CN117707253A - 一种用于电解整流系统下的可控硅温度监测控制系统 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及电解整流技术领域，尤其涉及一种用于电解整流系统下的可控硅温度监测控制系统。包括：硬件监控模块；所述硬件监控模块安装在可控硅上，用于实时监测可控硅工作温度；软件监测模块；所述软件监测模块与硬件监控模块电连接，用于接收硬件监控模块上传的可控硅温度数据，并判断可控硅的工作温度是否符合标准；预警模块；所述预警模块与软件监测模块电连接，并将可控硅的工作温度超高信息传递至现场和监控人员处；降温模块；所述降温模块安装在可控硅的外部，在预警模块的远程控制下对可控硅进行快速降温。该系统不仅能够对可控硅的运行温度进行实时监控，还能对可控硅及时降温处理，提升电解整流系统运行的稳定性。
Description
技术领域
本发明涉及电解整流技术领域，尤其涉及一种用于电解整流系统下的可控硅温度监测控制系统。
背景技术
可控硅是可控硅整流元件的简称，是一种具有三个PN结的四层结构的大功率半导体器件，亦称为晶闸管；可控硅工作时会产生热量，需要将热量及时散去，否则影响其正常工作。
电解整流系统下的可控硅是重要的设备，在日常设备巡检和维保中，主要检测可控硅的温度和压降，看设备是否异常。现有的状态都是人员巡检用测温枪和万用表测量温度和压降，再根据经验判断可控硅温度是否异常，该项工作耗费巨大人力。因此，急需解决。
上述内容仅用于辅助理解本发明的技术方案，并不代表承认上述内容是最接近的现有技术。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种用于电解整流系统下的可控硅温度监测控制系统，该系统不仅能够对可控硅的运行温度进行实时监控，还能对可控硅及时降温处理，提升电解整流系统运行的稳定性。
为达到所述目的，本发明的技术方案是这样实现的，一种用于电解整流系统下的可控硅温度监测控制系统，包括：硬件监控模块；所述硬件监控模块安装在可控硅上，用于实时监测可控硅工作温度；
软件监测模块；所述软件监测模块与硬件监控模块电连接，用于接收硬件监控模块上传的可控硅温度数据，并判断可控硅的工作温度是否符合标准；
预警模块；所述预警模块与软件监测模块电连接，用于显示软件监测模块的判断信息，并将可控硅的工作温度超高信息传递至现场和监控人员处；
降温模块；所述降温模块安装在可控硅的外部，并与预警模块电连接，在预警模块的远程控制下对可控硅进行快速降温，且降温模块的工作功率可调。
优选的，所述硬件监控模块包括型号为DS18B20的电子温度传感器和电子万用表；所述软件监测模块包括后台计算机和数据处理软件；所述电子温度传感器对前室温和可控硅的温度进行实时检测，并将温度数据上传至数据处理软件中；所述电子万用表读取可控硅对应的快速熔断器的压降；并将压降数据上传至数据处理软件中。
优选的，所述数据处理软件设有标准数据库和数值分析比较模型；所述标准数据库中存储有可控硅标准工作模式下室温、硅温、压降三个参数的标准数值；所述分析比较模型用于接收电子温度传感器、电子万用表上传的数据，并将其与标准数据库中对应参数的标准数值进行比对，且比对结果传递至计算机中。
优选的，所述预警模块包括与计算机电连接的后台中控显示屏、车间警示灯和移动端报警器；所述后台中控显示屏用于实时显示可控硅所处的室温、硅温和压降值，并显示数据处理软件的数据处理结果；所述车间警示灯闪烁提醒现场操作人员可控硅温度过高；所述移动端报警器由操作人员随身携带，用于远程接收数据处理软件的处理结果，并通过提示音和弹出温度过高的警告弹窗提醒操作人员对可控硅及时降温处理。
优选的，所述降温模块包括液冷外壳、液冷固定座和液冷泵；所述液冷外壳和液冷固定座安装在可控硅的外部，并与可控硅的外壳紧密贴合；所述液冷泵通过循环管与液冷外壳和液冷固定座分别连通，且液冷泵与计算机电连接。
优选的，所述液冷外壳上设有与循环管连通的外壳进液口和外壳出液口；所述外壳进液口和外壳出液口之间通过铜管连接；所述液冷固定座上设有与循环管连通的固定座进液口和固定座出液口，且液冷固定座上设有固定座进液口和固定座出液口之间通过铝管连通。
优选的，所述铜管和铝管均设计为迂回状。
优选的，所述液冷泵为变频泵。
优选的，所述液冷泵与移动端报警器电连接。
本发明的有益效果体现在：
(1)、本发明通过在可控硅上安装监测其温度的硬件模块和对其进行降温降温模块，不仅可以对可控硅的温度进行实时监控，同时能够依据可控硅的温度进行及时降温处理，实现智能化监控，降低了人力，也增加了可控硅运行的稳定性。
(2)、本发明将可控硅外部降温模块设置为液冷降温，同时液冷降温的功率可调，可以满足短时间内对可控硅及时降温，便于操作人员能够在较短的时间内对温度较高的可控硅进行降温，提升了整个系统运行的稳定性。
附图说明
图1为本发明流程示意图；
图2为本发明液冷外壳、液冷固定座的结构示意图；
图3为本发明液冷外壳内部铜管走向示意图。
附图标记说明：
10、液冷外壳；11、外壳进液口；12、外壳出液口；20、液冷固定座；
21、固定座进液口；22、固定座出液口。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例1
参见图1-3所示：
本发明提供了一种用于电解整流系统下的可控硅温度监测控制系统，包括：
硬件监控模块；硬件监控模块安装在可控硅上，用于实时监测可控硅工作温度。
软件监测模块；软件监测模块与硬件监控模块电连接，用于接收硬件监控模块上传的可控硅温度数据，并判断可控硅的工作温度是否符合标准。
硬件监控模块主要由型号为DS18B20的电子温度传感器和电子万用表组成，而软件监测模块主要由后台计算机和数据处理软件组成。
电子温度传感器对前室温和可控硅的温度进行实时检测，并将温度数据上传至数据处理软件中。电子万用表读取可控硅对应的快速熔断器的压降，并将压降数据上传至数据处理软件中。
在数据处理软件设有标准数据库和数值分析比较模型，标准数据库中存储有可控硅标准工作模式下室温、硅温、压降三个参数的标准数值。
分析比较模型用于接收电子温度传感器、电子万用表上传的数据，并将其与标准数据库中对应参数的标准数值进行比对，且比对结果传递至计算机中。计算机依据分析比对结果，对可控硅的降温等进行下一步处理。
还包括预警模块；预警模块与软件监测模块电连接，用于显示软件监测模块的判断信息，并将可控硅的工作温度超高信息传递至现场和监控人员处。
预警模块主要由与计算机电连接的后台中控显示屏、车间警示灯和移动端报警器组成。
后台中控显示屏安装在控制室内，主要用于实时显示可控硅所处的室温、硅温和压降值，并显示数据处理软件的数据处理结果。
车间警示灯通过光线闪烁的方式，提醒现场操作人员可控硅温度过高，并使其能够及时去检查核实；而移动端报警器由操作人员随身携带，用于远程接收数据处理软件的处理结果，并通过提示音和弹出温度过高的警告弹窗提醒操作人员对可控硅及时降温处理。
实际使用时，各个位置的操作人员依据各个地方的预警提醒，及时对可控硅进行检查，避免运行异常，导致停产停工的现象出现，降低了生产损失。
降温模块；降温模块安装在可控硅的外部，并与预警模块电连接，在预警模块的远程控制下对可控硅进行快速降温，且降温模块的工作功率可调。
降温模块主要由液冷外壳10、液冷固定座20和液冷泵组成。液冷外壳10和液冷固定座20主要安装在可控硅的外部，并与可控硅的外壳紧密贴合。液冷泵通过循环管与液冷外壳10和液冷固定座20分别连通，且液冷泵与计算机电连接。
在液冷外壳10上设有与循环管连通的外壳进液口11和外壳出液口12。外壳进液口11和外壳出液口12之间通过铜管连接，液冷固定座20上设有与循环管连通的固定座进液口21和固定座出液口22，且液冷固定座20上设有固定座进液口21和固定座出液口22之间通过铝管连通。铜管和铝管均设计为迂回状，液冷泵为变频泵，液冷泵与移动端报警器电连接。
通过这样的设置，当移动端报警器提醒操作人员需要对可控硅进行降温时，操作人员通过移动端报警器控制液冷泵加大运行功率，从而加快液冷外壳10、液冷固定座20中液冷液的流动速度，进而快速将可控硅上的温度带走，使得可控硅的温度在较短的时间内降下来。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同更换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (9)
1.一种用于电解整流系统下的可控硅温度监测控制系统，其特征在于，包括：硬件监控模块；所述硬件监控模块安装在可控硅上，用于实时监测可控硅工作温度；
软件监测模块；所述软件监测模块与硬件监控模块电连接，用于接收硬件监控模块上传的可控硅温度数据，并判断可控硅的工作温度是否符合标准；
预警模块；所述预警模块与软件监测模块电连接，用于显示软件监测模块的判断信息，并将可控硅的工作温度超高信息传递至现场和监控人员处；
降温模块；所述降温模块安装在可控硅的外部，并与预警模块电连接，在预警模块的远程控制下对可控硅进行快速降温，且降温模块的工作功率可调。
2.根据权利要求1所述的一种用于电解整流系统下的可控硅温度监测控制系统，其特征在于，所述硬件监控模块包括型号为DS18B20的电子温度传感器和电子万用表；所述软件监测模块包括后台计算机和数据处理软件；所述电子温度传感器对前室温和可控硅的温度进行实时检测，并将温度数据上传至数据处理软件中；所述电子万用表读取可控硅对应的快速熔断器的压降；并将压降数据上传至数据处理软件中。
3.根据权利要求2所述的一种用于电解整流系统下的可控硅温度监测控制系统，其特征在于，所述数据处理软件设有标准数据库和数值分析比较模型；所述标准数据库中存储有可控硅标准工作模式下室温、硅温、压降三个参数的标准数值；所述分析比较模型用于接收电子温度传感器、电子万用表上传的数据，并将其与标准数据库中对应参数的标准数值进行比对，且比对结果传递至计算机中。
4.根据权利要求3所述的一种用于电解整流系统下的可控硅温度监测控制系统，其特征在于，所述预警模块包括与计算机电连接的后台中控显示屏、车间警示灯和移动端报警器；所述后台中控显示屏用于实时显示可控硅所处的室温、硅温和压降值，并显示数据处理软件的数据处理结果；所述车间警示灯闪烁提醒现场操作人员可控硅温度过高；所述移动端报警器由操作人员随身携带，用于远程接收数据处理软件的处理结果，并通过提示音和弹出温度过高的警告弹窗提醒操作人员对可控硅及时降温处理。
5.根据权利要求4所述的一种用于电解整流系统下的可控硅温度监测控制系统，其特征在于，所述降温模块包括液冷外壳(10)、液冷固定座(20)和液冷泵；所述液冷外壳(10)和液冷固定座(20)安装在可控硅的外部，并与可控硅的外壳紧密贴合；所述液冷泵通过循环管与液冷外壳(10)和液冷固定座(20)分别连通，且液冷泵与计算机电连接。
6.根据权利要求5所述的一种用于电解整流系统下的可控硅温度监测控制系统，其特征在于，所述液冷外壳(10)上设有与循环管连通的外壳进液口(11)和外壳出液口(12)；所述外壳进液口(11)和外壳出液口(12)之间通过铜管连接；所述液冷固定座(20)上设有与循环管连通的固定座进液口(21)和固定座出液口(22)，且液冷固定座(20)上设有固定座进液口(21)和固定座出液口(22)之间通过铝管连通。
7.根据权利要求6所述的一种用于电解整流系统下的可控硅温度监测控制系统，其特征在于，所述铜管和铝管均设计为迂回状。
8.根据权利要求7所述的一种用于电解整流系统下的可控硅温度监测控制系统，其特征在于，所述液冷泵为变频泵。
9.根据权利要求7所述的一种用于电解整流系统下的可控硅温度监测控制系统，其特征在于，所述液冷泵与移动端报警器电连接。
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