CN117796729A - 清洁系统、用于清洁系统的维护方法和计算机可读储存介质 - Google Patents

Abstract

本发明公开了清洁系统、用于清洁系统的维护方法和计算机可读储存介质，所述清洁系统包括表面清洁设备和基站，所述表面清洁设备包括清洁组件和第一污水箱；所述基站包括控制组件和第二污水箱，所述控制组件配置为执行对所述表面清洁设备和/或所述基站的自清洁程序；所述第二污水箱包括排污口和第一端盖和第二端盖，所述第一端盖和所述第二端盖择一安装至所述第二污水箱；所述控制组件配置为当所述排污口安装第一端盖时，所述控制组件执行第一自清洁程序；当所述排污口安装第二端盖时，所述控制组件执行第二自清洁程序。通过应用上述技术方案，可以根据不同端盖自动切换自清洁程序，以适应多种使用情况，为用户使用提供便利。

Description

清洁系统、用于清洁系统的维护方法和计算机可读储存介质

技术领域

本发明涉及清洁系统技术领域，特别涉及清洁系统、用于清洁系统的维护方法和计算机可读储存介质。

背景技术

一般用户家庭仅阳台和卫生间设置地漏，而阳台地漏已安装洗衣机或洗手池，卫生间地漏已安装洗浴设施。因此，在相关技术中，用户在新添置自动上下水的洗地机和基站时，需要连接地漏使用，但阳台或卫生间没有多余地漏使得基站无法适应排污环境，而基站无其它设计使得污水可以暂时存储，使得用户在产品选择时存在局限，也对安装环境存在局限。

发明内容

本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本发明的一个目的在于提出一种清洁系统，可以根据使用需求切换自清洁程序，以适应多种使用情况，为用户使用提供便利。

本发明的另一个目的在于提出另一种清洁系统，可以提高使用灵活性。

本发明的再一个目的在于提出一种用于清洁系统的维护方法，可以实现清洁系统的自动化运行。

本发明的再一个目的在于提出另一种用于清洁系统的维护方法，可以实现清洁系统的自动化运行。

本发明的又一个目的在于提出一种计算机可读储存介质，可以执行前述的用于清洁系统的维护方法。

根据本发明实施例的清洁系统，包括表面清洁设备和基站，所述表面清洁设备包括清洁组件和第一污水箱；所述基站包括控制组件和第二污水箱，所述控制组件配置为执行对所述表面清洁设备和/或所述基站的自清洁程序；所述第二污水箱包括排污口和第一端盖和第二端盖，所述第一端盖和所述第二端盖择一安装至所述第二污水箱；所述控制组件配置为当所述排污口安装第一端盖时，所述控制组件执行第一自清洁程序；当所述排污口安装第二端盖时，所述控制组件执行第二自清洁程序。

根据本发明实施例的清洁系统，通过配置适于与第二污水箱配合第一端盖和第二端盖，使得可以根据使用需求切换自清洁程序，以适应多种使用情况，为用户使用提供便利。

另外，根据本发明上述实施例的清洁系统还可以具有如下附加的技术特征：

在本发明的一些示例中，所述第一自清洁程序至少包括：对清洁组件进行自清洁；对第一污水箱进行自清洁；对第二污水箱进行自清洁。

在本发明的一些示例中，所述第二自清洁程序至少包括：对清洁组件进行自清洁，进行大于1的预定次数；对第一污水箱进行自清洁；对第二污水箱进行自清洁，进行大于1的预定次数。

在本发明的一些示例中，所述第二自清洁程序至少包括：控制第二污水箱进行排水。

在本发明的一些示例中，所述第二自清洁程序的用时大于所述第一自清洁程序的用时。

根据本发明实施例的清洁系统，包括表面清洁设备和基站，所述表面清洁设备包括清洁组件和第一污水箱；所述基站包括控制组件和第二污水箱，所述控制组件配置为执行对所述表面清洁设备和/或所述基站的自清洁程序；所述第二污水箱至少具有储水模式和排水模式；所述控制组件配置为当所述第二污水箱处于储水模式时，所述控制组件执行第一自清洁程序；当所述第二污水箱处于排水模式时，所述控制组件执行第二自清洁程序。

根据本发明实施例的清洁系统，可以根据第二污水箱的储水模式和排水模式执行不同的自清洁程序，可以提高使用的灵活性和智能性。

在本发明的一些示例中，所述第一自清洁程序至少包括：对清洁组件进行自清洁；对第一污水箱进行自清洁；对第二污水箱进行自清洁。

在本发明的一些示例中，所述第二自清洁程序至少包括：对清洁组件进行自清洁，进行大于1的预定次数；对第一污水箱进行自清洁；对第二污水箱进行自清洁，进行大于1的预定次数。

在本发明的一些示例中，所述第二自清洁程序至少包括：控制第二污水箱进行排水。

在本发明的一些示例中，所述第二自清洁程序的用时大于所述第一自清洁程序的用时。

根据本发明实施例的用于清洁系统的维护方法，所述清洁系统包括表面清洁设备和基站，所述表面清洁设备包括清洁组件和第一污水箱；所述基站包括控制组件和第二污水箱，所述第二污水箱包括排污口和至少第一端盖和第二端盖，所述第一端盖和所述第二端盖择一安装至所述第二污水箱，所述控制组件配置为执行对所述表面清洁设备和/或所述基站的自清洁程序；所述维护方法包括：控制组件获取排污口对接的端盖类型；在确定排污口对接第一端盖时，控制组件执行第一自清洁程序；或者在确定排污口对接第二端盖时，控制组件执行第二自清洁程序。

根据本发明实施例的用于清洁系统的维护方法，可以判断排污口对接的端盖类型，从而自动执行与端盖对应的自清洁程序，实现清洁系统的自动化运行，为用户使用提供便利。

在本发明的一些示例中，所述第二自清洁程序至少包括：控制第二污水箱进行排水。

根据本发明实施例的用于清洁系统的维护方法，所述清洁系统包括表面清洁设备和基站，所述表面清洁设备包括清洁组件和第一污水箱；所述基站包括控制组件和第二污水箱，所述控制组件配置为执行对所述表面清洁设备和/或所述基站的自清洁程序；所述维护方法包括：控制组件获取基站的第二污水箱的运行模式，所述运行模式包括储水模式和排水模式；在确定运行模式为储水模式时，控制组件执行第一自清洁程序；或者在确定运行模式为排水模式时，控制组件执行第二自清洁程序。

根据本发明实施例的用于清洁系统的维护方法，可以判断第二污水箱的运行模式，从而可以自动执行与当前运行模式相对应的自清洁程序，实现清洁系统的自动化运行，为用户使用提供便利。

在本发明的一些示例中，所述第二自清洁程序至少包括：控制第二污水箱进行排水。

根据本发明实施例的计算机可读存储介质，其上存储有清洁程序，所述清洁程序被执行时实现前述的维护方法。

根据本发明实施例的计算机可读存储介质，通过执行其上存储有的清洁程序，能够在对清洁系统进行维护的过程中，提高清洁效果和运行自动性，为用户使用提供便利。

附图说明

图1是本发明一些实施例中清洁系统的结构示意图；

图2是本发明一些实施例中基站的结构示意图；

图3是本发明一些实施例中第二污水箱的结构示意图；

图4是本发明一些实施例中第一端盖的结构示意图；

图5是本发明一些实施例中第二端盖的结构示意图；

图6是本发明一些实施例中用于清洁系统的维护方法的流程示意图；

图7是本发明另一些实施例中用于清洁系统的维护方法的流程示意图。

附图标记：

1000、清洁系统；100、基站；10、第二污水箱；11、箱体；101、排污口；12、箱盖；20、第二清水箱；30、第一端盖；301、周壁、302、底壁；40、第二端盖；50、托盘；200、表面清洁设备；210、第一清水箱；220、清洁组件。

具体实施方式

下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。

结合图1至图7，根据本发明实施例的清洁系统1000，包括表面清洁设备200和基站100，表面清洁设备200包括清洁组件220和第一污水箱，其中，清洁组件220用于与表面直接接触以实现清洁效果，例如清洁地面，第一污水箱可以用于收集清洁后产生的污水；基站100包括控制组件(未示出)和第二污水箱10，控制组件配置为执行对表面清洁设备和/或基站的自清洁程序，可以提高清洁效果和清洁系统1000的智能性，第二污水箱10可以用于收集清洁后产生的污水。

进一步地，结合图3至图5，第二污水箱10包括排污口101和第一端盖30和第二端盖40，第一端盖30和第二端盖40择一安装至第二污水箱10；控制组件配置为当排污口101安装第一端盖30时，控制组件执行第一自清洁程序；当排污口101安装第二端盖40时，控制组件执行第二自清洁程序。也就是说，第二污水箱10具有两种清洁程序，用户可以根据使用需要通过选择性的安装第一端盖30或第二端盖40而执行对应的清洁程序，以提高使用灵活性，为用户在不同环境下使用清洁系统1000提供便利。

根据本发明实施例的清洁系统1000，通过配置适于与第二污水箱10配合第一端盖30和第二端盖40，使得根据不同的端盖切换自清洁程序，以适应多种使用情况，为用户使用提供便利。

在本发明的一些实施例中，控制组件可以包括MCU(微控制单元)、SOC(系统级芯片)等，本发明不限于此。

在本发明的一些实施例中，第一自清洁程序至少包括：对清洁组件220进行自清洁；对第一污水箱进行自清洁；对第二污水箱10进行自清洁。具体地，清洁组件220对工作表面进行清洁后产生的污物和污水被收集到第一污水箱内，且清洁组件220会被工作表面的污物污染，因此，表面清洁设备200与基站100连接时，可以在基站100内进行清洁组件220的清洗，以实现清洁组件220的自清洁，第二污水箱10可以用于收集清洁后的污水。第一污水箱将污水排出后，箱体11可能存在残留的污水，导致卫生情况不佳，因此，第一自清洁还可以包括对第一污水箱的自清洁以及对第二污水箱10的自清洁，利于提高第一污水箱和第二污水箱10的清洁性，且用户无需手动操作清洁污水箱，为用户使用提供了便利。

在本发明的一些实施例中，第二自清洁程序包括：对清洁组件220进行自清洁，进行大于1的预定次数，即可以对清洁组件220进行重复清洁，以提高清洁效果，实现深度清洁，例如清洁组件220的自清洁结束后重复1次。第二自清洁程序还对第一污水箱进行自清洁，以提高第一污水箱的清洁性。第二自清洁程序包括还对第二污水箱10进行自清洁，进行大于1的预定次数。也就是说，在第二自清洁程序下，对第二污水箱10的自清洁操作可以重复多次，以提高清洁效果。由于第二自清洁程序可以对第二污水箱10进行排水，因此，便于将多次清洁产生的水排出。进一步地，当第二污水箱10与排污通道如下水道连接时，第二自清洁程度对第二污水箱10的多次清洁不仅可以提高第二污水箱10的清洁程度，还可以对排污通道进行冲刷，以提高排污环境。

在本发明的一些实施例中，第二自清洁程序至少包括：控制第二污水箱10进行排水，可以实现自动化控制排水，且利于提高清洁效果。具体而言，可以根据第二污水箱10内的水位判断第二污水箱10是否需要排水，从而实现第二污水箱10的自动排水。举例而言，基站100可以包括开关件，开关件用于打开和关闭第二污水箱10与排污通道，当控制第二污水箱10进行排水时，开关件打开以第二污水箱10的排污口101与排污通道连通，实现自动排污的效果。其中，第二污水箱10内可以设置水位检测件(图中未示出)，水位检测件可以用于检测第二污水箱10内的水位，以判断第二污水箱10是否进行排水，水位检测件可以与开关件信号传输，以在第二污水箱10的水位到达预定值时，控制开关件打开或关闭排污口101。

在本发明的一些实施例中，第二自清洁程序的用时大于第一自清洁程序的用时，可以提高清洁效果。例如在第二自清洁程序时，由于可以控制第二污水箱10进行排水，因此，对清洁时的用水量和清洁时间限制较小，利于提高清洁效果；在第一自清洁程序时，清洁用时较短，用水量较少，便于用户对第二污水箱10进行排水，为用户使用提供便利。

结合图1至图7，根据本发明实施例的清洁系统1000，包括表面清洁设备200和基站100，表面清洁设备200包括清洁组件220和第一污水箱；基站100包括控制组件和第二污水箱10，控制组件配置为控制清洁组件220、第一污水箱和第二污水箱10进行自清洁，以实现自动清洁。进一步地，第二污水箱10至少具有储水模式和排水模式，控制组件配置为当第二污水箱10处于储水模式时，控制组件执行第一自清洁程序；当第二污水箱10处于排水模式时，控制组件执行第二自清洁程序。也就是说，清洁系统1000可以根据第二污水箱10内污水是否排出确定自清洁模式。具体地，当第二污水箱10为储水模式时，第二污水箱10内的存水量有限，而排水模式可以将污水箱内的水排出，因此，可以根据第二污水箱10的不同模式选择适当的清洁模式，以为用户使用提供便利。

根据本发明实施例的清洁系统1000，可以根据第二污水箱10的储水模式和排水模式执行不同的自清洁程序，以便于用户根据实际情况进行选择，可以提高使用的智能性和使用灵活性。

在本发明的一些实施例中，第一自清洁程序至少包括：对清洁组件220进行自清洁；对第一污水箱进行自清洁；对第二污水箱10进行自清洁，可以实现对表面清洁设备200和基站100第二污水箱10的自动清洁，利于提高清洁效果。

在本发明的一些实施例中，第二自清洁程序至少包括：对清洁组件220进行自清洁，进行大于1的预定次数；对第一污水箱进行自清洁；对第二污水箱10进行自清洁，进行大于1的预定次数，可以提高清洁效果，实现深度清洁。也就是说，在排水模式下，可以重复进行清洁组件220的自清洁和第二污水箱10的自清洁，这样，可以提高清洁效果，且清洁产生的污水可以通过第二污水箱10排出，以便于排出污水。

在本发明的一些实施例中，第二自清洁程序至少包括：控制第二污水箱10进行排水，可以实现自动化控制排水，且利于提高清洁效果。其中，第二污水箱10的排水方式可以参照前述，在此不再赘述。

在本发明的一些实施例中，第二自清洁程序的用时大于第一自清洁程序的用时，以提高清洁效果。具体地，由于第二自清洁程序下，第二污水箱10为排水模式，因此清洁污水箱产生的污水便于排出，便于对清洁组件220和第二污水箱10进行深度清洁，以提高清洁效果。

可选地，可以根据使用情况切换使用第一自清洁程序和第二自清洁程序，例如，在清洁系统1000使用一段时间后进行深度清洁。具体地，在本发明的一些实施例中，用户可以选择将第二端盖40安装在第二污水箱10的排污口101上，以将清洁系统1000从第一自清洁程序切换至第二自清洁程序。也可以是，在本发明的另一些实施例中，用户可以将第二污水箱10的模式从储水模式切换至排水模式，以将清洁系统1000从第一自清洁程序切换至第二自清洁程序。

结合图1至图6，根据本发明一些实施例的用于清洁系统1000的维护方法，清洁系统1000包括表面清洁设备200和基站100，表面清洁设备200包括清洁组件220和第一污水箱；基站100包括控制组件和第二污水箱10，第二污水箱10包括排污口101和至少第一端盖30和第二端盖40，第一端盖30和第二端盖40择一安装至第二污水箱10，控制组件配置为控制清洁组件220、第一污水箱和第二污水箱10进行自清洁。

结合图6，维护方法包括：S101，控制组件获取排污口101对接的端盖类型；S201，在确定排污口101对接第一端盖30时，控制组件执行第一自清洁程序；或S202，在确定排污口101对接第二端盖40时，控制组件执行第二自清洁程序。具体地，用户可以根据实际情况或使用环境，为第二污水箱10的排污口101选择不同的端盖，以切换相应的自清洁程序，实现自动清洁，且利于提高清洁效果，为用户使用提供便利。更为具体地，控制组件可以判断用户在第二污水箱10排污口101上安装的端盖类型，从而根据端盖类型确定执行预定的自清洁程序。

根据本发明实施例的用于清洁系统1000的维护方法，可以判断排污口101对接的端盖类型，从而自动执行与端盖对应的自清洁程序，实现清洁系统1000的自动化运行，为用户使用提供便利。

在本发明的一些实施例中，基站100还可以包括检测组件(图中未示出)，检测组件与第二污水箱10配合，并用于检测第二污水箱10的排污口101连接的端盖类型，端盖类型包括封闭端盖和直排端盖，封闭端盖适于封闭第二污水箱10的排污口101，直排端盖适于第二污水箱10的排污口101与外界保持流体连通，检测组件可以与控制组件信号传输。

在本发明的一些实施例中，第二自清洁程序至少包括：控制第二污水箱10进行排水。也就是说，第二自清洁模式具有排水功能，可以排出第二污水箱10内的水，这样，第二污水箱10内的水可以直接排出，用户无需手动操作(例如取出第二污水箱10倒掉污水)，可以为用户使用清洁系统1000提供便利。其中，控制第二污水箱10进行排水还可以包括根据箱体11内水位情况或箱体11内污水重量等方式控制排水方式等，本发明不限于此。

结合图1至图5和图7，根据本发明另一些实施例的用于清洁系统1000的维护方法，清洁系统1000包括表面清洁设备200和基站100，表面清洁设备200包括清洁组件220和第一污水箱；基站100包括控制组件和第二污水箱10，控制组件配置为控制清洁组件220、第一污水箱和第二污水箱10进行自清洁。

结合图7，维护方法包括：S102，控制组件获取基站100的第二污水箱10的运行模式，运行模式包括储水模式和排水模式；S203，在确定运行模式为储水模式时，控制组件执行第一自清洁程序；或者S204，在确定运行模式为排水模式时，控制组件执行第二自清洁程序，以使清洁系统1000可以根据第二污水箱10的运行模式自动执行与所述运行模式对应的自清洁程序，提高清洁系统1000运行的智能性。具体地，控制组件获取运行模式后确认执行与当前运行模式相对应的自清洁程序，可以减少用户手动选择模式这一步骤，还可以避免用户手动选择的运行模式与实际不符，而造成自清洁程度错误的问题。更为具体地，在储水模式时，第二污水箱10的储水能力有限，因此，第一自清洁程序可以是用水较少的清洁方式；在排水模式时，第二污水箱10内的污水可以排出，因此，第二自清洁模式可以不限制清洗时的用水量。

根据本发明实施例的用于清洁系统1000的维护方法，可以判断第二污水箱10的运行模式，从而可以自动执行与当前运行模式相对应的自清洁程序，实现清洁系统1000的自动化运行，为用户使用提供便利。

在本发明的一些实施例中，第二自清洁程序至少包括：控制第二污水箱10进行排水。

在本发明的一些实施例中，第二自清洁程序的清洁液用量高于第一自清洁模式的清洁液用量。

更为具体地，在本发明的一些实施例中，第一自清洁程序包括：控制表面清洁设备200执行清洁组件220的自清洁；控制基站100对表面清洁设备200的第一污水箱抽污；控制表面清洁设备200执行第一污水箱自清洁。

在本发明的一些实施例中，第二自清洁程序包括：控制表面清洁设备200执行清洁组件220的自清洁，并重复执行大于1的预定次数；控制基站100对表面清洁设备200的第一污水箱抽污；控制表面清洁设备200执行第一污水箱自清洁，并重复执行大于1的预定次数。

在本发明的一些实施例中，预定次数大于1且不大于10。

在本发明的一些实施例中，基站100包括用于放置表面清洁设备200的清洁组件220的托盘50，控制表面清洁设备200执行清洁组件220自清洁，包括：控制基站100或表面清洁设备200向托盘50供应清洁液；控制表面清洁设备200的清洁组件220旋转第一预定时间；控制表面清洁设备200抽污，将托盘50的污水抽至表面清洁设备200的第一污水箱。

在本发明的一些实施例中，表面清洁设备200污水箱内设有喷淋装置，控制表面清洁设备200执行第一污水箱自清洁，包括：控制喷淋装置喷淋第二预定时间；控制基站100对表面清洁设备200的第一污水箱抽污。

根据本发明一个具体实施例的清洁系统1000，结合图，第一自清洁程序可以包括，启动第一自清洁程序，第一清水箱向清洁组件220提供清洁液，清洁组件220可以是滚刷，滚刷正向旋转，同时洗地机抽污30秒，排清洁水时，基站100风机开启8秒后关闭。第一污水箱通过喷淋装置喷淋7秒，大约使用150毫升水，第一污水箱排污时，基站100风机开启8秒后关闭，可以将第一污水箱内的污水排至第二污水箱10。

第二自清洁程序可以包括，启动第二自清洁程序，第一清水箱向清洁组件220提供清洁液，清洁组件220可以是滚刷，滚刷正向旋转，同时洗地机抽污30秒，其中，清洁组件220的清洁可以重复进行一次。排清洁水时，基站100风机开启8秒后关闭。第一污水箱通过喷淋装置喷淋7秒，大约使用150毫升水，其中，第一污水箱的清洗也可以重复进行一次。第一污水箱清洁完成后，排污时，基站100风机开启8秒后关闭，可以将第一污水箱内的污水排至第二污水箱10。

根据本发明实施例的计算机可读存储介质，其上存储有清洁程序，清洁程序被执行时实现前述的维护方法，通过执行其上存储有的清洁程序，能够在对清洁系统1000进行维护的过程中，提高清洁效果和运行自动性，为用户使用提供便利。

结合图1，根据本发明一些实施例的清洁系统1000，表面清洁设备200还包括第一清水箱210，第一清水箱210内的水可以向清洁组件220提供用于清洁的清水，其中，第一清水箱210内的水还可以用于供给第一污水箱，以实现第一污水箱的自清洁。基站100还包括第二清水箱20，第二清水箱20内的水可以用于供给第一清水箱210，第二清水箱20内的水还可以供给第二污水箱10以实现第二污水箱10的自清洁。基站100还包括托盘50，托盘50设于基站100底部，托盘50内构造出容置腔，表面清洁设备200的清洁组件220可以放置于容置腔内，以在容置腔内进行清洁组件220的自清洁。

进一步地，结合图2，第二污水箱10包括箱体11和箱盖12，箱盖12可以打开地封闭箱体11，排污口101设于箱体11的底面上，以便于从箱体11底部排出污水。更进一步地，箱体11的内底面在从周缘到排污口101的方向上向下倾斜，可以提高排水效果，利于排净污水。

如图3示出了第一端盖30，第一端盖30可以为封闭端盖，第一端盖30包括周壁301和底壁302，底壁302连接于周壁301的下端并与周壁301密封连接，由此，第一端盖30安装于排污口101时，第二污水箱10内的水不能通过第一端盖30，可以执行第一自清洁程序；或者判断第二污水箱10为储水模式。如图4示出了第二端盖40，第二端盖40可以为直排端盖，第二端盖40呈沿上下方向延伸的管状，上下两端贯，以利于与排污口101和排污通道连通，以实现直接排水。结合前述，当用户安装将第二端盖40安装于排污口101时，可以执行第二自清洁程序；或者是判断第二污水箱10为排水模式。这样，通过在清洁系统1000中设置可以切换使用的第一端盖30和第二端盖40，用户可以根据实际情况进行安装，如当用户不方便将第二污水箱10与排污通道或下水道相连时，可以选择封闭形式的第一端盖30，从而执行第一自清洁程序。当用户可以将第二污水箱10与排污通道或下水道相连时，可以选择直排形式的第一端盖30，从而执行第二自清洁程序。也可以是，用户可以定期将第二污水箱10与排污通道或下水道相连，例如用户改变了使用环境或者使用环境发生变化等，此时，用户可以通过切换第一端盖30和第二端盖40来改变自清洁模式，从而提高用户使用时的灵活性。

更进一步地，第一端盖30和第二端盖40与排污口101螺纹连接且密封配合，以提高配合的紧密性和密封性且易于装配。

下面参照附图描述本发明一个具体实施例的清洁系统1000和用于清洁系统1000的维护方法。

根据本发明实施例的清洁系统1000，包括表面清洁设备200和基站100，其中，基站100的第二污水箱10可拆卸且方便拆卸。第二污水箱10下方设置排污口101，第二污水箱10内的污水可从排污口101排出。排污口101外圈为外螺纹，两种不同的端盖，即第一端盖30和第二端盖40可以选择性地安装于排污口101上，以敞开排污口101或封闭排污口101。

此外，在第二污水箱10的螺纹部可以设置HALL传感器(霍尔传感器)，在第二端盖40上设置磁铁(第一端盖30上不设置磁铁)。于是，当第二端盖40安装至第二污水箱10时，HALL传感器会识别到安装了第二端盖40，以便于确认执行第二自清洁模式。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。

尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本发明的限制，本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。

Claims (14)

1.一种清洁系统，包括表面清洁设备和基站，其特征在于，所述表面清洁设备包括清洁组件和第一污水箱；

所述基站包括控制组件和第二污水箱，所述控制组件配置为执行对所述表面清洁设备和/或所述基站的自清洁程序；

所述第二污水箱包括排污口和第一端盖和第二端盖，所述第一端盖和所述第二端盖择一安装至所述第二污水箱；

所述控制组件配置为当所述排污口安装第一端盖时，所述控制组件执行第一自清洁程序；当所述排污口安装第二端盖时，所述控制组件执行第二自清洁程序。

2.根据权利要求1所述的清洁系统，其特征在于，所述第一自清洁程序至少包括：

对清洁组件进行自清洁；

对第一污水箱进行自清洁；

对第二污水箱进行自清洁。

3.根据权利要求1所述的清洁系统，其特征在于，所述第二自清洁程序至少包括：

对清洁组件进行自清洁，进行大于1的预定次数；

对第一污水箱进行自清洁；

对第二污水箱进行自清洁，进行大于1的预定次数。

4.根据权利要求1所述的清洁系统，其特征在于，所述第二自清洁程序至少包括：

控制第二污水箱进行排水。

5.根据权利要求1所述的清洁系统，其特征在于，所述第二自清洁程序的用时大于所述第一自清洁程序的用时。

6.一种清洁系统，包括表面清洁设备和基站，其特征在于，所述表面清洁设备包括清洁组件和第一污水箱；

所述基站包括控制组件和第二污水箱，所述控制组件配置为执行对所述表面清洁设备和/或所述基站的自清洁程序；

所述第二污水箱至少具有储水模式和排水模式；

所述控制组件配置为当所述第二污水箱处于储水模式时，所述控制组件执行第一自清洁程序；当所述第二污水箱处于排水模式时，所述控制组件执行第二自清洁程序。

7.根据权利要求6所述的清洁系统，其特征在于，所述第一自清洁程序至少包括：对清洁组件进行自清洁；对第一污水箱进行自清洁；对第二污水箱进行自清洁；

和/或，所述第二自清洁程序至少包括：对清洁组件进行自清洁，进行大于1的预定次数；对第一污水箱进行自清洁；对第二污水箱进行自清洁，进行大于1的预定次数。

8.根据权利要求6所述的清洁系统，其特征在于，所述第二自清洁程序至少包括：

控制第二污水箱进行排水。

9.根据权利要求6所述的清洁系统，其特征在于，所述第二自清洁程序的用时大于所述第一自清洁程序的用时。

10.一种用于清洁系统的维护方法，所述清洁系统包括表面清洁设备和基站，其特征在于，

所述表面清洁设备包括清洁组件和第一污水箱；

所述基站包括控制组件和第二污水箱，所述第二污水箱包括排污口和至少第一端盖和第二端盖，所述第一端盖和所述第二端盖择一安装至所述第二污水箱，所述控制组件配置为执行对所述表面清洁设备和/或所述基站的自清洁程序；

所述维护方法包括：

控制组件获取排污口对接的端盖类型；

在确定排污口对接第一端盖时，控制组件执行第一自清洁程序；

或者在确定排污口对接第二端盖时，控制组件执行第二自清洁程序。

11.根据权利要求10所述的用于清洁系统的维护方法，其特征在于，所述第二自清洁程序至少包括：

控制第二污水箱进行排水。

12.一种用于清洁系统的维护方法，所述清洁系统包括表面清洁设备和基站，其特征在于，

所述表面清洁设备包括清洁组件和第一污水箱；

所述基站包括控制组件和第二污水箱，所述控制组件配置为执行对所述表面清洁设备和/或所述基站的自清洁程序；

所述维护方法包括：

控制组件获取基站的第二污水箱的运行模式，所述运行模式包括储水模式和排水模式；

在确定运行模式为储水模式时，控制组件执行第一自清洁程序；

或者在确定运行模式为排水模式时，控制组件执行第二自清洁程序。

13.根据权利要求12所述的用于清洁系统的维护方法，其特征在于，所述第二自清洁程序至少包括：

控制第二污水箱进行排水。

14.一种计算机可读存储介质，其特征在于，其上存储有清洁程序，所述清洁程序被执行时实现如权利要求10-13中任一项所述的维护方法。