CN117716412A - 一种显示基板及显示装置 - Google Patents
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Abstract
一种显示基板及显示装置，显示基板包括：衬底(1)；多个像素单元，多个像素单元位于衬底(1)的一侧，多个像素单元中的每个像素单元包括多个子像素单元(21)；色阻层(3)，色阻层(3)位于像素单元的出光侧，色阻层(3)包括多个色阻单元(31)，每个色阻单元(31)与各子像素单元(21)一一对应设置，各色阻单元(31)紧密排列；光处理结构(5)，光处理结构(5)在衬底(1)上的正投影覆盖不同颜色的色阻单元(31)的交界处；盖板(4)，位于色阻层(3)背离衬底(1)的一侧；其中：光处理结构(5)用于阻碍多个子像素单元(21)出射的光线中角度大于盖板(4)的全反射临界角的光线从盖板(4)射出。用于减小相邻子像素单元(21)的光学串扰。
Description
本公开涉及显示技术领域，特别涉及一种显示基板及显示装置。
PPI(Pixels Per Inch)所表示的是显示屏每英寸所拥有的像素数量。因此PPI数值越高，即代表显示屏能够以越高的密度显示图像,所以显示屏的像素密度单位(PPI，Pixels Per Inch)越来越高，当然，显示的密度越高，像素之间的间距也越来越小，这样就会造成相邻像素的光学串扰。
发明内容
本公开公开了一种显示基板及显示装置，用于减小相邻子像素单元的光学串扰。
为达到上述目的，本公开提供以下技术方案：
第一方面，本公开提供一种显示基板，包括：
衬底；
多个像素单元，所述多个像素单元位于所述衬底的一侧，所述多个像素单元中的每个所述像素单元包括多个子像素单元；
色阻层，所述色阻层位于所述像素单元的出光侧，所述色阻层包括多个色阻单元，每个所述色阻单元与各所述子像素单元一一对应设置，各所述色阻单元紧密排列；
光处理结构，所述光处理结构在所述衬底上的正投影覆盖不同颜色的所述色阻单元的交界处；
盖板，位于所述色阻层背离所述衬底的一侧；
其中：所述光处理结构至少用于阻碍所述多个子像素单元出射的光线中角度大于所述盖板的全反射临界角的光线从所述盖板射出。位于衬底一侧有 多个像素单元，每个像素单元包括多个用于发光的子像素单元，在像素单元的出光侧设置有色阻层，色阻层包括与各子像素单元一一对应的色阻单元，各色阻单元紧密排列，有效避免像素单元发出的光从相邻色阻单元漏出；色阻单元包括至少两个颜色，对当子像素单元发出的光穿透色阻单元时发出至少两种颜色，以实现本公开中提供的显示基板的显示功能，在色阻层背离衬底的一侧设置有起到保护作用的盖板，光处理结构在衬底上的正投影覆盖不同颜色的色阻单元的交界处，通过光处理结构阻碍子像素单元出射光线中角度大于盖板的全反射临界角的光线从盖板射出，也就是说，子像素单元的出射光线中角度大于盖板的全反射临界角的光线无法从盖板射出，从而将相邻不同颜色的色阻单元交界处的部分光线无法从盖板射出，以减小相邻子像素单元的光学串扰。
可选地，所述光处理结构包括超表面结构，所述超表面结构位于所述色阻层朝向所述衬底的一侧；
和/或，所述超表面结构位于所述色阻层背离所述衬底的一侧。
可选地，所述超表面结构位于所述色阻层背离所述衬底的一侧时，所述超表面结构的折射率大于所述盖板的折射率。
可选地，所述超表面结构位于所述盖板朝向所述色阻层的一侧时，所述超表面结构包括多个凸起结构，所述凸起结构朝向所述色阻层凸起。
可选地，所述多个凸起结构中的至少一个凸起结构包括多个分散的凸起微结构，在平行于所述盖板所在平面的方向上，相邻所述凸起微结构的间隔大于或等于所述凸起微结构的宽度。
可选地，所述凸起结构在所述盖板的正投影形成有效范围，所述有效范围包括至少一个微结构区域，所述微结构区域阵列分布。
可选地，所述凸起微结构在所述微结构区域内的投影面积从所述微结构区域的边缘到中心逐渐变大。
可选地，在垂直所述盖板所在平面的方向上，所述凸起微结构的横截面 积包括三角形、梯形和矩形中的一种或多种组合。
可选地，在垂直所述盖板所在平面的方向上，所述凸起微结构在所述微结构区域内的高度从所述微结构区域的边缘到中心逐渐变高。所述多个凸起结构中的至少一个凸起结构包括多个凸起子结构，在平行于所述盖板所在平面的方向上，任意相邻的两个所述凸起子结构紧密排列且相互接触。
可选地，所述凸起子结构背离所述盖板的一侧表面为平滑的曲面。
可选地，所述光处理结构包括第一光处理结构和第二光处理结构，所述第一光处理结构和所述第二光处理结构均设置在所述盖板的表面，且所述第一光处理结构在所述衬底的正投影与所述第二光处理结构在所述衬底的正投影存在交叠；
所述第一光处理结构用于吸收长轴平行于第一方向的光线，所述第二光处理结构用于吸收长轴平行于第二方向的光线，所述第一方向与所述第二方向垂直。
可选地，所述第一光处理结构位于所述盖板朝向所述色阻层的一侧，所述第二光处理结构位于所述盖板背离所述色阻层的一侧。
可选地，所述第一光处理结构和所述第二光处理结构均位于所述盖板朝向所述色阻层的一侧。
可选地，所述第二光处理结构在所述盖板上的正投影覆盖所述第一光处理结构在所述盖板上的正投影。
可选地，所述第一光处理结构包括多条第一金属线，所述多条第一金属线中每一条所述第一金属线均沿所述第一方向延长，且所述多条第一金属线沿所述第二方向排布；
所述第二光处理结构包括多条第二金属线，所述多条第二金属线中每一条所述第二金属线沿所述第二方向延长，且所述多条第二金属线沿所述第一方向排布；
所述第一金属线与所述第二金属线正交。
第二方面，本发明提供一种显示装置，包括第一方面任一项所述的显示 基板。
图1为本公开实施例提供的一种显示基板中光处理结构与子像素单元的第一种位置关系示意图；
图2为本公开实施例提供的一种显示基板中光处理结构与子像素单元的第二种位置关系示意图；
图3为本公开实施例提供的一种显示基板中光处理结构与子像素单元的第三种位置关系示意图；
图4为本公开实施例提供的一种显示基板中采用超表面结构的第一种结构示意图；
图5为本公开实施例提供的一种显示基板中采用超表面结构的第一种结构的光路图；
图6为本公开实施例提供的有效范围的结构示意图；
图7为图4中的超表面结构的具体结构平面示意图；
图8为图4中的超表面结构的具体结构的侧视图；
图9为本公开实施例提供的一种显示基板中采用超表面结构的第二种结构示意图；
图10为本公开实施例提供的一种显示基板中采用超表面结构的第二种结构的光路图；
图11为本公开实施例提供的一种显示基板中采用超表面结构的第三种结构示意图；
图12为本公开实施例提供的一种显示基板中采用第一吸收层和第二吸收层的结构示意图；
图13为本公开实施例提供的一种显示基板中采用第一吸收层和第二吸收层的光路图；
图14a-14d为本公开实施例提供的一种显示基板中第一吸收层和第二吸收 层分别位于盖板两侧的尺寸关系示意图。
图中：1-衬底；21-子像素单元；3-色阻层；31-色阻单元；4-盖板；5-光处理结构；51-超表面结构；511-凸起结构；511a-凸起微结构；511b-凸起子结构；52-第一光处理结构；53-第二光处理结构；6-第一电极；7-电致发光层；8-薄膜封装层；9-平坦层；10-第二电极。
下面将结合本公开实施例中的附图，对本公开实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本公开一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本公开中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。
本公开中的附图比例可以作为实际工艺中的参考，但不限于此。例如：各个膜层的厚度和间距，可以根据实际需要进行调整。显示装置中像素的个数和每个像素中子像素的个数也不是限定为图中所示的数量，本公开中所描述的附图仅是结构示意图，本公开的一个方式不局限于附图所示的形状或数值等。
本说明书中的“第一”、“第二”等序数词是为了避免构成要素的混同而设置，而不是为了在数量方面上进行限定的。
如图1-图3所示，本公开实施例提供的一种显示基板，包括衬底1和在衬底1上设置的像素单元，像素单元包括多个子像素单元21，随着现在显示领域的发展，显示基板的PPI越来越高，导致子像素单元21之间的间距越来越小，然而子像素单元21间距小将会造成相邻的子像素单元21的光学串扰，也就是说相邻的子像素单元21易发生混色，为了降低子像素单元21的光学串扰，在子像素单元21的周围设置有光处理结构5，用于阻碍多个子像素单元21出射的光线中角度大于预设角度的光线从盖板4射出；例如，如图2所示光处理结构5根据实际需要选择设置在子像素单元21的X方向；例如，如图3所示光处理结构5根据实际需要选择设置在子像素单元21的Y方向。
关于本公开提供的显示基板，在一些具体的实施方式中为液晶显示基板(LCD，Liquid Crystal Display)，在另一些具体的实施方式中为(OLED，Organic Light-Emitting Diode)有机发光显示基板。
下面关于具有光处理结构5的OLED显示基板的具体结构进行详细说明：
如图4、图9、图11和图12所示一并参考图1-图3，本公开实施例提供了一种显示基板，包括：
衬底1；
多个像素单元，多个像素单元位于衬底1的一侧，多个像素单元中的每个像素单元包括多个子像素单元21；色阻层3，色阻层3位于像素单元的出光侧，色阻层3包括多个色阻单元31，每个色阻单元31与各子像素单元21一一对应设置，各色阻单元31紧密排列；光处理结构5，光处理结构5在衬底1上的正投影覆盖不同颜色的色阻单元31的交界处；例如，图4中，光处理结构5可以为由一种多个凸起结构511形成的超表面结构51；在图9中，光处理结构5可以为另一种结构多个凸起结构511形成的超表面结构51；图11中，光处理结构5可以为至少一部分凸起结构由凸起子结构形成的超表面结构；图12中，光处理结构5可以为第一光处理结构和第二光处理结构。在色阻层背离衬底的一侧设置有盖板；光处理结构5用于阻碍多个子像素单元21出射的光线中角度大于盖板4的全反射临界角的光线从盖板4射出。
需要说明的是，位于衬底1一侧有多个像素单元，每个像素单元包括多个用于发光的子像素单元21，在像素单元的出光侧设置有色阻层3，色阻层3包括与各子像素单元21一一对应的色阻单元31，各色阻单元31紧密排列，有效避免像素单元发出的光从相邻色阻单元31漏出；色阻单元31包括至少两个颜色，对当子像素单元21发出的光穿透色阻单元31时发出至少两种颜色，以实现本公开中提供的显示基板的显示功能，在色阻层3背离衬底1的一侧设置有起到保护作用的盖板4，光处理结构5在衬底1上的正投影覆盖不同颜色的色阻单元31的交界处，通过光处理结构5来阻碍子像素单元21出射光线中角度大于盖板的全反射临界角的光线从盖板4射出，也就是说，子 像素单元21的出射光线中角度大于盖板的全反射临界角的光线无法从盖板4射出，从而将相邻不同颜色的色阻单元31交界处的部分光线无法从盖板4射出，以减小相邻子像素单元21的光学串扰。例如，光处理结构中的用于阻碍多个子像素单元出射的光线中角度大于盖板的全反射临界角的光线从盖板射出，其中盖板的全反射临界角与盖板和光处理结构的折射率有关。
在一些具体的实施方式中，图中未示出，超表面结构位于色阻层朝向衬底的一侧，通过超表面结构将子像素单元发出的光线中的角度大于盖板的全反射临界角的光线先进行阻挡，以防止在色阻层中相邻的色阻单元中发生光学串扰。
在另一些具体的实施方式中，图中未示出，超表面结构位于色阻层朝向衬底的一侧，同时超表面结构还位于色阻层背离衬底的一侧。
在另一些具体的实施方式中，如图5和图9所示，光处理结构5包括位于盖板4朝向色阻层3的一侧表面的超表面结构51，超表面结构51用于将接收到的光线导入盖板4内部进行全反射。为了保证从超表面结构51进入盖板4的光线发生全反射要具备两个条件，一个是保证超表面结构51的折射率大于盖板4的折射率；另一个是从超表面结构51进入盖板4的光线的角度大于临界角，当然关于临界角的大小与超表面结构51和盖板4两者的折射率有关。也就是说，子像素单元21出射光线中角度大于预设角度的光线在盖板4中发生全反射，而无法从盖板4射出。
关于超表面结构51包括多个凸起结构511，凸起结构511朝向色阻层3凸起。例如超表面结构51通过纳米压印的方式，或者半导体曝光方式，实现超表面结构51结构的制作，超表面结构51的材料可以是氮化硅(SiNx)、氧化硅等折射率高，但吸收率小的透明材料。超表面结构51的折射率越高，与盖板4的折射率相比将会差距更大，使得在盖板4中发生全反射的效果越好。吸收率小有效避免将子像素单元21发出的光线吸收，从而影响显示基板的显示亮度。
关于凸起结构511有以下多种结构，具体包括：
结构一、如图5-图8，多个凸起结构511中的至少一个凸起结构511包括多个分散的凸起微结构511a，如图8所示，在平行于盖板4所在平面的方向上，相邻凸起微结构511a的间隔d1大于或等于凸起微结构511a的宽度d2。例如，相邻凸起微结构511a的间隔可以根据实际进行设计，一般相邻凸起微结构511a的间隔在200nm-400nm之间，而凸起微结构511a一般50nm-200nm之间不等，凸起微结构511a的高度也根据不同设计有所差异，一般控制在500nm-1000nm，为了增加凸起微结构511a形成的凸起结构511的全反射效果，在一个凸起结构511中的凸起微结构511a的高度不一致，例如中心区域的凸起微结构511a的高度相对高，位于中心区域的周围的边缘区域的凸起微结构511a的高度相对低。
如图6所示，凸起结构511在盖板4的正投影形成有效范围A，有效范围包括至少一个微结构区域A1，微结构区域A1阵列分布。图6中的虚线包围的区域为微结构区域A1。
继续参考图7，凸起微结构511a在微结构区域A1内的投影面积从有效范围的边缘到中心逐渐变大。也就是说，图6中虚线分隔的区域为单位面积，每个单位面积中凸起微结构511a所占面积为占空比，由于相邻凸起微结构511a的形成使得之间填充有空气或是平坦层9(这里是因为凸起微结构511a的形成方式是采用纳米压印的方式，或者半导体曝光方式导致的)，无论相邻凸起微结构511a之间是空气还是平坦层9，将会确定凸起微结构511a的相对折射率，由于空气的折射率和平坦层9的折射率都比凸起微结构511a的折射率低，中心区域的凸起微结构511a的尺寸大于边缘区域的尺寸，因此中心区域的凸起微结构511a的相对折射率大于边缘区域的凸起微结构511a的相对折射率，因为凸起结构511的中心区域位于相邻不同颜色的色阻单元31交界处，进而使得在相邻不同颜色的色阻单元31交界处的光线尽可能多的发生全反射。
继续参考图8，在垂直盖板4所在平面的方向上，凸起微结构511a的横截面积包括三角形、梯形和矩形中的一种或多种组合。例如，图8中凸起微结构511a为矩形结构，如果凸起微结构511a为三角形或是梯形将会存在倾斜 面，使得子像素单元21发出的光线中垂直射入的凸起微结构511a的倾斜面时，会被反射回来，减小进入凸起微结构511a的光线，有效减小相邻子像素单元21的光学串扰现象。
结构二、多个凸起结构511中的至少一个凸起结构511在垂直盖板4所在平面的方向上的横截面积包括部分圆形。例如如图10和图11所示，当然可以为半圆形；因为凸起结构511具有弧形面，增加了凸起结构511的与光线接触的表面积，使得从子像素单元21发出的光线中垂直射入的凸起结构511的弧形面时，会被反射回来，减小进入凸起结构511的光线，有效减小相邻子像素单元21的光学串扰现象。
结构三、多个凸起结构511中的至少一个凸起结构511包括多个凸起子结构511b，在平行于盖板4所在平面的方向上，任意相邻的两个凸起子结构511b紧密排列且相互接触。如图12，凸起子结构511b背离盖板的一侧表面为平滑的曲面；例如，在垂直盖板4所在平面的方向上，凸起子结构511b的横截面积包括部分圆形；当然可以为半圆形；因为凸起子结构511b具有弧形面，增加了凸起子结构511b的与光线接触的表面积，使得从子像素单元21发出的光线中垂直射入的凸起子结构511b的弧形面时，会被反射回来，减小进入凸起子结构511b的光线，有效减小相邻子像素单元21的光学串扰现象。例如，可以是两个凸起构每个都包括多个凸起子结构511b，还以是三个凸起构每个都包括多个凸起子结构511b，具体数量并不限制。当然多个凸起结构511可以是两个或是两个以上。
如图13，光处理结构5包括第一光处理结构52和第二光处理结构53，第一光处理结构52和第二光处理结构53均设置在盖板4的表面，且第一光处理结构52在衬底1的正投影与第二光处理结构53在衬底1的正投影存在交叠；第一光处理结构52用于吸收长轴平行于第一方向的光线，第二光处理结构53用于吸收长轴平行于第二方向的光线，第一方向与第二方向垂直。例如，第一吸收层和第二吸收层可以都位于盖板4同一侧，第一光处理结构52和第二光处理结构53均位于盖板4朝向色阻层3的一侧，当第一光处理结构 52和第二光处理结构53均位于盖板4朝向色阻层3的一侧时，第一光处理结构和第二光处理结构之间存在介质层。
例如，第一光处理结构52和第二光处理结构53也可以是分开两侧进行设置。
如图13所示，第一光处理结构52位于盖板4朝向色阻层3的一侧，第二光处理结构53位于盖板4背离色阻层3的一侧。
例如，为了保证光吸收层对光线的吸收效果，第二光处理结构53在盖板4上的正投影完全覆盖第一光处理结构52在盖板4上的正投影。
下面以第一光处理结构和第二光处理结构分别位于盖板两侧为例进行说明，如图14a和图14b所示，假设第一电极边缘到盖板第一光处理结构垂直距离为h1，例如根据入射角的正弦值与折射角的正弦值之比等于两种介质的折射率之比，也就是公式：n1/n2＝sinθ1/sinθ2，其中，盖板的折射率为n1＝1.5，空气的折射率为n2＝1，继续参考图14a和图14b，图中的θ角为入射角，而由于第一光处理结构和第二光处理结构的作用是将光线进行吸收，因此出射角为90°，也就是sin90°＝1，根据上述公式那么可求出θ＝arcsin(1/1.5),那么w1＝h1*tan(θ)，一并参考图14b，推导过程一致，在此不再赘述，假设两个相邻的第一电极之间的距离为w2，那么第一光处理结构的宽度为2w1-w2；同理，参考图14c和图14d，假设第一电极边缘到盖板第二光处理结构垂直高度为h2，那么w3＝h2*tan(θ)，第二光处理结构的宽度为2w3-w2。为了提高本公开提供的显示基板的显示效果，需要增大开口率，因此第一光处理结构的宽度不能过宽，第一光处理结构的宽度2w1-w2与h1有关，需要将盖板的厚度尽可能变薄。具体的，第一光处理结构52包括多条第一金属线，多条第一金属线中每一条第一金属线均沿第一方向延长，且多条第一金属线沿第二方向排布；第二光处理结构53包括多条第二金属线，多条第二金属线中每一条第二金属线沿第二方向延长，且多条第二金属线沿第一方向排布；第一金属线与第二金属线正交。例如，由于金属具有吸光性，所以将第一光处理结构52和第二光处理结构53的材料选择为金属，第一光处理结构52和第二光 处理结构53的材料可以相同也可以不同，例如金属为铝、铜、银、铬等构成的膜层。
本公开提供的一种显示基板包括衬底1，例如衬底1材料为硅，在衬底1的一侧设置有第一电极6，由衬底1指向第一电极6的方向依次设置有电致发光层7、第二电极10、薄膜封装层8、色阻层3、平坦层9、光处理结构5和盖板4。色阻层3包括至少两个颜色的色阻单元31，图中的色阻单元31为三个不同颜色，例如红绿蓝三种颜色，当然也可以根据需要进行不同颜色个数的选择，在此不再赘述。例如，盖板4的材料可以为玻璃，因为本公开中增加了光处理结构5，为了不使得显示基板的整体厚度变厚，将盖板4的材料选择为聚酰亚胺(PI，polyimide)。
第二方面，本公开提供一种显示装置，包括第一方面任一项的显示基板。
显然，本领域的技术人员可以对本公开实施例进行各种改动和变型而不脱离本公开的精神和范围。这样，倘若本公开的这些修改和变型属于本公开权利要求及其等同技术的范围之内，则本公开也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (17)
- 一种显示基板，其中，包括：衬底；多个像素单元，所述多个像素单元位于所述衬底的一侧，所述多个像素单元中的每个所述像素单元包括多个子像素单元；色阻层，所述色阻层位于所述像素单元的出光侧，所述色阻层包括多个色阻单元，每个所述色阻单元与各所述子像素单元一一对应设置，各所述色阻单元紧密排列；光处理结构，所述光处理结构在所述衬底上的正投影覆盖不同颜色的所述色阻单元的交界处；盖板，位于所述色阻层背离所述衬底的一侧；其中：所述光处理结构用于阻碍所述多个子像素单元出射的光线中角度大于所述盖板的全反射临界角的光线从所述盖板射出。
- 根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述光处理结构包括超表面结构；所述超表面结构位于所述色阻层朝向所述衬底的一侧；和/或，所述超表面结构位于所述色阻层背离所述衬底的一侧。
- 根据权利要求2所述的显示基板，其中，所述超表面结构位于所述色阻层背离所述衬底的一侧时，所述超表面结构的折射率大于所述盖板的折射率。
- 根据权利要求3所述的显示基板，其中，所述超表面结构位于所述盖板朝向所述色阻层的一侧时，所述超表面结构包括多个凸起结构，所述凸起结构朝向所述色阻层凸起。
- 根据权利要求4所述的显示基板，其中，所述多个凸起结构中的至少一个凸起结构包括多个分散的凸起微结构，在平行于所述盖板所在平面的方向上，相邻所述凸起微结构的间隔大于或等于所述凸起微结构的宽度。
- 根据权利要求5所述的显示基板，其中，所述凸起结构在所述盖板的正投影形成有效范围，所述有效范围包括至少一个微结构区域，所述微结构区域阵列分布。
- 根据权利要求6所述的显示基板，其中，所述凸起微结构在所述微结构区域内的投影面积从所述微结构区域的边缘到中心逐渐变大。
- 根据权利要求7所述的显示基板，其中，在垂直所述盖板所在平面的方向上，所述凸起微结构的横截面积包括三角形、梯形和矩形中的一种或多种组合。
- 根据权利要求6-8任一项所述的显示基板，其中，在垂直所述盖板所在平面的方向上，所述凸起微结构在所述微结构区域内的高度从所述微结构区域的边缘到中心逐渐变高。
- 根据权利要求4所述的显示基板，其中，所述多个凸起结构中的至少一个凸起结构包括多个凸起子结构，在平行于所述盖板所在平面的方向上，任意相邻的两个所述凸起子结构紧密排列且相互接触。
- 根据权利要求10所述的显示基板，其中，所述凸起子结构背离所述盖板的一侧表面为平滑的曲面。
- 根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述光处理结构包括第一光处理结构和第二光处理结构，所述第一光处理结构和所述第二光处理结构均设置在所述盖板的表面，且所述第一光处理结构在所述衬底的正投影与所述第二光处理结构在所述衬底的正投影存在交叠；所述第一光处理结构用于吸收长轴平行于第一方向的光线，所述第二光处理结构用于吸收长轴平行于第二方向的光线，所述第一方向与所述第二方向垂直。
- 根据权利要求12所述的显示基板，其中，所述第一光处理结构位于所述盖板朝向所述色阻层的一侧，所述第二光处理结构位于所述盖板背离所述色阻层的一侧。
- 根据权利要求12所述的显示基板，其中，所述第一光处理结构和所 述第二光处理结构均位于所述盖板朝向所述色阻层的一侧。
- 根据权利要求13或14所述的显示基板，其中，所述第二光处理结构在所述盖板上的正投影覆盖所述第一光处理结构在所述盖板上的正投影。
- 根据权利要求15所述的显示基板，其中，所述第一光处理结构包括多条第一金属线，所述多条第一金属线中每一条所述第一金属线均沿所述第一方向延长，且所述多条第一金属线沿所述第二方向排布；所述第二光处理结构包括多条第二金属线，所述多条第二金属线中每一条所述第二金属线沿所述第二方向延长，且所述多条第二金属线沿所述第一方向排布；所述第一金属线与所述第二金属线正交。
- 一种显示装置，其中，包括权利要求1-16任一项所述的显示基板。
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