管38联接至混合容器36。在一些实施例熔融玻璃28可以借助于第二连接导管38从澄清容器34重力进料到混合容器36。例如，重力可使熔融玻璃28通过第二连接导管38的内部通道从澄清容器34到混合容器36。虽然混合容器36被示出在澄清容器34的下游，但混合容器36可以位于澄清容器34的上游。在一些实施方案中，下游玻璃制造设备30可以包含多个混合容器，例如澄清容器34上游的混合容器和澄清容器34下游的混合容器。这些多个混合容器可以具有相同的设计，或者它们可以具有不同的设计。

下游玻璃制造设备30可进一步包含另一个调节容器，诸如可以位于混合容器36的下游的递送容器40。递送容器40可以调节要被进料到下游成型装置的熔融玻璃28。例如，递送容器40可充当蓄能器和/或流量控制器，以调节和/或提供熔融玻璃28借助于出口导管44流向成型主体42的稳定流量。如图所示，混合容器36可借助于第三连接导管46联接到递送容器40。在一些实施例中，熔融玻璃28可以借助于第三连接导管46从混合容器36重力进料到递送容器40。例如，重力可以驱动熔融玻璃28通过第三连接导管46的内部通道从混合容器36到递送容器40。

下游玻璃制造设备30可进一步包含包括上述成型主体42和进口导管50的成型设备48。出口导管44可被放置为将熔融玻璃28从递送容器40递送到成型设备48的进口导管50。例如，出口导管44可以嵌套在进口导管50内并与进口导管50的内表面间隔开，从而提供位于出口导管44的外表面和进口导管50的内表面之间的熔融玻璃的自由表面。熔融下拉玻璃制造设备中的成型主体42可包括位于成型主体42的上表面的槽52和沿着成型主体42的底边56在拉制方向上汇聚的汇聚成型表面54。经由递送容器40、出口导管44和进口导管50递送到成型主体槽的熔融玻璃溢出槽的侧壁，并作为独立的熔融玻璃流沿着汇聚成型表面54下降。这些独立的熔融玻璃流在底边56下面并沿着底边56结合以产生单个玻璃带58，通过对玻璃带施加张力，诸如通过重力、边缘辊72和拉动辊82，从底边56沿拉制或流动方向拉出玻璃带58，以随着玻璃冷却和玻璃的黏度增加控制玻璃带的尺寸。因此，玻璃带58经历了粘弹性转变，并获得了使玻璃带58具有稳定尺寸特性的机械特性。在一些实施方案中，玻璃带58可以由玻璃分离设备100在玻璃带的弹性区域分离成单个玻璃板62。然后，机器人64可以使用抓取工具65将单个玻璃板62转移到传送系统，在那里，单个玻璃板可以被进一步加工。

图2示出了示例性玻璃制造设备10和工艺的示意性透视图。图2的玻璃制造设备10和工艺与图1的相似，区别为在图2中，成型设备包括包含槽156的成型容器142，该玻璃带58在拉制方向60上从槽156流动。此外，在图2中，玻璃制造设备包括槽156下游的一对相对的成型辊160，该成型辊160可被配置为接触玻璃带58的相对的主要表面。玻璃制造设备10还包括重新定向机构170，该机构被配置为将拉制方向60从在成型设备(包括成型容器142)和重新定向机构170之间的基本垂直60A(即与重力矢量平行)重新定向到重新定向机构170下游的基本水平60B。如图2所示，重新定向机构170包括多个辊180，每个辊被配置为接触玻璃带58的边缘区域。辊180也可以促进玻璃带58在重新定向机构170下游水平运送。在水平运送期间，玻璃带58由刻划设备200刻划，以方便将玻璃带58的部分分离成单独的玻璃板或制品。

图3示出了经刻划的玻璃带58的一部分的示意性剖视图。玻璃带58沿其宽度具有不同的厚度，其中第一厚度T1大于第二厚度T2。刻痕线158在玻璃带58的整个宽度上延伸，其中刻痕线158在第一厚度T1处的第一深度D1大于刻痕线158在第二厚度T2处的第二深度D2。

图4示出了经刻划的玻璃带58的一部分的示意性剖视图。玻璃带58沿其宽度具有不同的厚度以及具有比图3所示玻璃带更小的平均厚度，其中第三厚度T3大于第四厚度T4。刻痕线158在玻璃带58的整个宽度上延伸，其中刻痕线158在第三厚度T3处的第三深度D3大于刻痕线158在第四厚度T4处的第四深度D4。此外，刻痕线158在第三厚度T3处的第三深度D3小于刻痕线158在第一厚度T1处的第一深度D1，刻痕线158在第四厚度T4处的第四深度D4小于刻痕线158在第二厚度T2处的第二深度D2。

图3和图4中所示的玻璃带158的厚度变化，例如，可为固有的玻璃带加工条件的结果，该条件导致厚度在宽度方向上变化和/或厚度随时间的变化(例如，作为时间的函数的较大或较小的平均玻璃带厚度)。在这样的条件下，刻痕线深度变化可能是不可取的，诸如图3和图4中所示的刻痕线深度的变化。

图5示出了根据本文公开内容的实施方案的示例性刻划设备200的侧面示意性透视图。刻划设备200包含刻划头210和被配置为对刻划头210施加偏置力的压力调节器202。刻划设备200还包含位于刻划头210和压力调节器202之间的第一枢轴机构206A和安装在支撑构件204上的第二枢轴机构206B。杠杆臂212位于第一枢轴机构206A和第二枢轴机构206B之间，平衡物208位于第一枢轴机构206A和刻划头210之间。

图6示出了图5的示例性刻划设备200的一部分的侧面示意性透视图。具体地，图6显示了图5中区域A所示的刻划设备200的部分的侧面示意性透视图。如图6所示，杠杆臂212可在中立(即水平)位置和向上或向下的枢轴位置(由图6中的虚线表示)之间移动，其中杠杆臂212的最靠近第一枢轴机构206A的一端在中立、向上和向下的枢轴位置之间垂直移动，而杠杆臂212的最靠近第二枢轴机构206B的一端不垂直移动。同时，第一枢轴机构206A随着杠杆臂212的垂直移动而垂直移动，而第二枢轴机构206B不垂直移动。杠杆臂212和第一枢轴机构206A的这种垂直移动与刻划头210的垂直移动同时发生，其中这些组件的最大垂直移动由图6中的箭头D所示。此外，第一枢轴机构206A和第二枢轴机构206B随着杠杆臂的移动而旋转，同时刻划头210相对于压力调节器202移动。

在某些示例性实施方案中，第一枢轴机构206A以及因此刻划头210相对于压力调节器202的垂直移动的最大距离(即，由图6中的箭头D所示)的范围为约1mm至约10mm，诸如约2mm至约8mm，进一步诸如约3mm至约6mm。

由压力调节器202对刻划头210施加的偏置力可根据在给定的加工条件下在玻璃带的整个宽度上赋予所需的刻痕深度所需要的目标偏置力来固定或调整(手动或经由自动机制)。虽然不限于任何特定的范围，但在某些示例性的实施方案中，偏置力的范围为约1psi至约10psi，诸如约2psi至约8psi，进一步诸如约3psi至约6psi。

在某些示例性实施方案中，压力调节器202包括本领域普通技术人员已知的电气动调节器，诸如可从美国SMC Corporation获得的电动气动压力调节器。

在某些示例性实施方案中，第一枢轴机构206A和第二枢轴机构206B各自包括本领域普通技术人员已知的挠性枢轴轴承，例如可从Flex Pivots获得的无摩擦自由挠性枢轴轴承。

刻划设备200能够在玻璃带中生成刻痕线，其中该刻痕线在玻璃带的整个宽度上具有最小的刻痕深度变化，包含在不同厚度的整个玻璃带上生成具有最小深度变化的刻痕。或者说，刻划设备200可被配置为“漂浮”在玻璃带的表面上，同时赋予模仿(或平行于)玻璃带的表面地形的刻痕线。

图7示出了根据本发明公开内容的实施方案的经刻划的玻璃带58的一部分的示意性剖视图。玻璃带58具有与图3所示的玻璃带类似的剖面图，从而它具有沿其宽度变化的厚度，其中第一厚度T1大于第二厚度T2。然而，与图3相比，刻痕线158使用根据本文公开的实施方案的示例性的刻划设备(例如，刻划设备200)被赋予在玻璃带58上，其中刻痕线158与它被赋予其上的玻璃带58的表面的地形平行，使得刻痕线158在第一厚度T1处的深度D5与刻痕线158在第二厚度T2处的深度D5大约相同。

图8示出了根据本文公开的实施方案的经刻划的玻璃带58的一部分的示意性剖视图。玻璃带58具有与图4所示的玻璃带类似的剖面图(即，比图3的玻璃带58小的平均厚度)，从而它具有沿其宽度变化的厚度，其中第三厚度T3大于第四厚度T4。然而，与图4相比，刻痕线158使用根据本文公开的实施方案的示例性的刻划设备(例如，刻划设备200)被赋予在玻璃带58上，其中刻痕线158与它被赋予其上的玻璃带58的表面的地形平行，使得刻痕线158在第三厚度T3处的深度D5与刻痕线158在第四厚度T4处的深度D5大约相同。

虽然图3-4和7-8所示的玻璃带158的厚度变化例如可为导致在宽度方向上的厚度变化和/或厚度随时间变化的固有的玻璃带加工条件的结果，但是具有专门设计的或有意的厚度变化的玻璃带58也可以根据本文公开的实施方案进行刻划。

图9示出了根据本文公开的实施方案的经刻划的玻璃带58的一部分的示意性剖视图。玻璃带58具有沿其宽度变化的厚度，其中玻璃带58包含具有小于第五厚度T5的第六厚度T6的变薄区域162。刻痕线158使用根据本文公开的实施方案的示例性的刻划设备(例如，刻划设备200)被赋予玻璃带58上，其中刻痕线158与它被赋予其上的玻璃带58的表面的地形平行，使得刻痕线158在第五厚度T5处的深度D5与刻痕线158在第六厚度T6处的深度D5大约相同。

图10示出了根据本文公开的实施方案的经刻划的玻璃带58的一部分的示意性剖视图。玻璃带58具有沿其宽度变化的厚度，其中玻璃带58包含具有大于第七厚度T7的第八厚度T8的凸起区域164。刻痕线158使用根据本文公开的实施f方案的示例性的刻划设备(例如，刻划设备200)被赋予在玻璃带58上，其中刻痕线158与它被赋予在其上的玻璃带58的表面的地形相平行，使得刻痕线158在第七厚度T7处的深度D5与刻痕线158在第八厚度T8处的深度D5大约相同。

在某些示例性实施方案中，刻划设备200被配置为对沿玻璃带58的宽度延伸的区域进行刻划，其中该区域的平均刻痕深度(即，沿刻痕线的长度的平均刻痕深度)的范围为约0.02mm至约1mm，诸如约0.05mm至约0.5mm，进一步诸如约0.1mm至约0.2mm。在某些示例性的实施方案中，刻痕区域的刻痕深度变化(即，沿刻痕线的最大和最小的刻痕深度之间的差异)的范围为约1μm至约25μm，诸如约2μm至约20μm，进一步诸如从约5μm至约15μm。在某些示例性的实施方案中，刻痕深度变化的范围为平均刻痕深度的约1％至约25％，诸如约2％至约20％，进一步诸如约5％至约15％。

在某些示例性实施方案中，玻璃带58在刻痕区域或附近的平均厚度的范围为约0.2mm至约10mm，诸如约0.5mm至约5mm，进一步诸如约1mm至约3mm。在某些示例性实施方案中，玻璃带58在刻痕区域或附近的温度的范围为约100℃至约900℃，诸如约200℃至约800℃，进一步诸如约300℃至约700℃，再进一步诸如约400℃至约600℃。在某些示例性的实施方案中，刻划设备200被配置成刻划沿玻璃带58的宽度延伸的区域，其中该区域在刻痕区域或附近的平均刻痕深度为玻璃带58的平均厚度的约3％至约15％，诸如约5％至约10％。

本文公开的实施方案包含其中玻璃带58在水平方向(即垂直于重力方向的方向)上传送，并且刻痕深度在刻痕区域或附近在垂直方向(即平行于重力方向的方向)上延伸。

本文公开的实施方案可使玻璃带的刻划成为可能，其中，由于刻划设备的低重量、低摩擦和高响应性，刻痕线的深度与玻璃带的表面轮廓紧密平行，以实时提供一致的刻痕深度，而不需要由操作员进行连续监测和/或调整。这反过来能够高效生产玻璃制品，诸如玻璃板，同时最大限度地减少不希望发生的事件，诸如横向开裂、锯齿、浅层排气、崩裂和/或刻划头与玻璃带之间的接触损失。

虽然上述实施方案已经参照融合下拉和拉槽工艺进行了描述，但是应当理解，此类实施方案也适用于其他玻璃成型工艺，例如浮法工艺、上拉工艺和压辊工艺。

此类工艺可用于制造玻璃制品，玻璃制品可用于例如电子装置以及其他应用。

对于本领域的技术人员显而易见的是可以在不脱离本公开内容的精神和范围的情况下对本公开的实施方案进行各种修改和变化。因此，本公开内容的目的是涵盖此类修改和变化，只要它们属于所附权利要求及其等同物的范围内。

Claims (22)

1.一种用于刻划玻璃带的设备，包括：

刻划头；

压力调节器，其被配置为对所述刻划头施加偏置力；

第一枢轴机构，其位于所述刻划头和所述压力调节器之间；

第二枢轴机构，其安装在支撑构件上；和

杠杆臂，其位于所述第一枢轴机构和所述第二枢轴机构之间；

其中所述第一枢轴机构和所述第二枢轴机构被配置为旋转，且所述杠杆臂被配置为与所述刻划头的移动联合移动。

2.根据权利要求1所述的设备，其中所述压力调节器包括电-气动调节器。

3.根据权利要求1所述的设备，其中所述第一枢轴机构和所述第二枢轴机构各自包括挠性枢轴轴承。

4.根据权利要求1所述的设备，其中所述刻划头可在约1mm至约10mm范围的距离内移动。

5.根据权利要求1所述的设备，其中所述偏置力的范围为约1psi至约10psi。

6.根据权利要求1所述的设备，其中所述设备被配置为对沿所述玻璃带的宽度延伸的区域进行刻划，所述区域的平均刻痕深度的范围为约0.02mm至约1mm。

7.根据权利要求6所述的设备，其中所述区域的刻痕深度变化的范围为约1μm至约25μm。

8.根据权利要求6所述的设备，其中所述玻璃带在水平方向上输送，而所述刻痕深度在垂直方向上延伸。

9.根据权利要求1所述的设备，其中所述玻璃带的平均厚度的范围为约0.2mm至约10mm。

10.根据权利要求1所述的设备，其中所述玻璃带的温度的范围为约100℃至约900℃。

11.一种刻划玻璃带的方法，包括：

在沿所述玻璃带的宽度延伸的区域内移动刻划头；

使用压力调节器对所述刻划头施加偏置力；

旋转位于所述刻划头和所述压力调节器之间的第一枢轴机构；

旋转安装在支撑构件上的第二枢轴机构；

和

移动位于所述第一枢轴机构和所述第二枢轴机构之间的杠杆臂。

12.根据权利要求11所述的方法，其中所述压力调节器包括电-气动调节器。

13.根据权利要求11所述的方法，其中所述第一枢轴机构和所述第二枢轴机构各自包括挠性枢轴轴承。

14.根据权利要求11所述的方法，其中所述刻划头在范围为约1mm至约10mm范围的距离内移动。

15.根据权利要求11所述的方法，其中所述偏置力的范围为约1psi至约10psi。

16.根据权利要求11所述的方法，其中所述区域的平均刻痕深度的范围为约0.02mm至约1mm。

17.根据权利要求16所述的方法，其中所述区域的刻痕深度变化的范围为约1μm至约25μm。

18.根据权利要求16所述的方法，其中所述玻璃带在水平方向上输送，而所述刻痕深度在垂直方向上延伸。

19.根据权利要求11所述的方法，其中所述玻璃带的平均厚度的范围为约0.2mm至约10mm。

20.根据权利要求11所述的方法，其中所述玻璃带的温度的范围为约100℃至约900℃。

21.一种通过权利要求11所述的方法制成的玻璃制品。

22.一种包括权利要求21所述的玻璃制品的电子装置。