CN117554538A - 一种头孢硫脒及其制剂中聚合物杂质的检测方法 - Google Patents

一种头孢硫脒及其制剂中聚合物杂质的检测方法 Download PDF

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CN117554538A CN202311525351.XA CN202311525351A CN117554538A CN 117554538 A CN117554538 A CN 117554538A CN 202311525351 A CN202311525351 A CN 202311525351A CN 117554538 A CN117554538 A CN 117554538A
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Abstract

本发明涉及药品检测分析技术领域，具体公开了一种头孢硫脒及其制剂中聚合物杂质的检测方法，包括：配制供试品溶液；配制对照品溶液：分别取头孢硫脒八种已知杂质对照品，配制对照品溶液；采用高效液相色谱‑质谱联用方法进行检测，色谱条件为：用十八烷基硅烷键合硅胶为填充剂，流动相A：0.01mol/L乙酸铵溶液，加冰乙酸调节pH至6.30，流动相B：乙腈，进行梯度洗脱；流速为1.0ml/min，检测波长为254nm，柱温为30～40℃，进样量10～20μl。本发明的头孢硫脒及其制剂中聚合物杂质的检测方法，能够同时可以分离并检出头孢硫脒所有潜在杂质，包括2个聚合物杂质，同时还对杂质分子量进行定性分析，推断得到聚合物杂质的结构，可以更好的控制聚合物单个杂质含量。

Description

一种头孢硫脒及其制剂中聚合物杂质的检测方法
技术领域
本发明涉及药品检测分析技术领域，尤其涉及一种头孢硫脒及其制剂中聚合物杂质的检测方法。
背景技术
头孢硫脒是第一代头孢菌素，对革兰阳性菌作用较强，头孢硫脒也会形成高分子聚合物，尤其对葡萄球菌和肠球菌具有很强的抗菌活性，临床应用较为广泛。由于其基本结构同已上市的许多半合成的β内酰胺类抗生素一样，会在临床使用中引发速发型过敏反应，对患者危害极大。通过控制聚合物杂质可控制过敏反应的发生。已有的注射用头孢硫脒国家药品标准未将头孢硫脒高分子聚合物列为检定项目，国内的药学研究也主要集中在头孢硫脒的合成与纯化。对头孢硫脒及其制剂的纯度、含量及相关杂质测定，以及其降解产物的检测等方面研究较少。从临床用药安全性考虑，我国已在此类药品注册和上市药品质量检验中要求检定高分子聚合物。除聚合物杂质外，头孢硫脒还存在一些小分子杂质。对药品中杂质的检测分析与控制是药品质量控制的重点。
目前有研究公开采用分子排阻色谱法(参照中国药典2020年版四部通则0514)对头孢硫脒杂质进行检测，能够检测出聚合物杂质，但是在实际应用过程中发现：由于头孢硫脒中杂质种类较多，有些杂质的分离度较差，一个杂质峰里有多个小分子杂质同时存在，该方法的专属性较差。另一种采用高效液相色谱法HPLC(参照中国药典2020年版四部通则0512)进行检测，公开号为CN 116539742 A中国专利申请公开了一种头孢硫脒及其制剂中的聚合物杂质的HPLC检测方法，使用高效液相色谱法(HPLC)对头孢硫脒及其制剂中的聚合物杂质进行分离测定，其中聚合物杂质为头孢硫脒与7-ACA、头孢硫脒β-内酰胺环水解物以及头孢硫脒β-内酰胺环水解脱羧物形成的二聚体、三聚体和多聚体，该方法以球状亲水硅胶为填充剂，并以缓冲盐-有机相溶液作为流动相，该方法具有分离度好、简单快速、专属性强、灵敏度高等优点，但该方法只对保留时间小于头孢硫脒峰的杂质峰的总量进行限定，并未考虑小分子杂质对检测的影响，不利于控制聚合物单个杂质含量。
发明内容
针对以上不足，本发明提供一种头孢硫脒及其制剂中聚合物杂质的检测方法，能够分离并检出头孢硫脒所有的潜在杂质，可以更好的控制聚合物单个杂质含量，具体技术方案如下：
一种头孢硫脒及其制剂中聚合物杂质的检测方法，包括以下步骤：
(1)配制供试品溶液：取头孢硫脒供试品，加水溶解并稀释，得到供试品溶液；
(2)配制对照品溶液：分别取头孢硫脒八种已知杂质对照品，加入稀释剂溶解并稀释，得到对照品母液；取对照品母液加水稀释，得到对照品溶液；
所述八种已知杂质对照品分别为头孢硫脒杂质A、B、C、D、氧化杂质、6R,7S-异构体、7-氨基头孢烷酸、1,3-二异丙基硫脲；
(3)测定：采用高效液相色谱-质谱联用方法进行检测，色谱条件为：用十八烷基硅烷键合硅胶为填充剂，流动相A：0.01mol/L乙酸铵溶液，加冰乙酸调节pH至6.30，流动相B：乙腈，流速为1.0ml/min，检测波长为254nm，柱温为30～40℃，进样量10～20μl；按体积百分比，梯度洗脱程序为：
0-15min，流动相A保持90％，流动相B由10％；
15-39min，流动相A由90％至84％，流动相B由10％至16％；
39-53min，流动相A由84％至60％，流动相B由16％至40％；
53-68min，流动相A由60％至20％，流动相B由40％至80％；
68-78min，流动相A保持20％，流动相B保持80％；
78-83min，流动相A由20％至90％，流动相B由80％至10％；
83-90min，流动相A保持90％，流动相B保持10％。
优选的，上述的头孢硫脒及其制剂中聚合物杂质的检测方法中，质谱条件：Q-TOF：Agilent 6530Q-TOF MS；模式：正离子，TargetedMSMS模式；离子源：DualAJS ESI；离子源参数：雾化气温度：320℃；干燥气流速8L/min；雾化气压力：35psi；鞘气温度：350℃；鞘气流速：11L/min；毛细管末端电压：120V；离子扫描范围：MS：100-1100m/z；MS2：100-1100m/z；轰击电压：10、20、30V；采样频率：MS：2Spectra/s；MS2：3Spectra/s。
优选的，上述的头孢硫脒及其制剂中聚合物杂质的检测方法中，所述色谱条件中，色谱柱型号为Kromasil 100-5C18，4.6mm×250mm，5μm；柱温为40℃，进样量20μl。
优选的，上述的头孢硫脒及其制剂中聚合物杂质的检测方法中，所述步骤(1)中，供试品溶液中头孢硫脒浓度为0.4～0.6mg/ml。
优选的，上述的头孢硫脒及其制剂中聚合物杂质的检测方法中，供试品溶液中头孢硫脒浓度为0.5mg/ml。
优选的，上述的头孢硫脒及其制剂中聚合物杂质的检测方法中，所述稀释剂为磷酸盐缓冲液与乙腈的混合溶液，磷酸盐缓冲液与乙腈体积比为90:10。
优选的，上述的头孢硫脒及其制剂中聚合物杂质的检测方法中，所述磷酸盐缓冲液的配制为：取无水磷酸氢二钠2.76g，枸橼酸1.29g，加水溶解并稀释成1000ml，得到磷酸盐缓冲液。
优选的，上述的头孢硫脒及其制剂中聚合物杂质的检测方法中，所述步骤(2)中，取头孢硫脒杂质对照品各2.5mg，至10ml容量瓶中，加稀释剂溶解并稀释至刻度，得各杂质母液；分别移取杂质C母液0.5ml、除杂质C外其他杂质母液1ml，至10ml容量瓶中，加水稀释至刻度，得到对照品溶液。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
1.本发明的头孢硫脒及其制剂中聚合物杂质的检测方法，可以同时分离并检出头孢硫脒所有潜在杂质，包括八种头孢硫脒已知杂质和两个聚合物杂质，同时还对杂质分子量进行定性分析，推断得到聚合物杂质的结构，可以更好的控制聚合物单个杂质含量。
2.本发明的头孢硫脒及其制剂中聚合物杂质的检测方法，使用一个检测系统，通过一次测定就可同时检测多种杂质的含量，操作简便，分离度好，准确性高，为严格控制头孢硫脒的质量提供可可靠的检验基础。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，以下将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍。显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例1中不同色谱条件下的供试品色谱图；
图2为本发明实施例2中已知杂质定位图；
图3为本发明对比例1中已知杂质定位图；
图4为本发明实施例3中自制制剂的色谱图；
图5为本发明实施例3中参比制剂的色谱图；
图6为本发明实施例3中头孢硫脒原料的色谱图；
图7为本发明实施例4中头孢硫脒质谱tic总离子流图谱；
图8为本发明实施例4中准分子离子峰473.1525全扫质谱图；
图9为本发明实施例4中准分子离子峰473.1525二级质谱图；
图10为本发明实施例4中头孢硫脒[M+H]+结构及其MS2裂解途径图；
图11为本发明实施例4中m/z727.1874全扫质谱图；
图12为本发明实施例4中m/z727.1874二级质谱图；
图13为本发明实施例4中m/z727.1874[M+H]+所推断结构及其MS2裂解途径图；
图14为本发明实施例4中m/z785.1937全扫质谱图；
图15为本发明实施例4中m/z785.1937二级质谱图；
图16为本发明实施例4中m/z785.1937[M+H]+所推断结构及其MS2裂解途径图。
具体实施方式
下面对本发明的具体实施方式进行详细描述，但应当理解本发明的保护范围并不受具体实施方式的限制。除非另有定义，下文中所使用的所有专业术语与本领域技术人员通常理解的含义相同。本文中所使用的专业术语只是为了描述具体实施例的目的，并不是旨在限制本发明的保护范围。除非另有特别说明，本发明中用到的各种原材料、试剂、仪器和设备等均可通过市场购买得到或者可通过现有方法制备得到。
八种已知杂质的信息：
供试品信息
实施例1
一种头孢硫脒及其制剂中聚合物杂质的检测方法，包括以下步骤：
(1)配制供试品溶液：精密称定头孢硫脒供试品10mg，置20ml量瓶中，用水溶解稀释至刻度，摇匀，作为供试品溶液；
(2)配制对照品溶液(杂质定位溶液)：分别取头孢硫脒杂质A、B、C、D、氧化杂质、6R,7S-异构体、7-氨基头孢烷酸、1,3-二异丙基硫脲对照品各2.5mg，加入稀释剂并稀释至刻度，摇匀即得对照品母液；分别移取杂质C母液0.5ml、除杂质C外其他杂质母液1ml，至10ml容量瓶中，加水稀释至刻度，摇匀，得到对照品溶液(杂质定位溶液)。稀释剂为稀释剂为磷酸盐缓冲液与乙腈(体积比为90:10)的混合溶液，磷酸盐缓冲液配制为：取无水磷酸氢二钠2.76g，枸橼酸1.29g，加水溶解并稀释成1000ml。
(3)测定：采用高效液相色谱-质谱联用方法进行检测，色谱条件为：用十八烷基硅烷键合硅胶为填充剂(Kromasil 100-5C18，4.6mm×250mm，5μm)，流动相A：0.01mol/L乙酸铵溶液，加冰乙酸调节pH至6.30，流动相B：乙腈，进行梯度洗脱，流速为1.0ml/min，检测波长为254nm，柱温为40℃，进样量20μl。
质谱条件为：Q-TOF：Agilent 6530Q-TOF MS；模式：正离子，TargetedMSMS模式；离子源：Dual AJS ESI。离子源参数：雾化气温度：320℃；干燥气流速8L/min；雾化气压力：35psi；鞘气温度：350℃；鞘气流速：11L/min；毛细管末端电压：120V；离子扫描范围：MS：100-1100m/z；MS2：100-1100m/z；轰击电压：10、20、30V；采样频率：MS：2Spectra/s；MS2：3Spectra/s。
色谱条件确定：
色谱条件1、2、3的梯度洗脱如表1、2、3所示，除梯度洗脱不同外，其他色谱条件相同具体见步骤(3)中所列。
表1色谱条件1中的梯度洗脱
时间(分钟) 流动相A(％) 流动相B(％)
0 90 10
15 90 10
35 70 30
40 70 30
55 20 80
65 20 80
70 90 10
75 90 10
表2色谱条件2中的梯度洗脱
时间(分钟) 流动相A(％) 流动相B(％)
0 90 10
15 90 10
39 84 16
53 60 40
68 20 80
78 20 80
83 90 10
90 90 10
表3色谱条件3中的梯度洗脱
时间(分钟) 流动相A(％) 流动相B(％)
0 90 10
15 90 10
39 84 16
53 60 40
68 20 80
98 20 80
103 90 10
110 90 10
分别采用以上3种色谱条件对供试品溶液(供试品为：头孢硫脒自制制剂，批号：SSJ200404)和空白溶剂(水)进行检测，检测得到的色谱图见图1。由图可知，供试品溶液在色谱条件1方法中，杂质D被包含在主峰中；在色谱条件2下，杂质D与主峰分离度大于1.5；后在色谱条件2的基础上延长高比例有机相洗脱时间，即色谱条件3，结果其供试品的杂质谱与色谱条件2的一致；表明高比例有机相延长时间后，未洗脱新的杂质，色谱条件2已有足够洗脱能力，故最终选择色谱条件2。
实施例2
采用实施例1确定的头孢硫脒及其制剂中聚合物杂质的检测方法对已知杂质进行定位，杂质定位溶液的制备同实施例1中步骤(2)配制对照品溶液(杂质定位溶液)。
制备系统适用性溶液：取头孢硫脒原料10mg，精密称定，分别加入杂质A、C、D母液2ml、1ml、2ml(同实施例1步骤(2)中的对照品母液)；加入稀释剂溶解并定量稀释制成每1ml中含杂质C12.5μg，杂质A、D各25μg的混合溶液，作为系统适用性溶液。稀释剂同实施例1步骤(2)中的稀释剂。
取杂质定位溶液、系统适用性溶液和空白溶剂(水)进行进样检测分析，结果见图2和表4。由图2和表4可知，该检测方法能够完全分离区分八种已知的杂质。
表4各已知杂质的检测结果
名称 RT(time) RRT 峰面积
7-氨基头孢烷酸 3.343 0.09 363.7096
杂质A 12.943 0.35 549.2741
杂质C 13.843 0.37 831.8167
氧化杂质 14.650 0.39 879.7314
杂质B 30.427 0.82 641.3864
杂质D 35.320 0.95 89.5677
1，3-二异丙基硫脲 43.177 1.16 943.6966
6R,7S-异构体 43.827 1.18 202.6100
对比例1
一种头孢硫脒及其制剂中聚合物杂质的检测方法，包括以下步骤：
(1)配制供试品溶液：取头孢硫脒供试品25mg，精密称定，置25ml量瓶中，用水溶解并稀释至刻度，摇匀，作为供试品溶液；
(2)配制对照品溶液(杂质定位溶液)：分别取头孢硫脒杂质A、B、C、D、氧化杂质、6R,7S-异构体、7-氨基头孢烷酸、1,3-二异丙基硫脲对照品各2.5mg，加入稀释剂并稀释至刻度，摇匀即得对照品母液；分别移取杂质C母液0.5ml、除杂质C外其他杂质母液1ml，至10ml容量瓶中，加水稀释至刻度，摇匀，得到对照品溶液(杂质定位溶液)。稀释剂为稀释剂为磷酸盐缓冲液与乙腈(体积比为90:10)的混合溶液，磷酸盐缓冲液配制为：取无水磷酸氢二钠2.76g，枸橼酸1.29g，加水溶解并稀释成1000ml；
(3)系统适用性溶液配制：取头孢硫脒原料10mg，置10ml量瓶中，用水溶解并稀释至刻度，摇匀，量取10ml溶液，加0.05mol/L氢氧化钠溶液1ml，室温放置5分钟，再加0.05mol/L盐酸溶液1ml，加水定容，摇匀，作为系统适用性溶液；
(4)测定：照分子排阻色谱法(中国药典2020年版四部通则0514)，用球状亲水硅胶(分子量适用范围为聚合物1000～10000)为填充剂(TSK-GEL G2000SWXL，7.8mm×30cm，5μm或效能相当的色谱柱)；以0.01mol/L醋酸铵溶液-乙腈(93:7)为流动相，流速为每分钟0.5ml，检测波长为254nm。分别取20μl杂质定位溶液、20μl系统适用性溶液注入液相色谱仪。
检测结果如图3和表5所示，由结果可知，杂质C与7-氨基头孢烷酸均在主峰前出峰，与主峰分离度良好；氧化杂质、杂质A、杂质B及6R，7S-头孢硫脒异构体4个杂质均在主峰位置出峰，分离度较差；1，3-二异丙基硫脲和杂质D在主峰后出峰，与主峰分离度良好；大部分杂质均在主峰位置出峰，分离度较差，且一个杂质峰里有多个小分子杂质同时存在，专属性差。
表5各杂质定位结果
名称 RT(time) RRT 峰面积
7-氨基头孢烷酸 19.100 0.86 2689.4442
杂质C 19.403 0.88 2437.7065
氧化杂质 21.900 0.99 1947.5081
杂质B 22.240 1.00 1424.1235
杂质A 22.270 1.00 1168.3262
6R,7S-异构体 22.480 1.01 2045.7114
1，3-二异丙基硫脲 25.343 1.14 1724.0969
杂质D 29.927 1.35 726.4505
实施例3
采用实施例1提供的检测方法对注射用头孢硫脒自制制剂(批号：SSJ200404)、参比制剂(批号：190901)和头孢硫脒原料(批号：LMA1911003)进行检测，采用面积归一法计算含量，检测结果见表6～8和图4～6。注射用头孢硫脒-加速4月自制制剂、参比制剂及头孢硫脒原料均检出已知杂质A、杂质D和1，3-二异丙基硫脲，还检测出一些未知杂质。
表6自制制剂检测结果
表7参比制剂检测结果
表8头孢硫脒原料药检测结果
实施例4
采用实施例1中的确定的头孢硫脒及其制剂中聚合物杂质的检测方法进行头孢硫脒供试品中各物质分子量进行测定，自制制剂(SSJ200401)、参比制剂(190901)和原料药(LMA1911003)供试品溶液，检测结果见表9。
表9分子量检测结果
(1)头孢硫脒MS2
头孢硫脒质谱TIC总离子流图谱如图7所示，从中获得准分子离子峰[M+H]+473.1525，准分子离子峰473.1525全扫质谱图以及裂解二级质谱图如图8和图9所示，Q-TOF数据分析结果见表10，其中m/z473.1525为头孢硫脒的[M+H]+离子峰，高分辨识别其分子式为C19H29N4O6S2 +，不饱和度为7。子离子m/z413.1312为头孢硫脒的[M+H]+离子侧链C-C键断裂，失去3号位取代基乙酸形成的离子碎片，子离子m/z341.1464为m/z413.1312的[M+H]+离子脱去羧基及四元环裂解后形成的离子碎片。
综上，头孢硫脒[M+H]+所推断结构及其[M+H]+离子MS2裂解途径如图10所示。所观察到的MS谱图中的各离子质量数与图10所示的各结构离子的理论精确质量数相符(偏差小于10ppm)。
表10头孢硫脒高分辨质谱数据分析结果
(2)m/z727.1874结果
m/z727.1874的质谱全扫描图谱及其[M+H]+离子的MS2裂解图谱(二级质谱图)见图11～12，高分辨质谱数据分析结果见表11，全扫描结果显示m/z727.1874为未知杂质的[M+H]+离子。数据分析见表11，高分辨率计算其分子式为C29H39N6O10S3 +，不饱和度为13。与头孢硫脒一样，未知杂质C-C键断裂，失去3号位取代基乙酸形成的m/z623.1775碎片离子，m/z595.1826为m/z623.1775四元环开环及脱去一分子甲基形成的离子碎片；子离子m/z201.1056与头孢硫脒子离子一样，表明未知杂质也含有相同的此部分结构。
综上所述，m/z727.1874未知杂质所推断结构及其[M+H]+离子MS2裂解途径如图13所示。所观察到的MS谱图中的各离子质量数与图13所示的各结构离子的理论精确质量数相符(偏差小于10ppm)。
表11m/z727.1874高分辨质谱数据分析结果
(3)m/z785.1937结果
m/z785.1937的质谱全扫描图谱及其[M+H]+离子的MS2裂解图谱(二级质谱图)见图14～15，高分辨质谱数据分析结果见表12，全扫描结果显示m/z785.1937为未知杂质的[M+H]+离子。数据分析见表12，高分辨率计算其分子式为C31H41N6O12S3 +，不饱和度为15。与头孢硫脒一样，未知杂质C-C键断裂，失去3号位取代基乙酸及四元环脱去一分子羧酸形成的m/z681.1830碎片离子，m/z653.1880为m/z681.1830脱去一分子CO形成的离子碎片；子离子m/z201.1056及m/z127.1230与头孢硫脒子离子一样，表明未知杂质也含有相同的此部分结构。
综上所述，m/z785.1937未知杂质所推断结构及其[M+H]+离子MS2裂解途径如图16所示。所观察到的MS谱图中的各离子质量数与图16所示的各结构离子的理论精确质量数相符(偏差小于10ppm)。
表12m/z785.1937高分辨质谱数据分析结果
采用高效液相色谱-质谱联用方法，对原料，自制制剂及参比制剂进行测定，可以推断原料，自制制剂及参比制剂存在的分子离子峰[M+H]+信息为：m/z727.1874，m/z785.1937为本品可能存在的聚合物杂质。
前述对本发明的具体示例性实施方案的描述是为了说明和例证的目的。这些描述并非想将本发明限定为所公开的精确形式，并且很显然，根据上述教导，可以进行很多改变和变化。对示例性实施例进行选择和描述的目的在于解释本发明的特定原理及其实际应用，从而使得本领域的技术人员能够实现并利用本发明的各种不同的示例性实施方案以及各种不同的选择和改变。本发明的范围意在由权利要求书及其等同形式所限定。

Claims (8)

1.一种头孢硫脒及其制剂中聚合物杂质的检测方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)配制供试品溶液：取头孢硫脒供试品，加水溶解并稀释，得到供试品溶液；
(2)配制对照品溶液：分别取头孢硫脒八种已知杂质对照品，加入稀释剂溶解并稀释，得到对照品母液；取对照品母液加水稀释，得到对照品溶液；
所述八种已知杂质对照品分别为头孢硫脒杂质A、B、C、D、氧化杂质、6R,7S-异构体、7-氨基头孢烷酸、1,3-二异丙基硫脲；
(3)测定：采用高效液相色谱-质谱联用方法进行检测，色谱条件为：用十八烷基硅烷键合硅胶为填充剂，流动相A：0.01mol/L乙酸铵溶液，加冰乙酸调节pH至6.30，流动相B：乙腈，流速为1.0ml/min，检测波长为254nm，柱温为30～40℃，进样量10～20μl；按体积百分比，梯度洗脱程序为：
0-15min，流动相A保持90％，流动相B由10％；
15-39min，流动相A由90％至84％，流动相B由10％至16％；
39-53min，流动相A由84％至60％，流动相B由16％至40％；
53-68min，流动相A由60％至20％，流动相B由40％至80％；
68-78min，流动相A保持20％，流动相B保持80％；
78-83min，流动相A由20％至90％，流动相B由80％至10％；
83-90min，流动相A保持90％，流动相B保持10％。
2.根据权利要求1所述的头孢硫脒及其制剂中聚合物杂质的检测方法，其特征在于，质谱条件：Q-TOF：Agilent 6530Q-TOF MS；模式：正离子，TargetedMSMS模式；离子源：DualAJSESI；离子源参数：雾化气温度：320℃；干燥气流速8L/min；雾化气压力：35psi；鞘气温度：350℃；鞘气流速：11L/min；毛细管末端电压：120V；离子扫描范围：MS：100-1100m/z；MS2：100-1100m/z；轰击电压：10、20、30V；采样频率：MS：2Spectra/s；MS2：3Spectra/s。。
3.根据权利要求1所述的头孢硫脒及其制剂中聚合物杂质的检测方法，其特征在于，所述色谱条件中，色谱柱型号为Kromasil 100-5C18，4.6mm×250mm，5μm；柱温为40℃，进样量20μl。
4.根据权利要求1所述的头孢硫脒及其制剂中聚合物杂质的检测方法，其特征在于，所述步骤(1)中，供试品溶液中头孢硫脒浓度为0.4～0.6mg/ml。
5.根据权利要求4所述的头孢硫脒及其制剂中聚合物杂质的检测方法，其特征在于，供试品溶液中头孢硫脒浓度为0.5mg/ml。
6.根据权利要求1所述的头孢硫脒及其制剂中聚合物杂质的检测方法，其特征在于，所述稀释剂为磷酸盐缓冲液与乙腈的混合溶液，磷酸盐缓冲液与乙腈体积比为90:10。
7.根据权利要求6所述的头孢硫脒及其制剂中聚合物杂质的检测方法，其特征在于，所述磷酸盐缓冲液的配制为：取无水磷酸氢二钠2.76g，枸橼酸1.29g，加水溶解并稀释成1000ml，得到磷酸盐缓冲液。
8.根据权利要求7所述的头孢硫脒及其制剂中聚合物杂质的检测方法，其特征在于，所述步骤(2)中，取头孢硫脒杂质对照品各2.5mg，至10ml容量瓶中，加稀释剂解并稀释至刻度，得各杂质母液；分别移取杂质C母液0.5ml、除杂质C外其他杂质母液1ml，至10ml容量瓶中，加水稀释至刻度，得到对照品溶液。
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