CN117621497A - 一种亚克力膜及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种亚克力膜，包括PMMA基膜，在所述PMMA基膜的一侧表面设有由热熔胶制备而成的热熔胶底涂层。该热熔胶底涂层与水性primer涂料制备的膜层不同，不含二氧化硅颗粒，不会对膜面造成缺陷，所制得亚克力膜透过率高，雾度低。该亚克力膜的制备方法中，仅需将PMMA树脂颗粒及热熔胶树脂颗粒分别经过熔融挤出机进入双涂布模头，采用Open制膜方式，共同熔融挤出熔融PMMA树脂与熔融热熔胶树脂，依次经过三道铸造辊冷却成膜，然后经过高温纵向拉伸与高温横向拉伸，即可得到亚克力膜。共同熔融挤出以及共同挤压冷却成膜的步骤增强了热熔胶底涂层与PMMA基膜的附着力。
Description
技术领域
本发明属于光学膜技术领域，具体涉及一种亚克力膜及其制备方法，适用于偏光板。
背景技术
偏光板的基本结构除了最中间的PVA(聚乙烯醇)，还包含两层PVA保护层。其中，起到偏振作用的是PVA层；但是PVA极易水解，为了保护偏光膜的物理特性，一般在PVA的两侧各复合一层具有高光透过率、耐水性较好又有一定机械强度的光学薄膜作为PVA保护层，这就形成了偏光板原板。偏光板中作为PVA保护层的光学薄膜有TAC(三醋酸纤维素)、PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)、PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)、COP(环戊烯)等。主流的IPS面板用疏水性偏光板大多使用PMMA基膜，要求具有非常高的透光率、优异的机械性能、较好的耐热性和耐久性。
为了使PMMA基膜具有较好的机械性能，一般对PMMA光学膜进行MD(纵向)及TD(横向)方向的双向拉伸。为了防止粘连及与PVA更好的粘合，需要在TD拉伸前在PMMA上涂布水性primer涂料，然而水性primer涂料中添加的硅颗粒在运输或劣化环境下会从涂层中脱落夹杂在膜层中间，对膜面造成凹凸不良影响；另一不良是由含硅颗粒的水性primer涂料制备的PMMA基膜会使PMMA基膜雾度偏高。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术中的不足，提供一种附着力、透过率及雾度均较优异的亚克力膜，适用于偏光板。
为实现上述目的，本发明是采用如下技术方案来实现的：
本申请提供了一种亚克力膜，包括PMMA基膜，在所述PMMA基膜的一侧表面设有由热熔胶制备而成的热熔胶底涂层。
作为本申请进一步的改进，所述PMMA基膜的厚度为30μm～80μm，所述热熔胶底涂层的厚度为0.5μm～2μm。
作为本申请进一步的改进，所述PMMA基膜为光学级双轴拉伸膜，透过率≥92％，雾度≤2％。
作为本申请进一步的改进，所述热熔胶的固含量为100％，其熔点为70℃～120℃。
作为本申请进一步的改进，所述热熔胶的熔点为80℃～110℃。
作为本申请进一步的改进，所述热熔胶为PO、EVA中的任意一种。
为实现上述目的，本申请还提供了一种亚克力膜的制备方法，包括如下步骤：将PMMA树脂颗粒及热熔胶树脂颗粒分别经过熔融挤出机进入双涂布模头，采用Open制膜方式，熔融的PMMA树脂和熔融的热熔胶树脂先后叠加滴落在第一个铸造辊上冷却成膜，熔融PMMA树脂先滴落在第一铸造辊上，熔融的热熔胶树脂滴落在PMMA树脂上，然后依次连续通过串联的第二铸造辊、第三铸造辊继续冷却定型得到初始薄膜，最后初始薄膜经过高温纵向拉伸与高温横向拉伸，得到亚克力膜。
作为本申请进一步的改进，所述初始薄膜中：由熔融PMMA树脂形成的PMMA基膜的厚度为120μm～400μm，由熔融的热熔胶树脂形成的热熔胶底涂层的厚度为2μm～10μm。
作为本申请进一步的改进，所述纵向拉伸的倍率为1.5～3.0，所述纵向拉伸的温度为130℃～160℃；所述横向拉伸的倍率为1.5～3.0，所述横向拉伸的温度为130℃～160℃。
作为本申请进一步的改进，所述第一铸造辊的温度为105℃～115℃，所述第二铸造辊的温度为95℃～105℃，所述第三铸造辊的温度为90℃～100℃。
与现有技术相比，本申请所达到的有益效果：
本申请提供了一种亚克力膜及其制备方法，该亚克力膜包括PMMA基膜以及设于所述PMMA基膜的一侧表面的热熔胶底涂层，该热熔胶底涂层与水性primer涂料制备的膜层不同，不含二氧化硅颗粒，不会对膜面造成缺陷，所制得亚克力膜透过率高，雾度低。该亚克力膜的制备方法中，不需要经历先制备PMMA基膜，再在PMMA基膜上涂布水性primer涂料的过程，仅需将PMMA树脂颗粒及热熔胶树脂颗粒分别经过熔融挤出机进入双涂布模头，采用Open制膜方式，以先后顺序叠加滴落在铸造辊上冷却成膜，PMMA树脂成膜在铸造辊的表面，热熔胶树脂成膜在PMMA表面，依次经过三道铸造辊冷却成膜，再经过高温纵向拉伸与高温横向拉伸，即可得到亚克力膜。分别熔融挤出后共同挤压冷却成膜以及共同经过高温纵向拉伸与高温横向拉伸的步骤增强了热熔胶底涂层与PMMA基膜的附着力。
附图说明
图1是本申请亚克力膜的结构示意图；
图2是Open制膜的工作原理示意图。
图中：1、PMMA基膜；2、热熔胶底涂层；3、第一铸造辊；4、第二铸造辊；5、第三铸造辊。
具体实施方式
下面对本发明作进一步描述，以下实施例仅用于更加清楚地说明本发明的技术方案，而不能以此来限制本发明的保护范围。
实施例一：
将PMMA树脂颗粒(日本钟化HTX-ZU)和PO(聚烯烃)树脂颗粒干燥后分别熔融挤出，通过挤出机的转速与齿轮泵(gear pump)的转速来控制两种树脂的吐出量，所吐出的熔融树脂分别进入双涂布模头(SLOT DIE)，采用Open制膜方式，Open制膜的工作原理示意图参考图2，以先后顺序叠加滴落在第一铸造辊(110℃)上冷却成膜，熔融PMMA树脂最先滴落在第一铸造辊上，PO树脂滴落在PMMA树脂上，然后连续通过串联的第二铸造辊(100℃)、第三铸造辊(95℃)继续冷却定型，制作出厚度为200μm的初始薄膜，最后初始薄膜经过高温纵向拉伸与高温横向拉伸，室温冷却、收卷，得到亚克力膜，亚克力膜的结构示意图参考图1。亚克力膜中：包括厚度为40μm的PMMA基膜1以及厚度为1μm的热熔胶底涂层2。所述纵向拉伸的温度为140℃，拉伸比为1.8，横向拉伸温度为138℃，拉伸比为2.7。
实施例二：
将PMMA树脂颗粒(日本钟化HTX-Z)和EVA(醋酸乙烯共聚物)树脂颗粒干燥后分别熔融挤出，通过挤出机的转速与齿轮泵(gear pump)的转速来控制两种树脂的吐出量，所吐出的熔融树脂分别进入双涂布模头(SLOT DIE)，采用Open制膜方式，Open制膜的工作原理示意图参考图2，以先后顺序叠加滴落在第一铸造辊(105℃)上冷却成膜，熔融PMMA树脂最先滴落在第一铸造辊上，熔融EVA树脂滴落在PMMA树脂上，然后连续通过串联的第二铸造辊(100℃)、第三铸造辊(90℃)继续冷却定型，制作出厚度为180μm的初始薄膜，最后初始薄膜经过高温纵向拉伸与高温横向拉伸，室温冷却、收卷，得到亚克力膜，亚克力膜的结构示意图参考图1。亚克力膜中：包括厚度为40μm的PMMA基膜1以及厚度为1.5μm的热熔胶底涂层2。所述纵向拉伸的温度为145℃，拉伸比为1.8，横向拉伸温度为135℃，拉伸比为2.5。
实施例三：
将PMMA树脂颗粒(日本触媒RV-570)和PO(聚烯烃)树脂颗粒干燥后分别熔融挤出，通过挤出机的转速与齿轮泵(gear pump)的转速来控制两种树脂的吐出量，所吐出的熔融树脂分别进入双涂布模头(SLOT DIE)，采用Open制膜方式，Open制膜的工作原理示意图参考图2，以先后顺序叠加滴落在第一铸造辊(115℃)上冷却成膜，熔融PMMA树脂最先滴落在第一铸造辊上，熔融PO树脂滴落在PMMA树脂上，然后连续通过串联的第二铸造辊(105℃)、第三铸造辊(95℃)继续冷却定型，制作出厚度为196μm的初始薄膜，最后初始薄膜经过高温纵向拉伸与高温横向拉伸，室温冷却、收卷，得到亚克力膜，亚克力膜的结构示意图参考图1。亚克力膜中：包括厚度为35μm的PMMA基膜1以及厚度为0.6μm的热熔胶底涂层2。所述纵向拉伸的温度为140℃，拉伸比为2.0，横向拉伸温度为138℃，拉伸比为2.8。
对比例：
将PMMA原料粒子(日本触媒RV-570)干燥后由挤出机熔融挤出，通过挤出机的转速与齿轮泵(gear pump)的转速来控制树脂的吐出量，所吐出的熔融树脂进入单涂布模头(SLOT DIE)，采用Open制膜方式，熔融PMMA树脂滴落在第一铸造辊(115℃)上冷却成膜，然后连续通过串联的第二铸造辊(105℃)、第三铸造辊(95℃)继续冷却定型，制作出厚度为200μm的初始薄膜，初始薄膜再经纵向拉伸、corona(电晕)、涂布水性primer涂料、干燥、横向拉伸，室温冷却、收卷，制得亚克力膜。亚克力膜中：包括厚度为40μm的PMMA基膜，以及厚度为0.3μm的水性primer涂料层。纵向拉伸倍率为1.8，横向拉伸倍率为2.8。
表1
R0、Rth是面内位相差和厚度方向位相差，使用位相差仪测量。由实施例1-实施例3与对比例的比较可知，由本申请的技术方案制备的亚克力膜具有较低的雾度、较高的透过率。对比例的工艺复杂，而且雾度偏高，透过率偏低。
综上所述，本申请提的亚克力膜包括设于PMMA基膜1的一侧表面的热熔胶底涂层2，该热熔胶底涂层2与水性primer涂料制备的膜层不同，不含二氧化硅颗粒，不会对膜面造成缺陷，所制得亚克力膜透过率高，雾度低。该亚克力膜的制备方法简单，且分别熔融挤出后共同挤压冷却成膜以及共同经过高温纵向拉伸与高温横向拉伸的步骤增强了热熔胶底涂层2与PMMA基膜1的附着力。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明技术原理的前提下，还可以做出若干改进和变形，这些改进和变形也应视为本发明的保护范围。
Claims (10)
1.一种亚克力膜，包括PMMA基膜，其特征在于，在所述PMMA基膜的一侧表面设有由热熔胶制备而成的热熔胶底涂层。
2.根据权利要求1所述的亚克力膜，其特征在于，所述PMMA基膜的厚度为30μm～80μm，所述热熔胶底涂层的厚度为0.5μm～2μm。
3.根据权利要求1所述的亚克力膜，其特征在于，所述PMMA基膜为光学级双轴拉伸膜，透过率≥92％，雾度≤2％。
4.根据权利要求1所述的亚克力膜，其特征在于，所述热熔胶的固含量为100％，其熔点为70℃～120℃。
5.根据权利要求4所述的亚克力膜，其特征在于，所述热熔胶的熔点为80℃～110℃。
6.根据权利要求1所述的亚克力膜，其特征在于，所述热熔胶为PO、EVA中的任意一种。
7.一种亚克力膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
将PMMA树脂颗粒及热熔胶树脂颗粒分别经过熔融挤出机进入双涂布模头，采用Open制膜方式，熔融的PMMA树脂和熔融的热熔胶树脂先后叠加滴落在第一个铸造辊上冷却成膜，熔融PMMA树脂先滴落在第一铸造辊上，熔融的热熔胶树脂滴落在PMMA树脂上，然后依次连续通过串联的第二铸造辊、第三铸造辊继续冷却定型得到初始薄膜，最后初始薄膜经过高温纵向拉伸与高温横向拉伸，得到亚克力膜。
8.根据权利要求7所述的亚克力膜的制备方法，其特征在于，所述初始薄膜中：由熔融PMMA树脂形成的PMMA基膜的厚度为120μm～400μm，由熔融的热熔胶树脂形成的热熔胶底涂层的厚度为2μm～10μm。
9.根据权利要求7所述的亚克力膜的制备方法，其特征在于，所述纵向拉伸的倍率为1.5～3.0，所述纵向拉伸的温度为130℃～160℃；所述横向拉伸的倍率为1.5～3.0，所述横向拉伸的温度为130℃～160℃。
10.根据权利要求7所述的亚克力膜的制备方法，其特征在于，所述第一铸造辊的温度为105℃～115℃，所述第二铸造辊的温度为95℃～105℃，所述第三铸造辊的温度为90℃～100℃。
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