CN117781959A - 一种屏蔽罩Pin脚平面度检测装置及对标方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种屏蔽罩Pin脚平面度检测装置，包括影像检测仪、放置在影像检测仪的检测平台上的直角三棱镜以及用于放置屏蔽罩的支撑块，将所述支撑块的上表面视为工作面，所述工作面为一平整的水平面，直角三棱镜和支撑块均置于影像检测仪镜头的正下方，所述支撑块的被测面紧贴直角三棱镜的侧表面；OMM检测仪通过此方法检测得到的数据比AIM在线光耦测量设备更加精确可靠，而OMM检测仪难以实现Pin脚平面度的自动化批量性检测，影响工作效率，但是却可用来作为AIM在线光耦检测的数据对标，使Pin脚在量产检测过程中AIM测试数据有偏倚时作为调机依据，使其检测结果逐渐趋近标准值，提高精确性，确保AIM在线光耦测量设备持续用于屏蔽罩Pin脚平面度批量检测。

Description

一种屏蔽罩Pin脚平面度检测装置及对标方法

技术领域

本发明涉及屏蔽罩检测技术领域，特别是一种屏蔽罩Pin脚平面度检测装置及方法。

背景技术

屏蔽罩是一种用来屏蔽电子信号的工具，可以有效消除外界电磁波对内部电路的影响和防止内部产生的电磁波向外辐射，因此广泛应用于手机、机顶盒等电子通信设备与各类PCB电路板上，由于金属屏蔽罩比较薄、轻等特点容易产生变形，变形后的屏蔽罩贴到PCB上，回流后容易产生空焊、虚焊等问题，因此量产后需要对屏蔽罩及其Pin的表面进行平面度检测，现有技术中多采用光纤/光耦的方式进行检测；

但是现有技术中却很有很少有屏蔽罩Pin脚平面度检测的对标方法，现有技术中在测量屏蔽罩表面或Pin脚平面度时，直接将AIM在线光耦/光纤检测设备测得的数据作为判断标准，但不像卡尺、千分尺和影像仪等国家标准检测设备，AIM在线光耦/光纤检测设备属于一种非标准设备，只是从现有技术和检测到的数据考量，AIM在线光耦/光纤检测设备较为接近真实值，目前还未找到有比AIM在线光耦/光纤检测设备更高精度的、且适宜于大批量测量平面度的设备或方法；因此，从业人员目前将AIM在线光耦/光纤检测设备视为用于检测量产工件的一种高精度设备。该设备需要根据产品的尺寸对检测高度和光耦/光纤的排布进行调整，但无法确认每次调整都是否符合要求，且屏蔽罩被检测时摆放形状、如何使屏蔽罩和Pin脚处于最自然状态都会影响测量结果，因此，急需要一种检测对标方法来证明或判断在线光耦/光纤检测的数据是准确的，即对在线光耦/光纤检测的数据进行溯源，找到一种更高精度的、更可靠的、更权威的一种测量方式，以其验证结果来作为非标准设备的验收标准，进而通过调整在线光耦/光纤检测设备的性能参数使其检测结果向标准值靠拢，证明产品的状态。

发明内容

本发明的目的在于克服非标检测设备对标方法的不足，提供一种屏蔽罩Pin脚平面度检测装置及对标方法，以解决上述问题。

本发明的目的是通过以下技术方案来实现的：

一种屏蔽罩Pin脚平面度检测装置，包括影像检测仪、放置在影像检测仪的检测平台上的直角三棱镜以及用于放置屏蔽罩的支撑块，将所述支撑块的上表面视为工作面，所述工作面为一平整的水平面，工作面的形状与屏蔽罩四周Pin脚的分布形态相同，所述直角三棱镜的内设有45°倾斜设置的镜面，且直角三棱镜和支撑块均置于影像检测仪镜头的正下方，所述支撑块的被测面紧贴直角三棱镜的侧表面。

上述发明内容中，进一步地，所述屏蔽罩上设有长Pin脚和短Pin脚，所述支撑块的工作面上设有与长Pin脚配合的定位槽，所述短Pin脚置于支撑块工作面上，通过长Pin脚和短Pin脚使屏蔽罩Pin脚朝下以自由状态的方式放置在支撑块的工作面。

上述发明内容中，进一步地，所述定位槽的宽度比长Pin脚的宽度宽0.02mm。

上述发明内容中，进一步地，所述支撑块工作面的粗糙度为ra0.4。

上述发明内容中，进一步地，所述支撑块工作面的四周边缘与Pin脚位置之间具有0.20mm的水平留放余量。

上述发明内容中，进一步地，所述支撑块侧面的上边缘与工作面四周边缘具有0.15mm～0.20mm的间隙。

上述发明内容中，进一步地，所述影像检测仪为OMM检测仪。

上述发明内容中，进一步地，包括如下步骤：

S1：取代表产品公差范围的10件屏蔽罩作为分析样品，每件屏蔽罩上设置15个Pin脚检测点位；

S2：先测量一件屏蔽罩上的15个Pin脚检测点位，根据屏蔽罩的形状，采用与屏蔽罩形状相配合的支撑块，并将屏蔽罩的Pin脚朝下对准定位槽并放置在支撑块上，使屏蔽罩处于自由状态，然后将支撑块置于OMM检测仪正下方，并使支撑块的一侧面紧贴直角三棱镜的直角边镜面，将竖直的Pin脚通过顶角为45°的直角三棱镜反射并水平呈现在OMM检测仪镜头下方，实验室再按样品图纸尺寸要求使用OMM检测仪配和直角三棱镜和支撑块对屏蔽罩的Pin脚平面度进行测量，测量Pin脚底部与支撑块的工作面之间的距离；

S3：根据不同尺寸公差带范围要求，按照上述步骤S2的测量方法依次测量剩余9件屏蔽罩上的15个Pin脚检测点位，并对测得的数据进行GRR分析；

S4：步骤S3中，在进行GRR分析过程中，通过对测量系统重复性和再现性测评结果分析，针对尺寸公差带范围要求，并按公差带递增方式反推，验证GRR测量结果在产品尺寸不同公差范围内的接受程度；

S5：取上述相同的代表公差带范围的10件屏蔽罩样品，按照上述步骤S2的测量方法对每件样品测量至少三次并获得3组数据，取三次测量的平均值作为相关性样品的真值数据；再使用AIM在线光耦非标测量设备测试相同的10件屏蔽罩样品，得出相应的AIM测量数据，进行相关性分析；

S6：将实验室OMM测试数据及AIM测试数据进行相关性分析；

S7：观察实验室OMM测量数据与在线光耦AIM数据比对差异，并计算OMM测量数据和在线光耦AIM数据之间的偏差；

S8：将OMM测量数据和在线光耦AIM数据之间的偏差作为判断Pin脚平面度相关性是否合格的判断标准，并根据两个设备之间的数据差异可调整AIM在线光耦测量设备中相应的载物板的高度、测量位置以及补偿值，使AIM在线光耦测量设备测得的值趋近标准值，进而再使用AIM在线光耦测量设备检测量产的屏蔽罩的Pin脚平面度。

上述发明内容中，进一步地，在步骤S2中，屏蔽罩的四面均设有Pin脚，当屏蔽罩一面的Pin脚检测完后，旋转支撑块使支撑块的另一侧面紧贴直角三棱镜直角边，测量屏蔽罩另一面的Pin脚平面度，直至屏蔽罩四面的Pin脚均测量完。

上述发明内容中，进一步地，在步骤S4中，在对测量系统重复性和再现性测评结果分析时，针对尺寸公差带范围要求，按公差带0.01mm递增方式反推，来验证GRR测量结果在产品尺寸不同公差范围内的接受程度，其中：

产品尺寸公差带范围在≤0.09mm时，验证结果为不可接受；

产品尺寸公差带范围在0.10mm～0.14mm时，验证结果为让步接受；

产品尺寸公差带范围在0.15mm～0.29mm时，验证结果为可接受；

产品尺寸公差带范围在≥0.30mm时，验证结果为极好地接受。

本发明的有益效果是：

本发明将国家标准检测设备影像检测仪与支脚三棱镜和支撑块结合起来，将屏蔽罩放置在支撑块上模拟屏蔽罩及Pin脚在SMT设备自动焊接时的最自然状态，使得检测结果更加接近真实值，因为影像检测仪是竖直往下进行拍摄的，因此，借助镜面为45°的直角三棱镜，使自然状态下竖直放置的Pin脚水平呈现在影像检测仪的镜头正下方，通过拍摄的图像精确比较Pin脚之间的平面度；

其次，同时采用非国家标准的AIM在线光耦测量设备对相同样品组的屏蔽罩进行Pin脚检测，将检测结果与OMM检测仪检测结果进行比较，OMM检测仪通过上述方法检测得到的数据比AIM在线光耦测量设备更加更加精确、更加可靠，但OMM检测仪在检测过程中很难实现量产、难以大规模检测Pin脚平面度，影响工作效率，但是却可用来作为AIM在线光耦检测的数据对标，并根据两者之间的偏差进行调整AIM在线光耦测量设备的检测台的高度、补偿以及摆放位置等，使AIM测试数据逐渐趋近标准值，提高精确性，且可持续用于屏蔽罩Pin脚平面度的批量检测。

附图说明

图1为本发明OMM检测仪及三棱柱的结构示意图；

图2为本发明支撑块和屏蔽罩的结构示意图；

图3为本发明屏蔽罩展开后的俯视图；

图4为本发明A的局部放大图；

图5为本发明B的局部放大图；

图6为本发明OMM检测仪测量取边的示意图；

图7-9为本发明三次测量相关性样品的GRR分析表；

图10为本发明中OMM测试数据及AIM测试数据对照表。

图中，1-影像检测仪，2-直角三棱镜，3-镜面，4-支撑块，5-屏蔽罩，51-长Pin脚，52-短Pin脚，6-定位槽。

具体实施方式

以下通过特定的具体实例说明本发明的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本发明的其他优点与功效。本发明还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本发明的精神下进行各种修饰或改变。需说明的是，在不冲突的情况下，以下实施例及实施例中的特征可以相互组合。

本发明中主要采用了OMM影像仪和AIM在线光耦/光纤测量设备(以下简称AIM在线光耦测量设备)，在现有技术中，通常采用AIM在线光耦测量设备来检测量产的屏蔽罩5的平整度，但AIM在线光耦测量设备是非国家标准设备，无法确定其检测出来的数值就一定为精确值，假若屏蔽罩5Pin脚的平面度的允许范围值在5.00±0.2，若AIM在线光耦测量设备检测出来Pin脚的平面度为5.25，则超规定范围值，明显不合格；但若AIM在线光耦测量设备检测出来刚好为5.20，检测人员认为其是符合规定要求的，但实际上AIM在线光耦测量设备检测值与产品真实值仍存在偏差，目前也无法确认其偏倚量。因此本发明结合了具有国家标准的OMM影像仪及直角三棱镜2和支撑块4等结构进一步进行测量，来证明AIM在线光耦测量方法是否存在偏差，若有偏差则需对偏差进行纠偏，但OMM影像仪无法适用于大批量的屏蔽罩5平面度检测，因此将其OMM测量方法得出的数据为AIM在线光耦测量的对标标准。

请参阅附图1-附图5所示，一种屏蔽罩Pin脚平面度检测装置，其特征在于，包括影像检测仪1、放置在影像检测仪1的检测平台上的直角三棱镜2以及用于放置屏蔽罩5的支撑块4，其中，所述影像检测仪1为OMM检测仪，将所述支撑块4的上表面视为工作面，所述工作面为一平整的水平面，工作面的形状与屏蔽罩5四周Pin脚的分布形态相同，便于放置在支撑块4，支撑块4可随屏蔽罩5的形状的改变而随时更换；所述直角三棱镜2的内设有45°倾斜设置的镜面3，镜面3朝向支撑块4，且直角三棱镜2和支撑块4均置于影像检测仪1镜头的正下方，所述支撑块4的被测面紧贴直角三棱镜2的侧表面，使屏蔽罩的Pin脚通过45°的镜面反射垂直在OMM检测仪镜头正下方。

如附图2所示，所述屏蔽罩5上设有长Pin脚51和短Pin脚52，所述支撑块4的工作面上设有与长Pin脚51配合的定位槽6，所述短Pin脚52置于支撑块4的工作面上，但实际上短Pin脚52与工作面之间仍具有一定间隙，此间隙即为OMM待测量测量取边，通过测量取边判断Pin脚是否平整，通过长Pin脚51和短Pin脚52使屏蔽罩5Pin脚朝下地放置在支撑块4的工作面，通过定位槽6限制屏蔽罩5的定位长支脚使屏蔽罩5不能移动和旋转。

因为OMM影像仪的镜头是竖直向下拍摄的，若直接将屏蔽罩5Pin脚朝下的放置在检测台上进行检测，不能检测到Pin脚的平面度，同时还可能损坏Pin脚；因此必须将屏蔽罩5旋转90°才能让镜头检测到Pin脚，但若将屏蔽罩5旋转90°放置在检测台上或者通过磁铁吸住屏蔽罩5上表面90°旋转后放置在检测台，但此时均不是屏蔽罩5自由状态或自重状态，与用户的使用状态存在偏差，进而导致检测结果与实际值不匹配；

因此，只能将屏蔽罩5放置在支撑块4的工作面上，使其呈自重状态，并通过镜面3为45°的直角三棱镜2将其Pin脚90°反射到镜头下方，便于检测；因为真正的量产要求要通过屏蔽罩5的自重放置在测试平台上才能进行精确检测，因而OMM影像仪只能通过此方法进行测量Pin脚平面度，但这种检测方法较为繁杂很难实现对量产产品进行逐步检测。

其中，优选的，所述定位槽6的宽度比长Pin脚51的宽度宽0.02mm，使其屏蔽罩5能放置到位，且在自由状态下无干涉。

上述实施例中，优选的，所述支撑块4工作面的粗糙度为ra0.4。

上述实施例中，优选的，所述支撑块4工作面的四周边缘与Pin脚位置之间具有0.20mm的水平留放余量，使短Pin脚52能全部放置在工作面上。

上述实施例中，优选的，所述支撑块4侧面的上边缘与工作面四周边缘具有0.15mm～0.20mm的间隙，如附图6所示，目的是不影响OMM视窗中的取边，同时，工作面的四周加工为直角，而支撑块4的其余面交接处可按C＝0.3mm倒角设置，预防拿取伤手。

一种屏蔽罩5Pin脚平面度检测对标方法，包括如下步骤：

S1：取代表产品公差范围的10件屏蔽罩5作为分析样品，每件屏蔽罩上设置15个Pin脚检测点位，通过抽样方式检测15个Pin脚检测点位的平面度进而判断整件屏蔽罩的Pin脚平面度是否合格；

S2：先测量一件屏蔽罩5上的15个Pin脚检测点位，根据屏蔽罩5的形状，采用与屏蔽罩5形状相配合的支撑块4，并将屏蔽罩5的Pin脚朝下对准定位槽6并放置在支撑块4上，使屏蔽罩5处于自由状态，然后将支撑块4置于OMM检测仪正下方，并使支撑块4的一侧面紧贴直角三棱镜2的直角边，将竖直的Pin脚通过镜面为45°的直角三棱镜2反射并水平呈现在OMM检测仪镜头下方，实验室再按样品图纸尺寸要求使用OMM检测仪配和和支撑块4对屏蔽罩5的Pin脚平面度进行测量，测量Pin脚底部与工作面之间的距离；其中，只抽取了屏蔽罩5Pin脚上的15个点位进行OMM检测，15点位如附图3所示，保证屏蔽罩5的每条边都有取样点，附图10中的横坐标即为15个点位，纵坐标为10件样品。

上述实施例中，优选的，在步骤S2中，因屏蔽罩5的四面均设有Pin脚，当屏蔽罩5一面的Pin脚检测完后，需要旋转支撑块4使支撑块4的另一侧面紧贴直角三棱镜2的一直角边，测量屏蔽罩5另一面的Pin脚平面度，直至屏蔽罩5四面的Pin脚均测量完，再测量下一件屏蔽罩5样品。

S3：根据不同尺寸公差带范围要求，按照上述步骤S2的测量方法依次测量剩余9件屏蔽罩上的15个Pin脚检测点位，并对测得的数据进行GRR分析；

S4：步骤S3中，在进行GRR分析过程中，通过对测量系统重复性和再现性测评结果分析，针对尺寸公差带范围要求，并按公差带递增方式反推，来验证GRR测量结果在产品尺寸不同公差范围内的接受程度，在本实施例中，优选的，按公差带0.01mm递增方式反推验证，其中，若：

产品尺寸公差带范围在≤0.09mm时，验证结果为不可接受(Unacceptable)；

产品尺寸公差带范围在0.10mm～0.14mm时，验证结果为让步接受(Marginal)；

产品尺寸公差带范围在0.15mm～0.29mm时，验证结果为可接受(Adequate)；

产品尺寸公差带范围在≥0.30mm时，验证结果为极好地接受(Excellent)；如附图7-9所示，选取了其中公差带分别为0.10mm、0.15mm以及0.30mm时的GRR分析数据；

S5：取上述相同的代表公差带范围的10件屏蔽罩5样品，按照上述步骤S2的测量方法对每件样品测量至少三次并获得3组数据，取三次测量的平均值作为相关性样品的真值数据；再使用AIM在线光耦非标测量设备测试相同的10件屏蔽罩5样品，用AIM在线光耦设备测量屏蔽罩及Pin脚平面度为现有技术，通过此测量方法得出相应的AIM测量数据，即屏蔽罩5Pin脚平面度的相关数据，并进行相关性分析；

S6：将实验室OMM测试数据及AIM测试数据填入量具相关性分析表进行相关性分析，如附图10所示，其中第一个表格为OMM检测设备的取样数据表，即真值数据，第二个表格为AIM在线光耦检测的取样数据表；

S7：观察实验室OMM测量数据与在线光耦AIM数据比对差异，并计算OMM测量数据和在线光耦AIM数据之间的偏差，如附图10中的第三个表格所示；

S8：将OMM测量数据和在线光耦AIM数据之间的偏差作为判断Pin脚平面度相关性是否合格的判断标准，若OMM测量数据和在线光耦AIM数据两者之间的极差小于设定值，如设定值为0.02mm时，则在可接受范围内，不用调整AIM在线光耦检测设备；若两者之间的极差超过设定值，如附图10中的第三个表格内标示的灰色数字，即为不合格，将OMM检测仪测得的真值数据作为对标的标准值，则根据两个设备之间的数据极差可调整AIM在线光耦测量设备中相应的载物板的高度、测量位置以及补偿值，使AIM在线光耦测量设备测得的值趋近标准值，进而再使用AIM在线光耦测量设备检测量产的屏蔽罩5的Pin脚平面度，若直接使用OMM测试方法来测量量产的屏蔽罩上的Pin脚平面度，检测效率低下，因此通过本发明中的对标方法，提高AIM在线光耦测量设备的精确性，用AIM在线光耦测量设备来作为量产屏蔽罩的Pin脚平面度检测，提高了Pin脚平面度检测的精确度和工作效率。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“左”、“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具备特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

以上所述实施例仅表达了本发明的具体实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种屏蔽罩Pin脚平面度检测装置，其特征在于，包括影像检测仪(1)、放置在影像检测仪(1)的检测平台上的直角三棱镜(2)以及用于放置屏蔽罩(5)的支撑块(4)，将所述支撑块(4)的上表面视为工作面，所述工作面为一平整的水平面，工作面的形状与屏蔽罩(5)四周Pin脚的分布形态相同，所述直角三棱镜(2)的内设有45°倾斜设置的镜面(3)，且直角三棱镜(2)和支撑块(4)均置于影像检测仪(1)镜头的正下方，所述支撑块(4)的被测面紧贴直角三棱镜(2)的侧表面。

2.根据权利要求1所述的一种屏蔽罩Pin脚平面度检测装置，其特征在于，所述屏蔽罩(5)上设有长Pin脚(51)和短Pin脚(52)，所述支撑块(4)的工作面上设有与长Pin脚(51)配合的定位槽(6)，所述短Pin脚(52)置于支撑块(4)工作面上，通过长Pin脚(51)和短Pin脚(52)使屏蔽罩(5)Pin脚朝下以自由状态的方式放置在支撑块(4)的工作面。

3.根据权利要求2所述的一种屏蔽罩Pin脚平面度检测装置，其特征在于，所述定位槽(6)的宽度比长Pin脚(51)的宽度宽0.02mm。

4.根据权利要求3所述的一种屏蔽罩Pin脚平面度检测装置，其特征在于，所述支撑块(4)工作面的粗糙度为ra0.4。

5.根据权利要求4所述的一种屏蔽罩Pin脚平面度检测装置，其特征在于，所述支撑块(4)工作面的四周边缘与Pin脚位置之间具有0.20mm的水平留放余量。

6.根据权利要求5所述的一种屏蔽罩Pin脚平面度检测装置，其特征在于，所述支撑块(4)侧面的上边缘与工作面四周边缘具有0.15mm～0.20mm的间隙。

7.根据权利要求6所述的一种屏蔽罩Pin脚平面度检测装置，其特征在于，所述影像检测仪(1)为OMM检测仪。

8.一种基于权利要求7所述的屏蔽罩Pin脚平面度检测对标方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1：取代表产品公差范围的10件屏蔽罩(5)作为分析样品，每件屏蔽罩上设置15个Pin脚检测点位；

S2：先测量一件屏蔽罩(5)上的15个Pin脚检测点位，根据屏蔽罩(5)的形状，采用与屏蔽罩(5)形状相配合的支撑块(4)，并将屏蔽罩(5)的Pin脚朝下对准定位槽(6)并放置在支撑块(4)上，使屏蔽罩(5)处于自由状态，然后将支撑块(4)置于OMM检测仪正下方，并使支撑块(4)的一侧面紧贴直角三棱镜(2)的直角边，将竖直的Pin脚通过镜面(3)为45°的直角三棱镜(2)反射并水平呈现在OMM检测仪镜头下方，实验室再按样品图纸尺寸要求使用OMM检测仪配和直角三棱镜(2)和支撑块(4)对屏蔽罩(5)的Pin脚平面度进行测量，测量Pin脚底部与支撑块(4)的工作面之间的距离；

S3：根据不同尺寸公差带范围要求，按照上述步骤S2的测量方法依次测量剩余9件屏蔽罩上的15个Pin脚检测点位，并对测得的数据进行GRR分析；

S4：步骤S3中，在进行GRR分析过程中，通过对测量系统重复性和再现性测评结果分析，针对尺寸公差带范围要求，并按公差带递增方式反推，验证GRR测量结果在产品尺寸不同公差范围内的接受程度；

S5：取上述相同的代表公差带范围的10件屏蔽罩(5)样品，按照上述步骤S2的测量方法对每件样品测量至少三次并获得3组数据，取三次测量的平均值作为相关性样品的真值数据；再使用AIM在线光耦非标测量设备测试相同的10件屏蔽罩(5)样品，得出相应的AIM测量数据，进行相关性分析；

S6：将实验室OMM测试数据及AIM测试数据进行相关性分析；

S7：观察实验室OMM测量数据与在线光耦AIM数据比对差异，并计算OMM测量数据和在线光耦AIM数据之间的偏差；

S8：将OMM测量数据和在线光耦AIM数据之间的偏差作为判断Pin脚平面度相关性是否合格的判断标准，并根据两个设备之间的数据差异可调整AIM在线光耦测量设备中相应的载物板的高度、测量位置以及补偿值，使AIM在线光耦测量设备测得的值趋近标准值，进而再使用AIM在线光耦测量设备检测量产的屏蔽罩(5)的Pin脚平面度。

9.根据权利要求8所述的一种屏蔽罩Pin脚平面度检测对标方法，其特征在于，在步骤S2中，屏蔽罩(5)的四面均设有Pin脚，当屏蔽罩(5)一面的Pin脚检测完后，旋转支撑块(4)使支撑块(4)的另一侧面紧贴直角三棱镜(2)直角边，测量屏蔽罩(5)另一面的Pin脚平面度，直至屏蔽罩(5)四面的Pin脚均测量完。

10.根据权利要求8所述的一种屏蔽罩Pin脚平面度检测对标方法，其特征在于，在步骤S4中，在对测量系统重复性和再现性测评结果分析时，针对尺寸公差带范围要求，按公差带0.01mm递增方式反推，来验证GRR测量结果在产品尺寸不同公差范围内的接受程度，其中：

产品尺寸公差带范围在≤0.09mm时，验证结果为不可接受；

产品尺寸公差带范围在0.10mm～0.14mm时，验证结果为让步接受；

产品尺寸公差带范围在0.15mm～0.29mm时，验证结果为可接受；

产品尺寸公差带范围在≥0.30mm时，验证结果为极好地接受。