CN117680465A - 晶圆清洗设备 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及晶圆清洗设备，属于晶圆生产设备技术领域。晶圆清洗设备包括清洗箱、除尘箱和挡尘部。清洗箱具有固定部，晶圆安装在固定部上，清洗箱的顶部具有清洗口。除尘箱具有进气口和排气口，进气口与排气口沿第一方向间隔设置，并分别位于除尘箱的两侧，除尘箱内具有除尘腔，除尘腔连通进气口和排气口，清洗箱上还具有排尘口，排尘口与进气口相对设置以连通清洗箱和除尘箱。挡尘部设置于除尘腔内且位于进气口和排气口之间，挡尘部用于气体在除尘腔流动时阻挡气体中的杂质，并使杂质留在除尘腔内。进而解决了现有晶圆清洗设备导致粉尘飞扬，极大程度的污染了工作环境，不利于资源再回收利用的技术问题。

Description

晶圆清洗设备
技术领域
本发明属于晶圆生产设备技术领域，特别涉及晶圆清洗设备。
背景技术
晶圆是半导体制造中的一种关键材料。它是一片薄而圆的硅片，通常由高纯度的单晶硅材料制成。晶圆是半导体芯片的基础，上面可以制造出集成电路、光电器件和其他微电子器件。在晶圆的生产过程中需要清洗晶圆表面的切削粉尘，但是现有的晶圆清洗设备直接将晶圆表面的切削粉尘通过毛刷进行刷洗，进而导致粉尘飞扬，极大程度的污染了工作环境，同时也不利于资源的再回收利用。
发明内容
本发明提供晶圆清洗设备，用于解决上述技术问题。
为了达到上述目的，本发明通过下述技术方案实现：晶圆清洗设备包括清洗箱、除尘箱和挡尘部。清洗箱具有固定部，晶圆安装在所述固定部上，所述清洗箱的顶部具有清洗口。除尘箱具有进气口和排气口，所述进气口与所述排气口沿第一方向间隔设置，并分别位于所述除尘箱的两侧，所述除尘箱内具有除尘腔，所述除尘腔连通所述进气口和所述排气口，所述清洗箱上还具有排尘口，所述排尘口与所述进气口相对设置以连通所述清洗箱和除尘箱。挡尘部设置于所述除尘腔内且位于所述进气口和所述排气口之间，所述挡尘部用于气体在除尘腔流动时阻挡所述气体中的杂质，并使所述杂质留在所述除尘腔内。
可选地，所述挡尘部包括第一板体和第二板体。第一板体设置于所述除尘腔内，所述第一板体沿第二方向延伸。第二板体设置于所述除尘腔内，所述第二板体沿第三方向延伸，所述第一板体与所述第二板体沿所述第一方向交错设置，且相邻的所述第一板体与所述第二板体间隔设置。
可选地，所述第一方向分别相交于所述第二方向和所述第三方向，且所述第二方向和所述第三方向平行设置。
可选地，所述第一板体相对于所述除尘箱内壁倾斜的角度α为°~°。
可选地，所述第二板体相对于所述除尘箱内壁倾斜的角度β为°~°。
可选地，所述第一板体靠近所述进气口的一侧上设置有第一凸条，所述第二板体靠近所述进气口的一侧上设置有第二凸条。
可选地，所述第一凸条与所述第二凸条的延伸方向呈夹角设置。
可选地，所述挡尘部的材料为微纤维布。
可选地，所述清洗箱的底部具有排水口，所述排水口处安装有可封闭式阀门。
由上述技术方案可知，本发明提供的晶圆清洗设备的有益效果在于：通过设置清洗箱对晶圆进行清洗，并通过除尘箱和挡尘部将晶圆表面上的切削粉尘进行收集，进而解决了现有晶圆清洗设备清洗时，导致粉尘飞扬污染工作环境的技术问题。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的晶圆清洗设备的结构示意图；
图2为本发明实施例提供的除尘箱内部的结构示意图；
图3为本发明实施例提供的清洗箱内部的结构示意图；
图4为本发明实施例提供的晶圆清洗设备内部的剖视图。
图中：1-清洗箱；11-清洗口；12-排尘口；13-排水口；101-清洗箱箱门；2-固定部；3-晶圆；4-除尘箱；41-进气口；42-排气口；401-除尘箱箱门；5-挡尘部；51-第一板体；52-第二板体；61-第一凸条；62-第二凸条；7-水管。
具体实施方式
下面结合附图对本申请实施例进行详细描述。
在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。
术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
实施例
现有的晶圆清洗设备直接将晶圆表面的切削粉尘通过毛刷进行刷洗，进而导致粉尘飞扬，极大程度的污染了工作环境，同时也不利于资源的再回收利用。
为了解决上述技术问题，参照图4所示，本实施例提供晶圆清洗设备可以包括清洗箱1、除尘箱4和挡尘部5。清洗箱1具有固定部2，晶圆3安装在固定部2上，清洗箱1的顶部具有清洗口11。除尘箱4具有进气口41和排气口42，进气口41与排气口42沿第一方向间隔设置，并分别位于除尘箱4的两侧，除尘箱4内具有除尘腔，除尘腔连通进气口41和排气口42，清洗箱1上还具有排尘口12，排尘口12与进气口41相对设置以连通清洗箱1和除尘箱4。挡尘部5设置于除尘腔内且位于进气口41和排气口42之间，挡尘部5用于气体在除尘腔流动时阻挡气体中的杂质，并使杂质留在除尘腔内。参照图1所示，晶圆清洗设备还包括清洗箱箱门101和除尘箱箱门401，通过清洗箱箱门101打开清洗箱1以便于对晶圆进行更换，通过打开除尘箱箱门401以对除尘箱4内的灰尘进行收集，清洗箱箱门101和除尘箱箱门401分别与清洗箱1以及除尘箱4通过橡胶条紧密设置，以防止气体逸出。固定部2包括抵接块和放置板，晶圆3安装在放置板上，抵接块转动安装在放置板上，以便于更换晶圆3。参照图3所示，清洗箱1的底部具有排水口13，排水口13处安装有可封闭式阀门。固定部2上还可以安装毛刷，以对晶圆3表面上的切削粉尘进行刷洗。图4中箭头A所示方向为第一方向，图4中箭头B所示方向为第二方向，图4中箭头C所示方向为第三方向。除尘箱4上还可以安装有振动件，在振动件的作用下使得粉尘在重力的作用下掉至除尘箱4的底部，以便于收集，除尘箱4的底部可以呈漏斗状
通过上述结构，本实施例提供的晶圆清洗设备，在使用时，先将晶圆3安装在固定部2上，将水管7安装在清洗口11处，并通入清水以对晶圆3表面的灰尘进行冲刷，排水口13处具有过滤板，清水通过排水口13排出清洗箱1外，待清洗箱1内的粉尘干燥后，通过将抽风机安装在除尘箱4的排气口42处，因此在风力的作用下清洗箱1内的粉尘进入除尘箱4内，并通过挡尘部5使得气体在除尘腔内流动是阻挡气体中的粉尘，进而使得粉尘留在除尘腔内。
在上述基础上，参照图2所示，挡尘部5可以包括第一板体51和第二板体52。第一板体51设置于除尘腔内，第一板体51沿第二方向延伸。第二板体52设置于除尘腔内，第二板体52沿第三方向延伸，第一板体51与第二板体52沿第一方向交错设置，且相邻的第一板体51与第二板体52间隔设置。
在上述基础上，参照图4所示，第一方向分别相交于第二方向和第三方向，且第二方向和第三方向平行设置。第一板体51相对于除尘箱4内壁倾斜的角度α为68°~75°。第二板体52相对于除尘箱4内壁倾斜的角度β为68°~75°。通过第一板体51和第二板体52的设置，使得晶圆3上的粉尘在抽风机的作用下被第一板体51与第二板体52阻挡，以使得粉尘滞留在除尘箱4内。
在上述基础上，参照图4所示，第一板体51靠近进气口41的一侧上设置有第一凸条61，第二板体52靠近进气口41的一侧上设置有第二凸条62。第一板体51、第二板体52、第一凸条61以及第二凸条62的材料可以为微纤维布，微纤维布具有细小的纤维结构，可以更好地吸附灰尘和污垢，同时不会刮伤物体表面。其中第一板体51、第二板体52、第一凸条61以及第二凸条62的材料还可以为静电吸尘布、粘性胶带和静电除尘刷等。静电吸尘布通过静电吸附灰尘，能够迅速吸附大量细小的灰尘颗粒；粘性胶带可以粘附灰尘和细小的颗粒；静电除尘刷利用静电原理吸附灰尘。
在上述基础上，参照图4所示，第一凸条61与第二凸条62的延伸方向呈夹角设置。以通过第一凸条61和第二凸条62进一步对粉尘进行吸附。
综上，在晶圆清洗设备的使用过程中，首先，将晶圆3安装在固定部2上，通过水管7从清洗口11注入清水并通过毛刷对晶圆3表面上的切削粉尘进行清刷，清洗后的水通过排水口13排出，待清洗箱1内的粉尘干燥后，将抽风机放置在除尘箱4的排气口42处，在风力的作用下使得清洗箱1内的粉尘通过排尘口12以及进气口41进入除尘箱4内，通风机在第一板体51、第二板体52、第一凸条61以及第二凸条62的作用下将粉尘滞留在除尘腔内，以对粉尘进行收集。除尘箱4上还可以安装有振动件，在振动件的作用下使得粉尘在重力的作用下掉至除尘箱4的底部，以便于收集，除尘箱4的底部可以呈漏斗状。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明记载的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (9)

1.晶圆清洗设备，其特征在于，包括：
清洗箱（1），具有固定部（2），晶圆（3）安装在所述固定部（2）上，所述清洗箱（1）的顶部具有清洗口（11）；
除尘箱（4），具有进气口（41）和排气口（42），所述进气口（41）与所述排气口（42）沿第一方向间隔设置，并分别位于所述除尘箱（4）的两侧，所述除尘箱（4）内具有除尘腔，所述除尘腔连通所述进气口（41）和所述排气口（42），所述清洗箱（1）上还具有排尘口（12），所述排尘口（12）与所述进气口（41）相对设置以连通所述清洗箱（1）和除尘箱（4）；
挡尘部（5），设置于所述除尘腔内且位于所述进气口（41）和所述排气口（42）之间，所述挡尘部（5）用于气体在除尘腔流动时阻挡所述气体中的杂质，并使所述杂质留在所述除尘腔内。
2.根据权利要求1所述的晶圆清洗设备，其特征在于，所述挡尘部（5）包括：
第一板体（51），设置于所述除尘腔内，所述第一板体（51）沿第二方向延伸；
第二板体（52），设置于所述除尘腔内，所述第二板体（52）沿第三方向延伸，所述第一板体（51）与所述第二板体（52）沿所述第一方向交错设置，且相邻的所述第一板体（51）与所述第二板体（52）间隔设置。
3.根据权利要求2所述的晶圆清洗设备，其特征在于，所述第一方向分别相交于所述第二方向和所述第三方向，且所述第二方向和所述第三方向平行设置。
4.根据权利要求3所述的晶圆清洗设备，其特征在于，所述第一板体（51）相对于所述除尘箱（4）内壁倾斜的角度α为68°~75°。
5.根据权利要求4所述的晶圆清洗设备，其特征在于，所述第二板体（52）相对于所述除尘箱（4）内壁倾斜的角度β为68°~75°。
6.根据权利要求5所述的晶圆清洗设备，其特征在于，所述第一板体（51）靠近所述进气口（41）的一侧上设置有第一凸条（61），所述第二板体（52）靠近所述进气口（41）的一侧上设置有第二凸条（62）。
7.根据权利要求6所述的晶圆清洗设备，其特征在于，所述第一凸条（61）与所述第二凸条（62）的延伸方向呈夹角设置。
8.根据权利要求1所述的晶圆清洗设备，其特征在于，所述挡尘部（5）的材料为微纤维布。
9.根据权利要求1所述的晶圆清洗设备，其特征在于，所述清洗箱（1）的底部具有排水口（13），所述排水口（13）处安装有可封闭式阀门。
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