CN117844033A - 光伏组件的制备方法及光伏组件 - Google Patents

光伏组件的制备方法及光伏组件 Download PDF

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CN117844033A
CN117844033A CN202311727106.7A CN202311727106A CN117844033A CN 117844033 A CN117844033 A CN 117844033A CN 202311727106 A CN202311727106 A CN 202311727106A CN 117844033 A CN117844033 A CN 117844033A
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CN
China
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polyvinylidene fluoride
inorganic
fluoride film
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photovoltaic module
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CN202311727106.7A
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孙楠楠
朱建飞
孙晨洋
殷镭城
蔡均均
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Zhongtian Photovoltaic Materials Co ltd
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Zhongtian Photovoltaic Materials Co ltd
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Abstract

本申请涉及光伏技术领域,旨在解决一些已知的光伏组件使用寿命较低的技术问题,提供光伏组件的制备方法及光伏组件。其中,光伏组件的制备方法包括:提供改性聚偏二氟乙烯膜,改性聚偏二氟乙烯膜的材料包括改性聚甲基丙烯酸甲酯粉末、聚偏二氟乙烯粉末和助剂,改性聚甲基丙烯酸甲酯粉末由聚甲基丙烯酸甲酯接枝第一硅烷偶联剂制成;提供无机物胶液,无机物胶液的材料包括无机物前驱体和第二硅烷偶联剂,将无机物胶液均匀地涂覆于改性聚偏二氟乙烯膜的表面,对涂覆有无机物胶液的改性聚偏二氟乙烯膜进行热处理,以使无机物胶液形成无机物阻水镀层,并使无机物阻水镀层与改性聚偏二氟乙烯膜的表面结合。本申请的有益效果是延长光伏组件的使用寿命。

Description

光伏组件的制备方法及光伏组件
技术领域
本申请涉及光伏技术领域,具体而言,涉及光伏组件的制备方法及光伏组件。
背景技术
现有的太阳能电池的封装结构通常设有阻水层,然而太阳能电池的使用环境为较为严苛的室外环境,存在紫外、湿热等恶劣条件的影响,现有的封装结构的阻水层在使用一段时间后容易出现脱落问题,影响到太阳能电池的正常使用。
发明内容
本申请提供光伏组件的制备方法及光伏组件,以解决已知光伏组件使用寿命较低的技术问题。
本申请的实施例是这样实现的:
第一方面,本申请提供一种光伏组件的制备方法,包括:提供改性聚偏二氟乙烯膜,所述改性聚偏二氟乙烯膜的材料包括改性聚甲基丙烯酸甲酯粉末、聚偏二氟乙烯粉末和助剂,所述改性聚甲基丙烯酸甲酯粉末由聚甲基丙烯酸甲酯接枝第一硅烷偶联剂制成;提供无机物胶液,所述无机物胶液的材料包括无机物前驱体和第二硅烷偶联剂,将所述无机物胶液均匀地涂覆于所述改性聚偏二氟乙烯膜的表面,对涂覆有所述无机物胶液的所述改性聚偏二氟乙烯膜进行热处理,以使所述无机物胶液形成无机物阻水镀层,并使所述无机物阻水镀层与所述改性聚偏二氟乙烯膜的表面结合。
根据本申请的光伏组件的制备方法制备光伏组件时,第一硅烷偶联剂使改性聚偏二氟乙烯膜具有第一羟基基团和第一有机基团,其第一有机基团与聚甲基丙烯酸甲酯以及聚偏二氟乙烯的有机高聚物相互作用并连接。第二硅烷偶联剂使无机物阻水镀层中的无机物具有第二羟基基团和第二有机基团,其第二羟基基团与无机物相互结合。同时,第一羟基基团也与无机物相互结合,第二有机基团也与聚甲基丙烯酸甲酯以及聚偏二氟乙烯的有机高聚物相互结合,如此,在微观层面上,通过第一硅烷偶联剂和第二硅烷偶联剂,最终实现无机物、聚甲基丙烯酸甲酯以及聚偏二氟乙烯的相互结合,从而大幅提高了无机物阻水镀层和改性聚偏二氟乙烯膜的连接紧固性。并且,由于无机物阻水镀层和改性聚偏二氟乙烯膜是在微观层面实现紧固连接,即使在改性聚偏二氟乙烯膜出现老化后,无机物阻水镀层仍然可以保持与改性聚偏二氟乙烯膜之间的可靠结合,不容易产生脱层问题,从而大幅延长光伏组件的使用寿命。
并且,通过无机物胶液涂覆于改性聚偏二氟乙烯膜的表面,在涂覆过程中不易损伤改性聚偏二氟乙烯膜,可以保证改性聚偏二氟乙烯膜的表面完好性,并且,涂覆的方式对改性聚偏二氟乙烯膜的表面平整度要求较低,从而可以提高无机物阻水镀层的镀覆成功率,以进一步提高无机物阻水镀层与改性聚偏二氟乙烯膜的结合可靠性。
在一种可能的实施方式中:
所述提供无机物胶液的步骤包括:将所述无机物前驱体与第一有机溶剂混合得到第一溶液;将所述无机物前驱体、第二有机溶剂和第二硅烷偶联剂搅拌混合均匀得到第二溶液;将所述第一溶液和所述第二溶液混合均匀,并加入水和催化剂,在恒温环境静置第一预设时长,得到所述无机物胶液。
在一种可能的实施方式中:
所述将所述无机物胶液均匀地涂覆于所述改性聚偏二氟乙烯膜的表面的步骤包括:涂覆处理,采用浸渍提拉法在平整的所述改性聚偏二氟乙烯膜的表面均匀镀覆所述无机物胶液,在室温干燥第二预设时长,进行多次所述涂覆处理的步骤。
在一种可能的实施方式中:
所述对涂覆有所述无机物胶液的所述改性聚偏二氟乙烯膜进行热处理的步骤包括将完成涂覆所述无机物胶液的所述改性聚偏二氟乙烯膜在第一预设温度下烘烤第三预设时长,并接着在第二预设温度下热处理第四预设时长。
在一种可能的实施方式中:
所述提供改性聚偏二氟乙烯膜的步骤包括:混合所述聚甲基丙烯酸甲酯与所述第一硅烷偶联剂得到第一混合物,在第二预设温度下烘烤所述第一混合物第五预设时长,得到所述改性聚甲基丙烯酸甲酯粉末;混合所述改性聚甲基丙烯酸甲酯粉末、所述聚偏二氟乙烯粉末和所述助剂,于第三预设温度下烘干,制成所述改性聚偏二氟乙烯膜。
在一种可能的实施方式中:
所述第一硅烷偶联剂的材料包括γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷或者乙烯基三乙氧基硅烷。
在一种可能的实施方式中:
所述第一硅烷偶联剂的添加量为所述聚甲基丙烯酸甲酯粉末质量的0.08%至0.3%。
在一种可能的实施方式中:
所述无机物阻水镀层的材料包括二氧化硅、三氧化二铝、氮化锶中的至少一种。
在一种可能的实施方式中:
在所述无机物阻水镀层结合于所述改性聚偏二氟乙烯膜之后,所述光伏组件的制备方法还包括:对所述无机物阻水镀层远离所述改性聚偏二氟乙烯膜的表面进行电晕处理,将基膜材料通过粘接剂涂覆于该表面,再进行复合熟化后得到基膜。
第二方面,本申请提供一种光伏组件,所述光伏组件采用前述的光伏组件的制备方法制成,所述光伏组件包括:基膜;无机物阻水镀层,所述无机物阻水镀层设于所述基膜的表面;改性聚偏二氟乙烯膜,所述改性聚偏二氟乙烯膜连接于所述无机物阻水镀层远离所述基膜的表面。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案,下面将对实施例中的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本申请的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
图1为本申请一实施例的光伏组件的制备方法的流程图;
图2为本申请一实施例的光伏组件的结构示意图。
主要元件符号说明:
光伏组件 100
改性聚偏二氟乙烯膜 10
无机物阻水镀层 20
基膜 30
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。
需要说明的是,当元件被称为“固定于”另一个元件,它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件,它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。当一个元件被认为是“设置于”另一个元件,它可以是直接设置在另一个元件上或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。
除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本申请的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的,不是旨在于限制本申请。本文所使用的术语“或/及”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
本申请的一些实施方式作详细说明。在不冲突的情况下,下述的实施方式及实施方式中的特征可以相互组合。
参见图1,本实施例提供一种光伏组件的制备方法,包括:提供改性聚偏二氟乙烯膜10,改性聚偏二氟乙烯膜10的材料包括改性聚甲基丙烯酸甲酯粉末、聚偏二氟乙烯粉末和助剂,改性聚甲基丙烯酸甲酯粉末由聚甲基丙烯酸甲酯接枝第一硅烷偶联剂制成;提供无机物胶液,无机物胶液的材料包括无机物前驱体和第二硅烷偶联剂,将无机物胶液均匀地涂覆于改性聚偏二氟乙烯膜10的表面,对涂覆有无机物胶液的改性聚偏二氟乙烯膜10进行热处理,以使无机物胶液形成无机物阻水镀层20,并使无机物阻水镀层20与改性聚偏二氟乙烯膜10的表面结合。
第一硅烷偶联剂使改性聚偏二氟乙烯膜10具有第一羟基基团和第一有机基团,其第一有机基团与聚甲基丙烯酸甲酯以及聚偏二氟乙烯的有机高聚物相互作用并连接。第二硅烷偶联剂使无机物阻水镀层20中的无机物具有第二羟基基团和第二有机基团,其第二羟基基团与无机物相互结合。同时,第一羟基基团也与无机物相互结合,第二有机基团也与聚甲基丙烯酸甲酯以及聚偏二氟乙烯的有机高聚物相互结合,如此,在微观层面上,通过第一硅烷偶联剂和第二硅烷偶联剂,最终实现无机物、聚甲基丙烯酸甲酯以及聚偏二氟乙烯的相互结合,从而大幅提高了无机物阻水镀层20和改性聚偏二氟乙烯膜10的连接紧固性。并且,由于无机物阻水镀层20和改性聚偏二氟乙烯膜10是在微观层面实现紧固连接,即使在改性聚偏二氟乙烯膜10出现老化后,无机物阻水镀层20仍然可以保持与改性聚偏二氟乙烯膜10之间的可靠结合,不容易产生脱层问题,从而大幅延长光伏组件100的使用寿命。
并且,通过无机物胶液涂覆于改性聚偏二氟乙烯膜10的表面,在涂覆过程中不易损伤改性聚偏二氟乙烯膜10,可以保证改性聚偏二氟乙烯膜10的表面完好性,并且,涂覆的方式对改性聚偏二氟乙烯膜10的表面平整度要求较低,从而可以提高无机物阻水镀层20的镀覆成功率,以进一步提高无机物阻水镀层20与改性聚偏二氟乙烯膜10的结合可靠性。
当然,在本申请的其他实施例中,无机物阻水镀层20也可以通过磁控溅射、离子束溅射、化学气相沉积、真空蒸镀等方式镀覆于改性聚偏二氟乙烯膜10的表面。
本实施例中,第一有机基团可设为乙烯基(CH2=CH-),第二有机基团可设为氨基乙基氨基丙基(NH2CH2CH2NHCH2CH2CH2-),第一有机基团和第二有机基团的具体分子式可根据不同的第一硅烷偶联剂和第二硅烷偶联剂进行确定。
本实施例中,提供无机物胶液的步骤包括:
将无机物前驱体与第一有机溶剂混合得到第一溶液;将无机物前驱体、第二有机溶剂和第二硅烷偶联剂搅拌混合均匀得到第二溶液;将第一溶液和第二溶液混合均匀,并加入水和催化剂,在恒温环境加热并静置第一预设时长,得到无机物胶液。
无机物前驱体在搅拌混合后在恒温环境内加热后,硅酸酯在催化剂的作用下受到催化并水解并生成硅酸根离子与醇,硅酸根离子形成溶胶,醇形成凝胶,同时,硅酸根离子还与溶解于有机溶剂的第二硅烷偶联剂产生反应,使最终聚合反应所生成的二氧化硅与第二羟基基团结合,并具有第二有机基团。
本实施例中,第一溶液和第二溶液混合形成混合液,水为去离子水,无机物胶液中,混合液、去离子水、二甲基甲酰胺以及硝酸的质量比为20:76:3:1。
本实施例中,恒温环境的温度可设置于85℃至95℃之间的固定温度,例如90℃。
本实施例中,第一有机溶剂和第二有机溶剂均可设为无水乙醇。其他实施例中,还可以在第一溶液或第二溶液中加入纯水。
本实施例中,无机物可设为二氧化硅,二氧化硅所对应的无机物前驱体可设为硅酸酯,例如正硅酸乙酯。其他实施例,无机物前驱体还可设为其他材料。
本实施例中,催化剂包括去离子水、硝酸和二甲基甲酰胺。二甲基甲酰胺与硝酸的质量比可设为15比1。其他实施例中,催化剂也可以设为去离子水、盐酸和可挥发性弱碱溶液如氨水。
本实施例中,将无机物胶液均匀地涂覆于改性聚偏二氟乙烯膜10的表面的步骤包括:涂覆处理,采用浸渍提拉法在平整的改性聚偏二氟乙烯膜10的表面均匀镀覆无机物胶液,在室温干燥第二预设时长,进行多次涂覆处理的步骤。
通过浸渍提拉法可以提高无机物胶液在改性聚偏二氟乙烯膜10表面的镀覆均匀性,同时可以易于通过提拉速度、溶液重力以及无机物胶液的粘度控制镀膜厚度,在一次涂覆处理后,将改性聚偏二氟乙烯膜10放置于室温干燥第二预设时长,以便于改性聚偏二氟乙烯膜10表面的无机物溶液凝胶,此后再次进行涂覆处理。第二预设时长可设为2分钟至4分钟,例如3分钟,第二预设时长可依据无机物溶液的凝胶状况进行调整。
涂覆处理的具体次数可根据无机物阻水镀层20的厚度需求进行调整。
本实施例中,对涂覆有无机物胶液的改性聚偏二氟乙烯膜10进行热处理的步骤包括:将完成涂覆无机物胶液的改性聚偏二氟乙烯膜10在第一预设温度下烘烤第三预设时长,并接着在第二预设温度下热处理第四预设时长。
通过二次烘烤可以使无机物胶液内的无机物前驱体发货所能聚合反应并生成无机物,最终形成无机物阻水涂层。
本实施例中,第一预设温度可设为35℃至45℃之间,例如可设为40℃,第三预设时长可设为12分钟至18分钟之间,例如可设为15分钟。第二预设温度可设为110℃至130℃之间,例如120℃,第四预设时长可设为9小时至11小时之间,例如可设为10小时。
本实施例中,提供改性聚偏二氟乙烯膜10的步骤包括:混合聚甲基丙烯酸甲酯与第一硅烷偶联剂得到第一混合物,在第三预设温度下烘烤第一混合物第五预设时长,得到改性聚甲基丙烯酸甲酯粉末;混合改性聚甲基丙烯酸甲酯粉末、聚偏二氟乙烯粉末和助剂,于第四预设温度下烘干,制成改性聚偏二氟乙烯膜10。
通过将第一硅烷偶联剂与聚甲基丙烯酸甲酯在第三预设温度下混合烘烤,即可使第一硅烷偶联剂的第一有机基团与聚甲基丙烯酸甲酯的有机高聚物反应,从而得到改性聚甲基丙烯酸甲酯。通过将改性聚甲基丙烯酸甲酯、聚偏二氟乙烯粉末和助剂混合后,即可制得改性聚偏二氟乙烯膜10。
本实施例中,制作改性聚偏二氟乙烯膜10的工艺科采用氟膜吹塑成型工艺,其具体步骤包括,对混合粉末进行造粒挤出和吹膜的步骤。
本实施例中,助剂可设为紫外吸收剂、抗氧剂、分散剂等加工或者性能改善助剂,例如高分子量羟苯基苯并三唑类紫外线吸收剂、双(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)癸二酸酯、非卤素三聚氰胺型阻燃剂等。
本实施例中,聚甲基丙烯酸甲酯的添加量为聚偏二氟乙烯质量的10%至40%,例如,该比例可为10%、15%、20%、25%、30%、35%和40%中的任意一个。其他实施例中,该比例还可设为其他数值。
本实施例中,第三预设温度可设为110℃至130℃,第五预设时长可设为25分钟至35分钟,第四预设温度可设为50℃至70℃,例如可设为60℃。
本实施例中,第一硅烷偶联剂的材料包括γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷或者乙烯基三乙氧基硅烷。
本实施例中,第一硅烷偶联剂的添加量为聚甲基丙烯酸甲酯粉末质量的0.08%至0.3%。
本实施例中,无机物阻水镀层20的材料包括二氧化硅、三氧化二铝、氮化锶中的至少一种。无机物阻水镀层20的材料可根据实际需求确定,并且,无机物前驱体可根据选定的无机物阻水镀层20的材料确定。
本实施例中,在无机物阻水镀层20连接于改性聚偏二氟乙烯膜10的步骤之后,光伏组件的制备方法还包括:对阻水镀层远离改性聚偏二氟乙烯膜10的表面进行电晕处理,将基膜材料通过粘接剂涂覆于该表面,再进行复合熟化后得到基膜30。
通过压合的方式,在阻水镀层的另一表面可通过粘接剂固定基膜材料,以得到基膜30。
本实施例中,粘接剂可设为丙烯酸类胶水。
本实施例中,基膜材料可设为PET树脂、PBT树脂或者PC树脂等。
参见图2,本实施例还提供一种光伏组件100,光伏组件100采用前述的光伏组件的制备方法制成,光伏组件100包括基膜30、无机物阻水镀层20和改性聚偏二氟乙烯膜10。无机物阻水镀层20设于基膜30的表面。改性聚偏二氟乙烯膜10连接于无机物阻水镀层20远离基膜30的表面。
本实施例中,改性聚偏二氟乙烯膜10的厚度可设为30微米至50微米之间。
本实施例中,无机物阻水镀层20的厚度可设为1微米至5微米之间,例如可设为1.5微米。
本实施例的光伏组件100可作为太阳能光伏面板的前板或者后板应用。
实施例1
使用γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷偶联剂(即第一硅烷偶联剂)直接喷洒在聚甲基丙烯酸甲酯树脂粉料基体中,使用量为聚甲基丙烯酸甲酯的0.15%,在120℃的条件下烘烤30min,重新研磨粉碎后,即可获得改性聚甲基丙烯酸甲酯,将改性聚甲基丙烯酸甲酯和聚偏二氟乙烯树脂以及其他助剂等混合均匀,60℃烘干后,使用常规氟膜吹塑成型的工艺条件进行造粒挤出、吹膜,得到膜材厚度在30-50um的改性聚偏二氟乙烯膜10。
使用溶胶-凝胶的方法对改性聚偏二氟乙烯膜10进行镀层处理,所形成的无机物阻水镀层20的主要材料为二氧化硅。溶胶具体成分和配制方法:
在制备无机物阻水镀层20的过程中,以正硅酸乙酯作为无机物前驱体。首先,将用量的1/2的正硅酸乙酯和无水乙醇进行混合并搅拌,搅拌时间为10min,得到第一溶液。将用量的另1/2的正硅酸乙酯、无水乙醇、F-硅烷偶联剂(即第二硅烷偶联剂)三者进行搅拌,搅拌时间为10min得到第二溶液。将第一溶液和第二溶液同时加入到三口瓶当中,并进行充分搅拌,搅拌时间为10min,加入硝酸和二甲基甲酰胺来调节混合液的pH2-3。将混合液置于90℃恒温下继续进行反应1.5h。
将第一溶液和第二溶液的混合物、去离子水、二甲基甲酰胺以及硝酸按照21:81:4:1的质量比进行混合,制得无机物胶液。
采用浸渍提拉法将一面贴在平整玻璃上50um厚的改性聚偏二氟乙烯膜10表面镀上均匀的胶液,提拉速度控制在1~5cm/min,室温下干燥3分钟,待无机物胶液凝胶后,再次提膜,重复以上操作3-5次之后,将涂覆有无机物胶液后的改性聚偏二氟乙烯膜10放入烘箱进行热处理,烘箱设置条件为40℃,15min,最后在120℃的条件下热处理10h得到1.5um厚度镀膜样品。
对比例1
对比例1的制备方法与实施例的制备方法大致相近,区别在于,对比例1没有执行无机物阻水镀层20的镀覆步骤。
对比例2
对比例2的制备方法与实施例的制备方法大致相近,区别在于,对比例2没有执行PMMA的改性步骤。
对比例3
对比例3的制备方法与实施例的制备方法大致相近,区别在于,对比例3在无机物阻水镀层20的镀覆步骤中,没有加入第二硅烷偶联剂。
对比例4
对比例4的制备方法与实施例的制备方法大致相近,区别在于,对比例4在无机物阻水镀层20的镀覆步骤中,第一溶液和第二溶液混合的反应温度为60℃。
对比例5
对比例5的制备方法与实施例的制备方法大致相近,区别在于,对比例5在热处理步骤中,第二预设温度设置为150℃。
依照分别测试实施例1、对比例1-5所得的各样品的性能,性能测试方式分别依照国标GB/T26253-2010《塑料薄膜和薄片水蒸气透过率的测定红外检测器法》测试水蒸气透过率,依照GB/T1040.3-2006《塑料拉伸性能的测定第3部分:薄膜和薄片的试验条件》测试力学性能,依照GB/T9286-2021《色漆和清漆划格试验》测试初始附着力等级,依照GB/T9286-2021《色漆和清漆划格试验》的规定测试无机物阻水镀层20的复合后层间剥离力,以及PCT处理24小时老化后的附着力等级,依照GB/T2790-1995《胶粘剂180°剥离强度试验方法挠性材料对刚性材料》测试初始剥离力以及PCT处理24小时后老化的剥离力,得到的数据如表1所示。
表1
从表1的数据可以看出,实施例1的样品水蒸气透过率、拉伸强度、初始附着力及老化附着力均满足要求。
对比例1样品没有进行镀层处理,其水蒸气透过率不满足要求,拉伸强度也较低。
对比为例2样品进行了镀层处理,制备聚偏二氟乙烯膜时没有加入第一硅烷偶联剂,导致其PCT处理24小时候的附着力等级不满足要求,且层间剥离力大幅降低,也无法满足耐久性要求。
对比例3样品进行了镀层处理,镀层处理过程中没有加入第二硅烷偶联剂,在制备改性聚偏二氟乙烯膜10时加入第一硅烷偶联剂,导致镀层与改性聚偏二氟乙烯膜10的结合性仍然较差,并使PCT处理24小时候的附着力等级不满足要求,且层间剥离力大幅降低,也无法满足耐久性要求。
对比例4样品进行了镀层处理,在镀层处理过程中加入第二硅烷偶联剂,在制备改性聚偏二氟乙烯膜10时加入第一硅烷偶联剂,然而其无机物胶液中的混合液的反应温度为60℃,镀膜后的热处理温度为100℃,使得PCT处理24小时候的附着力等级不满足要求,且层间剥离力大幅降低,也无法满足耐久性要求。
对比例5样品进行了镀层处理,在镀层处理过程中加入第二硅烷偶联剂,在制备改性聚偏二氟乙烯膜10时加入第一硅烷偶联剂,然而其镀膜后的热处理温度为150℃,无机物胶液中的混合液的反应温度为90℃,使无机物阻水镀层20无法保持与改性聚偏二氟乙烯膜10结合。
以上实施方式仅用以说明本申请的技术方案而非限制,尽管参照以上较佳实施方式对本申请进行了详细说明,本领域的普通技术人员应当理解,可以对本申请的技术方案进行修改或等同替换都不应脱离本申请技术方案的精神和范围。

Claims (10)

1.一种光伏组件的制备方法,其特征在于,包括:
提供改性聚偏二氟乙烯膜,所述改性聚偏二氟乙烯膜的材料包括改性聚甲基丙烯酸甲酯粉末、聚偏二氟乙烯粉末和助剂,所述改性聚甲基丙烯酸甲酯粉末由聚甲基丙烯酸甲酯接枝第一硅烷偶联剂制成;
提供无机物胶液,所述无机物胶液的材料包括无机物前驱体和第二硅烷偶联剂,将所述无机物胶液均匀地涂覆于所述改性聚偏二氟乙烯膜的表面,对涂覆有所述无机物胶液的所述改性聚偏二氟乙烯膜进行热处理,以使所述无机物胶液形成无机物阻水镀层,并使所述无机物阻水镀层与所述改性聚偏二氟乙烯膜的表面结合。
2.根据权利要求1所述的光伏组件的制备方法,其特征在于:
所述提供无机物胶液的步骤包括:
将所述无机物前驱体与第一有机溶剂混合得到第一溶液;
将所述无机物前驱体、第二有机溶剂和第二硅烷偶联剂搅拌混合均匀得到第二溶液;
将所述第一溶液和所述第二溶液混合均匀,并加入水和催化剂,在恒温环境静置第一预设时长,得到所述无机物胶液。
3.根据权利要求1所述的光伏组件的制备方法,其特征在于:
所述将所述无机物胶液均匀地涂覆于所述改性聚偏二氟乙烯膜的表面的步骤包括:
涂覆处理,采用浸渍提拉法在平整的所述改性聚偏二氟乙烯膜的表面均匀镀覆所述无机物胶液,在室温干燥第二预设时长,进行多次所述涂覆处理的步骤。
4.根据权利要求1所述的光伏组件的制备方法,其特征在于:
所述对涂覆有所述无机物胶液的所述改性聚偏二氟乙烯膜进行热处理的步骤包括
将完成涂覆所述无机物胶液的所述改性聚偏二氟乙烯膜在第一预设温度下烘烤第三预设时长,并接着在第二预设温度下热处理第四预设时长。
5.根据权利要求1所述的光伏组件的制备方法,其特征在于:
所述提供改性聚偏二氟乙烯膜的步骤包括:
混合所述聚甲基丙烯酸甲酯与所述第一硅烷偶联剂得到第一混合物,在第二预设温度下烘烤所述第一混合物第五预设时长,得到所述改性聚甲基丙烯酸甲酯粉末;
混合所述改性聚甲基丙烯酸甲酯粉末、所述聚偏二氟乙烯粉末和所述助剂,于第三预设温度下烘干,制成所述改性聚偏二氟乙烯膜。
6.根据权利要求5所述的光伏组件的制备方法,其特征在于:
所述第一硅烷偶联剂的材料包括γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷或者乙烯基三乙氧基硅烷。
7.根据权利要求5所述的光伏组件的制备方法,其特征在于:
所述第一硅烷偶联剂的添加量为所述聚甲基丙烯酸甲酯粉末质量的0.08%至0.3%。
8.根据权利要求1所述的光伏组件的制备方法,其特征在于:
所述无机物阻水镀层的材料包括二氧化硅、三氧化二铝、氮化锶中的至少一种。
9.根据权利要求1所述的光伏组件的制备方法,其特征在于:
在所述无机物阻水镀层结合于所述改性聚偏二氟乙烯膜之后,所述光伏组件的制备方法还包括:
对所述无机物阻水镀层远离所述改性聚偏二氟乙烯膜的表面进行电晕处理,将基膜材料通过粘接剂涂覆于该表面,再进行复合熟化后得到基膜。
10.一种光伏组件,其特征在于,所述光伏组件采用如权利要求1至9中任一项所述的光伏组件的制备方法制成,所述光伏组件包括:
基膜;
无机物阻水镀层,所述无机物阻水镀层设于所述基膜的表面;
改性聚偏二氟乙烯膜,所述改性聚偏二氟乙烯膜连接于所述无机物阻水镀层远离所述基膜的表面。
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