CN117546628A - 显示基板及其制备方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

一种显示基板及其制备方法、显示装置，该显示基板包括第一显示区(A1)和第二显示区(A2)，该第二显示区位于该第一显示区的至少一侧，该第一显示区为屏下传感区域；该显示基板至少包括：基底(2)，至少位于该第一显示区和该第二显示区；像素电路层，至少部分该像素电路层位于该第二显示区，且位于该基底一侧；第一反射界面(32)，至少位于该第一显示区和该第二显示区，且位于该基底远离该像素电路层的一侧；该第一反射界面将至少部分光线朝向该像素电路层反射；第一偏光结构(6)，至少部分该第一偏光结构位于该第二显示区，且至少部分该第一偏光结构位于该基底与该第一反射界面之间，该第一偏光结构被配置为阻挡该第一反射界面反射的光线入射该像素电路层。

Description

显示基板及其制备方法、显示装置 技术领域

本公开涉及但不限于显示技术领域，具体涉及一种显示基板及其制备方法、显示装置。

背景技术

随着显示技术的不断发展，为了实现屏占比最大化，先后出现了刘海屏、水滴屏、屏内挖孔等技术。这些技术是通过在显示区的局部设置屏下传感区域，例如：在屏下传感区域的下方放置摄像头来减小摄像头占据周边区的面积，进而提高屏占比；然而，上述显示设备在屏下传感区域附近会出现暗环等不良现象，影响显示效果。

发明内容

以下是对本文详细描述的主题的概述。本概述并非是为了限制权利要求的保护范围。

一方面，本公开提供了一种显示基板，包括第一显示区和第二显示区，所述第二显示区位于所述第一显示区的至少一侧，所述第一显示区为屏下传感区域；所述显示基板至少包括：

基底，至少位于所述第一显示区和所述第二显示区；

像素电路层，至少部分所述像素电路层位于所述第二显示区，且位于所述基底一侧；

第一反射界面，至少位于所述第一显示区和所述第二显示区，且位于所述基底远离所述像素电路层的一侧；所述第一反射界面将至少部分光线朝向所述像素电路层反射；

第一偏光结构，至少部分所述第一偏光结构位于所述第二显示区，且至 少部分所述第一偏光结构位于所述基底与所述第一反射界面之间，所述第一偏光结构被配置为阻挡所述第一反射界面反射的光线入射所述像素电路层。

在示例性实施方式中，还包括第三显示区，所述第三显示区位于所述第一显示区和所述第二显示区的至少一侧，至少部分所述像素电路层位于所述第三显示区，至少部分所述第一偏光结构位于所述第三显示区。

在示例性实施方式中，还包括：

多个第一发光元件，位于所述第一显示区，且位于所述基底远离所述第一反射界面一侧；

第二反射界面，至少位于所述第一显示区和所述第二显示区，且至少位于所述多个第一发光元件远离所述基底一侧，所述第二反射界面将至少一个第一发光元件发出的光线形成反射光线；

第二偏光结构，至少位于所述第一显示区和所述第二显示区，且至少位于所述多个第一发光元件与所述第二反射界面之间，所述第二偏光结构被配置为透射所述反射光线，使透射的所述反射光线形成第一圆偏振光线，并将所述第一圆偏振光线朝向所述第一反射界面出射；

所述第一反射界面被配置为将入射的所述第一圆偏振光线形成第二圆偏振光线，并将至少部分所述第二圆偏振光线反射至所述第一偏光结构；所述所述第一偏光结构被配置为阻挡所述第二圆偏振光线入射所述像素电路层。

在示例性实施方式中，所述第二偏光结构包括层叠设置的第二线偏光膜层和第二位相差膜层，所述第二位相差膜层位于所述第二线偏光膜层靠近所述基底一侧，所述第二线偏光膜层被配置为透射所述反射光线，并将透射的所述反射光线形成第一线偏振光线，所述第二位相差膜层被配置为透射所述第一线偏振光线，并将透射的所述第一线偏振光线形成所述第一圆偏振光线。

在示例性实施方式中，所述第一偏光结构包括层叠设置的第一线偏光膜层和第一位相差膜层，所述第一位相差膜层位于所述第一线偏光膜层靠近所述基底一侧，所述第一位相差膜层被配置为透射所述第二圆偏振光线，并将透射的所述第二圆偏振光线形成第二线偏振光线，所述第一线偏光膜层被配置为阻挡入射的所述第二线偏振光线透射。

在示例性实施方式中，所述第二线偏振光线的偏振方向与所述第一线偏光膜层的偏振方向垂直。

在示例性实施方式中，所述第一线偏光膜层在所述基底的正投影与所述第一显示区不交叠，至少部分所述第一位相差膜层在所述基底的正投影与所述第一显示区交叠。

在示例性实施方式中，所述第一偏光结构在所述基底的正投影与所述第一显示区不交叠。

在示例性实施方式中，还包括：背板，所述背板至少位于所述第一显示区和所述第二显示区，且所述背板至少位于所述第一偏光结构远离所述基底一侧，所述背板远离所述基底一侧表面与所述显示基板外侧的交界形成所述第一反射界面。

在示例性实施方式中，还包括：复合膜，所述复合膜至少位于所述第二显示区，所述复合膜至少位于所述背板远离所述基底一侧，所述复合膜在所述基底的正投影与所述第一显示区不交叠。

在示例性实施方式中，还包括：盖板，所述盖板至少位于所述第一显示区和所述第二显示区，所述盖板位于所述第二偏光结构远离所述基底一侧，所述盖板远离所述基底一侧表面与所述显示基板外侧的交界形成所述第二反射界面。

在示例性实施方式中，还包括：封装层，所述封装层至少位于所述第一显示区和所述第二显示区，所述封装层位于所述像素电路层远离所述基底一侧。

在示例性实施方式中，还包括：多个第二发光元件，所述像素电路层包括多个第一像素电路和多个第二像素电路，所述多个第二发光元件、所述多个第一像素电路和所述多个第二像素电路均位于所述第二显示区，所述多个第二发光元件位于所述像素电路层远离所述基底一侧，所述第一像素电路与所述第一发光元件电连接，所述第二像素电路与所述第二发光元件电连接。

在示例性实施方式中，所述第一发光元件之间的间距，大于所述第二发光元件之间的间距；和/或，所述第一发光元件的面积小于所述第二发光元的 面积。

在示例性实施方式中，所述第二显示区在远离所述第一显示区的方向上排布有3或4个第二发光元件。

在示例性实施方式中，所述第一偏光结构在所述基底的正投影与所述3或4个第二发光元件在所述基底的正投影交叠。

在示例性实施方式中，还包括吸光层，所述吸光层至少位于所述第一显示区和所述第二显示区，且所述吸光层层叠设置在所述第一偏光结构与所述第一反射界面之间。

在示例性实施方式中，还包括遮光层，所述遮光层位于所述第二显示区，所述遮光层在基底的正投影与所述第一显示区不交叠，所述遮光层层叠设置在所述像素电路层靠近所述基底一侧。

另一方面，本公开还提供了一种显示装置，包括前面任一所述的显示基板以及感光传感器，所述感光传感器位于远离所述显示基板的出光侧的一侧，所述感光传感器在所述显示基板上的正投影与所述显示基板中第一显示区存在交叠区域。

另一方面，本公开还提供了一种显示基板的制备方法，所述显示基板包括第一显示区和第二显示区，所述第二显示区位于所述第一显示区的至少一侧，所述第一显示区为屏下传感区域；所述显示基板的制备方法包括：

至少在所述第一显示区和所述第二显示区中形成基底；

至少在所述第二显示区的基底上形成像素电路层；

至少在所述基底远离所述像素电路层的一侧形成第一反射界面，且所述第一反射界面至少位于所述第一显示区和所述第二显示区；所述第一反射界面将至少部分光线朝向所述像素电路层反射；

至少在所述基底与所述第一反射界面之间形成第一偏光结构，且至少部分所述第一偏光结构位于所述第二显示区，所述第一偏光结构被配置为阻挡所述第一反射界面反射的光线入射所述像素电路层。

在阅读并理解了附图和详细描述后，可以明白其它方面。

附图说明

附图用来提供对本申请技术方案的理解，并且构成说明书的一部分，与本申请的实施例一起用于解释本申请的技术方案，并不构成对本申请技术方案的限制。

图1A为本公开实施例的显示基板的一种示意图；

图1B为本公开实施例的显示基板的另一示意图；

图2A为本公开实施例的显示基板的一种剖视图；

图2B为本公开实施例的显示基板的另一种剖视图；

图2C为本公开实施例的显示基板的另一种剖视图；

图2D为本公开实施例的显示基板的另一种剖视图；

图2E为本公开实施例的显示基板的另一种剖视图；

图3为本公开实施例的显示装置的示意图；

图4为相关技术的显示基板的一种示意图；

图5A为本公开显示基板中第一显示区的发光元件的俯视图一；

图5B为本公开显示基板中第二显示区的发光元件的俯视图；

图5C为本公开显示基板中第三显示区的发光元件的俯视图；

图5D为本公开显示基板中第一显示区的发光元件的俯视图二；

图6为本公开实施例显示基板中光路的示意图。

具体实施方式

为使本公开的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下文中将结合附图对本公开的实施例进行详细说明。注意，实施方式可以以多个不同形式来实施。所属技术领域的普通技术人员可以很容易地理解一个事实，就是方式和内容可以在不脱离本公开的宗旨及其范围的条件下被变换为各种各样的形式。 因此，本公开不应该被解释为仅限定在下面的实施方式所记载的内容中。在不冲突的情况下，本公开中的实施例及实施例中的特征可以相互任意组合。

在附图中，有时为了明确起见，夸大表示了各构成要素的大小、层的厚度或区域。因此，本公开的一个方式并不一定限定于该尺寸，附图中各部件的形状和大小不反映真实比例。此外，附图示意性地示出了理想的例子，本公开的一个方式不局限于附图所示的形状或数值等。

本说明书中的“第一”、“第二”、“第三”等序数词是为了避免构成要素的混同而设置，而不是为了在数量方面上进行限定的。

在本说明书中，为了方便起见，使用“中部”、“上”、“下”、“前”、“后”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示方位或位置关系的词句以参照附图说明构成要素的位置关系，仅是为了便于描述本说明书和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本公开的限制。构成要素的位置关系根据描述各构成要素的方向适当地改变。因此，不局限于在说明书中说明的词句，根据情况可以适当地更换。

在本说明书中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解。例如，可以是固定连接，或可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，或电连接；可以是直接相连，或通过中间件间接相连，或两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本公开中的具体含义。

在本说明书中，晶体管是指至少包括栅电极、漏电极以及源电极这三个端子的元件。晶体管在漏电极(漏电极端子、漏区域或漏电极)与源电极(源电极端子、源区域或源电极)之间具有沟道区域，并且电流能够流过漏电极、沟道区域以及源电极。注意，在本说明书中，沟道区域是指电流主要流过的区域。

在本说明书中，第一极可以为漏电极、第二极可以为源电极，或者第一极可以为源电极、第二极可以为漏电极。在使用极性相反的晶体管的情况或电路工作中的电流方向变化的情况等下，“源电极”及“漏电极”的功能有时互 相调换。因此，在本说明书中，“源电极”和“漏电极”可以互相调换。

在本说明书中，“电连接”包括构成要素通过具有某种电作用的元件连接在一起的情况。“具有某种电作用的元件”只要可以进行连接的构成要素间的电信号的授受，就对其没有特别的限制。“具有某种电作用的元件”的例子不仅包括电极和布线，而且还包括晶体管等开关元件、电阻器、电感器、电容器、其它具有各种功能的元件等。

在本说明书中，“平行”是指两条直线形成的角度为-10°以上且10°以下的状态，因此，也包括该角度为-5°以上且5°以下的状态。另外，“垂直”是指两条直线形成的角度为80°以上且100°以下的状态，因此，也包括85°以上且95°以下的角度的状态。

在本说明书中，“膜”和“层”可以相互调换。例如，有时可以将“导电层”换成为“导电膜”。与此同样，有时可以将“绝缘膜”换成为“绝缘层”。

本公开中的“约”，是指不严格限定界限，允许工艺和测量误差范围内的数值。

图4为相关技术的显示基板的一种示意图。如图4所示，相关技术的显示基板包括屏下传感区域B1以及位于屏下传感区域B1周侧的显示区域B2，例如：屏下传感为屏下传感摄像头(FDC，Full Display with Camera)区域B1；屏下传感区域B1包括基底以及设置在基底上的多个第一发光元件b1，显示区域B2包括基底以及设置在基底上的多个第二发光元件b2以及像素电路层b3，多个第二发光元件b2位于像素电路层b3远离基底一侧。

经过本申请发明人的研究发现，屏下传感区域B1的第一发光元件b1发出的光线，会在显示基板的内部膜层发生反射，照射到显示区域B2的像素电路层b3，引起像素电路层b3的特性正偏，使第二发光元件b2发光，辐射面积约3～4个第二发光元件b2，产生暗环等不良现象，影响显示效果。其中，暗环沿着远离屏下传感区域B1逐渐减轻。

本申请发明人将屏下传感区域B1的背光侧涂黑，使显示区域B2的第二显示单元b2接收到的光强减小，暗环响应的减小，减小比例约38％。

本公开实施例提供了一种显示基板，包括第一显示区和第二显示区，所 述第二显示区位于所述第一显示区的至少一侧，所述第一显示区为屏下传感区域；所述显示基板至少包括：

基底，至少位于所述第一显示区和所述第二显示区；

像素电路层，至少部分所述像素电路层位于所述第二显示区，且位于所述基底一侧；

第一反射界面，至少位于所述第一显示区和所述第二显示区，且位于所述基底远离所述像素电路层的一侧；所述第一反射界面将至少部分光线朝向所述像素电路层反射；

第一偏光结构，至少部分所述第一偏光结构位于所述第二显示区，且至少部分所述第一偏光结构位于所述基底与所述第一反射界面之间，所述第一偏光结构被配置为阻挡所述第一反射界面反射的光线入射所述像素电路层。

下面通过一些示例对本实施例的方案进行举例说明。

图1A为本公开实施例的显示基板的一种示意图。图1B为本公开实施例的显示基板的另一示意图。在示例性实施方式中，如图1A和图1B所示，显示基板包括：显示区域AA和位于显示区域AA周边的边框区域BB。显示区域AA可以包括：第一显示区A1、第二显示区A2和第三显示区A3。第二显示区A2可以位于第一显示区A1的至少一侧。第三显示区A3位于第一显示区A1和第二显示区A2的至少一侧。显示区域AA内除第一显示区A1和第二显示区A2以外的区域为第三显示区A3。其中，第一显示区A1还可以称为屏下传感区域，例如：屏下摄像头(FDC，Full Display with Camera)区域，第二显示区A2还可以称为缓冲区，第三显示区A3还可以称为正常显示区。然而，本实施例对此并不限定。

在示例性实施方式中，如图1A和图1B所示，第一显示区A1和第二显示区A2可以位于显示基板的顶部正中间位置。然而，本实施例对此并不限定。例如，第一显示区A1和第二显示区A2可以位于显示基板的左上角或右上角位置等其他位置。

在示例性实施方式中，如图1A和图1B所示，第二显示区A2可以在第一方向X上位于第一显示区A1的相对两侧。然而，本实施例对此并不限定。 例如，第二显示区可以在第一方向上位于第一显示区一侧，或者，可以在第二方向上位于第一显示区的至少一侧。

在示例性实施方式中，如图1A和图1B所示，显示区域AA可以为矩形，例如，圆角矩形。如图1A所示，第一显示区A1可以为圆形或椭圆形。如图1B所示，第一显示区A1可以为矩形。然而，本实施例对此并不限定。例如，第一显示区可以为其他四边形或五边形等形状。

在示例性实施方式中，第一显示区A1还可以称为屏下传感区域，屏下传感区域可以为透光显示区域。感光传感器(如，摄像头)等硬件在显示基板上的正投影可以位于显示基板的第一显示区A1内。本示例的显示基板无需打孔，在确保显示基板实用性的前提下，可以使真全面屏成为可能。在一些示例中，如图1A所示，第一显示区A1可以为圆形，感光传感器在显示基板上的正投影的尺寸可以小于或等于第一显示区A1的尺寸。在另一些示例中，如图1B所示，第一显示区A1可以为矩形，感光传感器在显示基板上的正投影的尺寸可以小于或等于第一显示区A1的内切圆的尺寸。然而，本实施例对此并不限定。

在示例性实施方式中，显示基板可以包括：设置在基底上的多个子像素，至少一个子像素可以包括像素电路和发光元件。像素电路配置为驱动发光元件。例如，像素电路配置为提供驱动电流以驱动发光元件发光。例如，发光元件可以为有机发光二极管(OLED)，发光元件在其对应的像素电路的驱动下发出红光、绿光、蓝光、或者白光等。发光元件发光的颜色可根据需要而定。

在示例性实施方式中，为了提高第一显示区A1的光透过率，可以在第一显示区A1仅设置发光元件，而将驱动第一显示区A1的发光元件的像素电路设置在第二显示区A2。即，通过发光元件和像素电路分离设置的方式来提高第一显示区A1的光透过率。在本示例中，在第一显示区A1，不设置像素电路。

当然，也可以在第一显示区A1，设置像素电路。例如：在第一显示区A1设置岛状像素电路，在第一显示区A1单元面积(例如：1000平方微米)的像素电路数量小于在第三显示区A3的像素电路数量。

可选的，第一显示区A1的第一发光元件21的面积小于第二发光元件22和/或第三发光元件23的面积。例如：第一显示区A1的至少一种颜色的第一发光元件21(例如：红色R)的面积小于对应颜色的第二发光元件22(例如：红色R)和/或第三发光元件23(例如：红色R)的面积。可选的，第一显示区A1的第一发光元件21之间的间距，大于第二显示区A2的第二发光元件22之间的间距；和/或，第一显示区A1的第一发光元件21之间的间距大于第三显示区A3的第三发光元件23之间的间距。

可选的，第一显示区A1的第一发光元件21的形状与第二发光元件22和/或第三发光元件23的形状不同。例如：第一显示区A1的第一发光元件21的形状为圆形，第二发光元件22和/或第三发光元件23为矩形。

图2C为本公开实施例的显示基板的另一种剖视图。在示例性实施方式中，如图2C所示，本公开实施例的显示基板包括基底2以及设置在基底2上的多个第一发光元件21、多个第二发光元件22以及多个第三发光元件23，多个第一发光元件21位于第一显示区A1，多个第二发光元件22位于第二显示区A2，多个第三发光元件23位于第三显示区A3。在第一发光元件21，第二发光元件22，第三发光元件23对应位置的上方或下方可以设置相应颜色的量子点结构20。示例性的，第一发光元件21，第二发光元件22，第三发光元件23中的红色发光元件(R)上方设置红色量子点元件。例如：量子点结构20包括多个第一量子点元件211，多个第二量子点元件221，多个第三量子点元件231。多个第一量子点元件211与多个第一发光元件21一一对应设置，第一量子点元件211位于第一发光元件21远离基底一侧，且至少部分第一量子点元件211在基底2的正投影与第一发光元件21在基底2的正投影交叠。多个第二量子点元件221与多个第二发光元件22一一对应设置，第二量子点元件221位于第二发光元件22远离基底一侧，且至少部分第二量子点元件221在基底2的正投影与第二发光元件22在基底2的正投影交叠。多个第三量子点元件231与多个第三发光元件23一一对应设置，第三量子点元件231位于第三发光元件23远离基底一侧，且至少部分第三量子点元件231在基底2的正投影与第三发光元件23在基底2的正投影交叠。

可选的，第一显示区A1中的单元面积(例如：1000平方微米)的量子 点元件的数量小于第二显示区A2中的单元面积(例如：1000平方微米)的量子点元件的数量；和/或，第一显示区A1中的单元面积(例如：1000平方微米)的量子点元件的数量小于第三显示区A3中的单元面积(例如：1000平方微米)的量子点元件的数量。

可选的，第一显示区A1的第一量子点元件211的面积小于第二显示区A2第二量子点元件221和/或第三显示区A3第三量子点元件231的面积。可选的，第一显示区A1的第一量子点元件211之间的间距，大于第二显示区A2的第二量子点元件221之间的间距；和/或，第一显示区A1的第一量子点元件之间的间距大于第三显示区的第三量子点元件231之间的间距。

可选的，第一显示区A1的第一量子点元件211的形状与第二量子点元件221和/或第三量子点元件231的形状不同。例如：第一显示区A1的第一量子点元件211的形状为圆形，第二量子点元件221和/或第三量子点元件231为矩形。

在示例性实施方式中，第一量子点元件211、第二量子点元件221和第三量子点元件231的材料可以包括II-VI族化合物、III-V族化合物、IV-VI族化合物、IV族化合物或其组合。

在示例性实施方式中，如图2C所示，本公开实施例的显示基板还包括绝缘层24，绝缘层24位于量子点结构20，与多个第一发光元件21、多个第二发光元件22以及多个第三发光元件23之间，用于将量子点结构20分别与多个第一发光元件21、多个第二发光元件22以及多个第三发光元件23隔离。

在示例性实施方式中，如图2C所示，本公开实施例的显示基板中量子点结构20还包括黑矩阵25，黑矩阵25位于第一显示区A1中第一量子点元件211之间、第二显示区A2中第二量子点元件221之间以及第三显示区A3中第三量子点元件231之间。

图2A为本公开实施例的显示基板的一种剖视图。在示例性实施方式中，如图2A所示，在垂直于显示基板的平面内，显示基板可以包括：多个第一发光元件21、多个第二发光元件22、多个第三发光元件23、多个第一像素电路13、多个第二像素电路11以及多个第三像素电路12。多个第一发光元件21位于第一显示区A1，多个第二发光元件22、多个第一像素电路13和 多个第二像素电路11位于第二显示区A2，多个第三发光元件23和多个第三像素电路12位于第三显示区A3。第一显示区A1还可以称为屏下传感区域，屏下传感区域可以为透光显示区域。第二显示区A2还可以称为缓冲区。第三显示区A3还可以称为正常显示区。第一像素电路13的结构、第二像素电路11的结构和第三像素电路12的结构可以相同。第一像素电路13的尺寸、第二像素电路11的尺寸和第三像素电路12的尺寸可以相同。

在示例性实施方式中，如图2A所示，至少一个第一像素电路13与至少一个第一发光元件21电连接。例如，一个第一像素电路13通过导电线与两个第一发光元件21电连接。第一像素电路13与电连接的第一发光元件21在基底上的正投影可以没有交叠。至少一个第二像素电路11与至少一个第二发光元件22电连接。至少一个第二像素电路11在基底的正投影与至少一个第二发光元件22在基底的正投影至少部分交叠。例如，一个第二像素电路11与两个第二发光元件22电连接。第二像素电路11与电连接的第二发光元件22在基底上的正投影可以存在交叠。至少一个第三像素电路12与至少一个第三发光元件23电连接。至少一个第三像素电路12在基底的正投影与至少一个第三发光元件23在基底的正投影至少部分交叠。例如，多个第三像素电路12与多个第三发光元件23一一对应电连接。第三像素电路12与电连接的第三发光元件23在基底上的正投影存在交叠。

在一些实施例中，至少一个第一像素电路可以与至少一个第一发光元件21和至少一个第二发光元件22电连接。例如，一个第一像素电路13通过导电线分别与一个第一发光元件21和一个第二发光元件22电连接。至少一个第二像素电路可以与至少一个第一发光元件21和至少一个第二发光元件22电连接。例如，一个第二像素电路13通过导电线分别与一个第一发光元件21和一个第二发光元件22电连接。

在示例性实施方式中，第二显示区A2的第一像素电路可以通过导电线与第一发光元件21电连接。导电线可以从第二显示区A2延伸到第一显示区A1。导电线的一端可以在第二显示区A2与第一像素电路电连接，另一端可以在第一显示区A1与第一发光元件21电连接，从而实现第一像素电路与第一发光元件21之间的电连接。在一些示例中，导电线可以采用透明导电材料 制作。例如，导电线可以采用导电氧化物材料制作。例如，导电氧化物材料可以包括氧化铟锡(ITO)。然而，本实施例对此并不限定。

在示例性实施方式中，如图2A所示，第一显示区A1没有设置像素电路，第二显示区A2设置有多个第一像素电路和多个第二像素电路11。第一像素电路可以给第一显示区A1的第一发光元件21提供驱动信号，以驱动第一发光元件21发光。第二像素电路11可以给第二显示区A2的第二发光元件22提供驱动信号，以驱动第二发光元件22发光。第三显示区A3设置的第三像素电路12可以给第三显示区A3的第三发光元件23提供驱动信号，以驱动第三发光元件23发光。

在示例性实施方式中，第一显示区A1为透光显示区域，第二显示区A2和第三显示区A3为非透光显示区。即，第一显示区A1可以透光，第二显示区A2和第三显示区A3透光率小于第一显示区A1的透光率；当然，还可以是第三显示区A3的透光率小于第二显示区A2透光率，且小于第一显示区A1的透光率。如此一来，无需在显示基板上进行挖孔处理，可以将感光传感器等所需硬件结构直接设置于第一显示区的下方，为真全面屏的实现奠定坚实的基础。并且，由于第一显示区A1内仅包括发光元件，而不包括像素电路，还可以确保第一显示区A1的光透过率较好。

图5A为本公开显示基板中第一显示区的发光元件的俯视图一；图5B为本公开显示基板中第二显示区的发光元件的俯视图；图5C为本公开显示基板中第三显示区的发光元件的俯视图。在示例性实施方式中，显示区域AA排布有多个像素单元。至少一个像素单元可以包括：一个绿色(G)发光元件、一个红色(R)发光元件和一个蓝色(B)发光元件。一个绿色发光元件、一个红色发光元件和一个蓝色发光元件在第一方向X上依次排布。本示例的发光元件采用RGB的排布方式。例如，第一显示区A1排布有多个第一像素单元，第一像素单元可以包括：一个绿色(G)第一发光元件21a、一个红色(R)第一发光元件21b和一个蓝色(B)第一发光元件21c。一个绿色第一发光元件21a、一个红色第一发光元件21b和一个蓝色第一发光元件21c在第一方向X上依次排布，如图5A所示。第二显示区A2排布有多个第二像素单元，第二像素单元可以包括：一个绿色(G)第二发光元件22a、一个红 色(R)第二发光元件22b和一个蓝色(B)第二发光元件22c。一个绿色第二发光元件22a、一个红色第二发光元件22b和一个蓝色第二发光元件22c在第一方向X上依次排布，如图5B所示。第三显示区A3排布有多个第三像素单元，第三像素单元可以包括：一个绿色(G)第三发光元件23a、一个红色(R)第三发光元件23b和一个蓝色(B)第三发光元件23c。一个绿色第三发光元件23a、一个红色第三发光元件23b和一个蓝色第三发光元件23c在第一方向X上依次排布，如图5C所示。

图5D为本公开显示基板中第一显示区的发光元件的俯视图二。然而，本实施例对此并不限定。在一些示例中，一个像素单元可以包括其他颜色以及其他数量的发光元件。例如，第一显示区A1排布有多个第一像素单元，第一像素单元可以包括：一个绿色(G)第一发光元件21a、一个红色(R)第一发光元件21b、一个蓝色(B)第一发光元件21c以及一个白色第一发光元件21d，一个绿色(G)第一发光元件21a、一个红色(R)第一发光元件21b、一个蓝色(B)第一发光元件21c以及一个白色第一发光元件21d可以采用水平并列、竖直并列或品字方式排列。示例的，一个绿色(G)第一发光元件21a、一个红色(R)第一发光元件21b、一个蓝色(B)第一发光元件21c以及一个白色第一发光元件21d采用水平并列，如图5D所示。然而，本实施例对此并限定。

在示例性实施方式中，如图2A所示，在垂直于显示基板的平面内，显示基板可以包括：

基底2，位于第一显示区A1、第二显示区A2和第三显示区A3；

像素电路层，包括多个第一像素电路13、多个第二像素电路11和多个第三像素电路12，多个第一像素电路13、多个第二像素电路11位于第二显示区A2，且位于基底2的一侧；多个第三像素电路12位于第三显示区A3，且位于基底2的一侧；

多个第一发光元件21、多个第二发光元件22和多个第三发光元件23，多个第一发光元件21位于所述第一显示区，且位于基底2的一侧；多个第二发光元件22位于第二显示区A2，且位于像素电路层远离基底2一侧；多个 第三发光元件23位于第三显示区A3，且位于像素电路层远离基底2一侧；

封装层3，封装层3位于第一显示区A1、第二显示区A2和第三显示区A3，且位于多个第一发光元件21、多个第二发光元件22和多个第三发光元件23远离基底2一侧，并将多个第一发光元件21、多个第二发光元件22和多个第三发光元件23覆盖；

第二偏光结构4，第二偏光结构4位于第一显示区A1、第二显示区A2和第三显示区A3，且位于封装层3远离基底2一侧；

盖板5，盖板5位于第一显示区A1、第二显示区A2和第三显示区A3，且位于第二偏光结构4远离基底2一侧；

第一偏光结构6，第一偏光结构6位于第二显示区A2和第三显示区A3，且位于基底2远离像素电路层一侧；

背板1，背板1位于第一显示区A1、第二显示区A2和第三显示区A3，且位于第一偏光结构6远离基底2一侧；

第一反射界面32，第一反射界面32位于第一显示区A1、第二显示区A2和第三显示区A3，且至少位于基底2远离像素电路层一侧，第一反射界面将至少部分光线朝向所述像素电路层反射；第一偏光结构6被配置为阻挡第一反射界面反射的光线入射像素电路层。例如：第一偏光结构6被配置为阻挡第一显示区A1进入第一反射界面反射的光线入射像素电路层。

在示例性实施方式中，如图2A所示，本公开实施例显示基板的背板1远离基底2一侧表面与显示基板外侧的交界形成第一反射界面32。在一些实施例中，本公开实施例显示基板中位于第二偏光结构远离基底一侧其他膜层的交界也可以形成第二反射界面，本公开实施例显示基板中位于第一偏光结构远离基底一侧其他膜层的交界也可以形成第一反射界面。然而，本实施例对此并不限定。

在示例性实施方式中，如图2A所示，在垂直于显示基板的平面内，第一显示区A1可以包括：背板1、设置在背板1一侧的基底2、设置在基底2远离背板1一侧的多个第一发光元件21、设置在多个第一发光元件21远离背板1一侧的封装层3、设置在封装层3远离背板1一侧的第二偏光结构4 以及设置在第二偏光结构4远离背板1一侧的盖板5。其中，第一显示区A1不设置像素电路层以及第一偏光结构，第一偏光结构在基底2的正投影与第一显示区A1不交叠。

如图2A所示，在垂直于显示基板的平面内，第二显示区A2可以包括：背板1、设置在背板1上的第一偏光结构6、设置在第一偏光结构6远离背板1一侧的基底2、设置在基底2远离背板1一侧的像素电路层、设置在像素电路层远离背板1一侧的多个第二发光元件22、设置在多个第二发光元件22远离背板1一侧的封装层3、设置在封装层3远离背板1一侧的第二偏光结构4以及设置在第二偏光结构4远离背板1一侧的盖板5。其中，像素电路层包括多个第一像素电路以及多个第二像素电路11。第二显示区A2设置有像素电路层以及第一偏光结构6。

如图2A所示，在垂直于显示基板的平面内，第三显示区A3可以包括：背板1、设置在背板1上的第一偏光结构6、设置在第一偏光结构6远离背板1一侧的基底2、设置在基底2远离背板1一侧的像素电路层、设置在像素电路层远离背板1一侧的走线层、设置在走线层远离背板1一侧的多个第三发光元件23、设置在多个第三发光元件23远离背板1一侧的封装层3、设置在封装层3远离背板1一侧的第二偏光结构4以及设置在第二偏光结构4远离背板1一侧的盖板5。其中，像素电路层包括多个第三像素电路12。走线层包括多个信号走线7。第三显示区A3设置有像素电路层、走线层以及第一偏光结构6。其中，信号走线7可以包括扫描线、数据信号线、接地线、第一驱动线和第二驱动线中的至少一种。

在示例性实施方式中，如图2A所示，在垂直于显示基板的平面内，第一显示区A1不设置像素电路层、第一偏光结构以及走线层，可以确保第一显示区A1的光透过率较好。第二显示区A2设置有像素电路层以及第一偏光结构，不设置有走线层。第三显示区A3设置有像素电路层、走线层以及第一偏光结构。

在示例性实施方式中，如图1A和1B所示，在平行于显示基板的平面内，第二显示区A2在远离第一显示区A1的方向上排布有3或4个第二发光元件22。例如，第二显示区A2在第一方向X上可以包括第一区域a和第二区域 b，第一区域a和第二区域b位于第一显示区A1在第一方向X上的两侧：第一区域a和第二区域b分别包括一个绿色(G)第二发光元件、一个红色(R)第二发光元件和一个蓝色(B)第二发光元件，一个绿色(G)第二发光元件、一个红色(R)第二发光元件和一个蓝色(B)第二发光元件沿着第一方向X排布。

经过发明人的研究发现，暗环的辐射面积约为3～4个发光元件，暗环沿着远离第一显示区A1方向逐渐减轻。本公开实施例显示基板通过在第二显示区A2中沿着远离第一显示区A1的方向排布有3或4个发光元件，使暗环不会延伸至第三显示区A3，避免影响第三显示区A3的显示效果。

在示例性实施方式中，如图1A和1B所示，在平行于显示基板的平面内，第一偏光结构6可以仅位于第二显示区A2中，第一偏光结构6在基底2的正投影与第二显示区A2交叠，第一偏光结构6在基底2的正投影与第一显示区A1和第三显示区A3均不交叠。第一偏光结构6至少覆盖第二显示区A2中沿着远离第一显示区A1方向排布的3或4个发光元件。例如，第一偏光结构6位于第二显示区A2的第一区域a和第二区域b。

图2D为本公开实施例的显示基板的另一种剖视图。在示例性实施方式中，如图2D所示，本公开实施例显示基板还包括吸光层40，吸光层40位于第一显示区A1、第二显示区A2以及第三显示区A3，且吸光层40层叠设置在第一偏光结构6与第一反射界面32之间，例如，吸光层40层叠设置在第一偏光结构6与背板1之间。吸光层40被配置为吸收朝向第一反射界面32出射的光线。吸光层40具有吸收光线的作用，能够减少朝向第一反射界面32出射的光线，从而减少第一反射界面32反射至像素电路层的光线，进而避免发生暗环等不良现象。

图2E为本公开实施例的显示基板的另一种剖视图。在示例性实施方式中，如图2E所示，本公开实施例显示基板还包括遮光层50，遮光层50位于第二显示区A2以及第三显示区A3，且遮光层50层叠设置在像素电路层靠近基底2一侧。遮光层50对第二显示区A2以及第三显示区A3进行挡光。遮光层50不位于第一显示区A1，遮光层50在基底2的正投影与第一显示区A1不交叠，避免遮挡第一显示区A1的光线，影响第一显示区A1的透光性。

在示例性实施方式中，遮光层50形成网状结构，遮光层50包括图案区和镂空区，遮光层50的图案区在基底2的正投影与像素电路在基底2的正投影交叠。

在一些实施例中，遮光层形成网状结构，遮光层可以位于第一显示区A1、第二显示区A2以及第三显示区A3。遮光层在第一显示区A1的镂空区面积大于遮光层在第二显示区A2的镂空区面积；和/或，遮光层在第一显示区A1的镂空区面积大于遮光层在第三显示区A3的镂空区面积。

在示例性实施方式中，基底2可以采用聚酰亚胺(PI)、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)或经表面处理的聚合物软膜等材料。

在示例性实施方式中，本公开实施例显示基板中像素电路可以包括晶体管以及电容，晶体管可以包括有源层、栅极以及源漏极。

在示例性实施方式中，本公开实施例显示基板中发光元件可以为OLED、QLED、Micro-LED或者Mini-LED。发光元件可以包括阳极层、像素定义层、有机发光层和阴极层。有机发光层可以包括叠设的空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层。在一些示例中，第一显示区A1的阴极层、第二显示区A2的阴极层和第三显示区A3的阴极层可以为一体结构。在本示例中，显示区域的阴极层可以为整面阴极。例如，阴极层可以为透明阴极，例如可以采用ITO或IZO等透明导电材料制备。在本示例中，发光元件可以通过透明阴极从远离基底一侧出光，实现顶发射结构。然而，本实施例对此并不限定。例如，第一显示区A1的阴极层可以为具有镂空区域的图案化阴极。

在示例性实施方式中，本公开实施例显示基板中封装层3可以包括叠设的第一封装层、第二封装层和第三封装层。第一封装层采用无机材料，第二封装层采用有机材料，第三封装层采用无机材料，覆盖第一封装层和第二封装层。然而，本实施例对此并不限定。在一些示例中，封装层可以采用无机/有机/无机/有机/无机的五层结构。

在示例性实施方式中，本公开实施例显示基板还包括第一介质层、第二介质层以及第三介质层，第一介质层、第二介质层以及第三介质层沿着远离基底2方向依次层叠设置。第一介质层位于第一显示区A1、第二显示区A2 以及第三显示区A3中，第一介质层层叠设置于像素电路层与基底2之间。第二介质层位于第一显示区A1、第二显示区A2以及第三显示区A3中，第二介质层层叠设置于像素电路层与走线层之间。第三介质层位于第一显示区A1、第二显示区A2以及第三显示区A3中，第三介质层层叠设置于走线层与发光元件之间。第一介质层、第二介质层以及第三介质层可以采用有机材料，例如，树脂。

在示例性实施方式中，本公开实施例显示基板还包括第一胶层8，第一胶层8位于第一显示区A1、第二显示区A2以及第三显示区A3中。在第二显示区A2以及第三显示区A3中，第一胶层8层叠设置于背板1与第一偏光结构6之间；在第一显示区A1中，第一胶层8层叠设置于背板1与基底2之间。第一胶层8用于将第一偏光结构6与背板1粘接以及将基底2与背板1粘接。其中，第一胶层8可以采用压敏胶(PSA)。

在示例性实施方式中，本公开实施例显示基板还包括第二胶层9，第二胶层9位于第一显示区A1、第二显示区A2以及第三显示区A3中，第二胶层9层叠设置于盖板5与第二偏光结构4之间。第二胶层9用于将盖板5与第二偏光结构4粘接。其中，第二胶层9可以采用光学胶(OCA)。

在示例性实施方式中，如图2A所示，本公开实施例显示基板还包括第二反射界面31。第二反射界面31位于第一显示区A1、第二显示区A2和第三显示区A3，且至少位于第二偏光结构4远离基底2一侧。例如，本公开实施例显示基板的盖板5远离基底2一侧与显示基板外侧的交界形成第二反射界面31。

在示例性实施方式中，如图2A所示，第二反射界面31将至少一个第一发光元件21发出的光线形成反射光线，例如，至少一个第一发光元件21发出的光线在第二反射界面31处发生全反射，形成朝向第二偏光结构4出射的上述反射光线。第二偏光结构4被配置为透射上述反射光线，将透射的反射光线形成第一圆偏振光线，并将至少部分第一圆偏振光线朝向第一反射界面32出射。第一反射界面32将入射的上述第一圆偏振光线形成第二圆偏振光线，并将至少部分第二圆偏振光线反射，使至少部分第二圆偏振光线朝向第一偏光结构6出射。第一偏光结构6被配置为阻挡入射的上述第二圆偏振光 线透射，从而阻挡上述第二圆偏振光线出射至第二显示区A2中的第一像素电路、第二像素电路11以及第三显示区A3中的第三像素电路12，避免第一发光元件21发出的光线经过显示基板内部膜层的反射，入射至显示基板中的像素电路，从而避免显示基板中的像素电路发生特性偏移，改善显示基板产生暗环等不良现象，提升显示效果。

在示例性实施方式中，如图2A所示，本公开实施例显示基板中光线的光路为：第一发光元件21发出光线，一部分光线射出显示基板用于显示图像，一部分光线在第二反射界面31处发生全反射，形成朝向第二偏光结构4出射的反射光线；该反射光线出射至第二偏光结构4，第二偏光结构4透射至少部分反射光线，将透射的反射光线形成第一圆偏振光线，并将至少部分第一圆偏振光线朝向第一反射界面32出射；至少部分第一圆偏振光线出射至第一反射界面32，在第一反射界面32处发生全反射，形成朝向第一偏光结构6出射的第二圆偏振光线，第二圆偏振光线在第一偏光结构6处被阻挡，无法透射第一偏光结构6，从而避免第二圆偏振光线出射至第二显示区A2中的第一像素电路、第二像素电路11以及第三显示区A3中的第三像素电路12，从而避免显示基板中的像素电路发生特性偏移，改善显示基板产生暗环等不良现象，提升显示效果。

在示例性实施方式中，如图2A所示，第二偏光结构4在基底2的正投影均与多个第一发光元件21在基底2的正投影、多个第二发光元件22在基底2的正投影以及多个第三发光元件23在基底2的正投影交叠，至少部分第二偏光结构4覆盖多个第一发光元件21、多个第二发光元件22以及多个第三发光元件23。

在一些实施方式中，第二偏光结构可以只位于第一显示区A1，不位于第二显示区A2和第三显示区A3。第二偏光结构在基底2的正投影与多个第一发光元件21在基底2的正投影交叠，与多个第二发光元件22在基底2的正投影以及多个第三发光元件23在基底2的正投影不交叠。

在示例性实施方式中，如图2A所示，第二偏光结构4包括层叠设置的第二位相差膜层401和第二线偏光膜层402，第二位相差膜层401位于第二线偏光膜层402靠近基底2一侧，第二线偏光膜层402被配置为透射反射光 线，并将透射的反射光线形成第一线偏振光线，第二位相差膜层401被配置为透射第一线偏振光线，并将透射的第一线偏振光线形成第一圆偏振光线。在一些实施例中，第二位相差膜层被配置为透射第一线偏振光线，并将透射的第一线偏振光线形成第一椭圆偏振光线。然而，本实施例对此并限定。

在示例性实施方式中，如图2A所示，第一偏光结构6在基底2的正投影与多个第二发光元件22在基底2的正投影以及多个第三发光元件23在基底2的正投影交叠，与多个第一发光元件21在基底2的正投影不交叠。

在示例性实施方式中，如图2A所示，第一偏光结构6包括层叠设置的第一位相差膜层601和第一线偏光膜层602，第一线偏光膜层602位于第一位相差膜层601靠近基底2一侧，第一位相差膜层601被配置为透射第二圆偏振光线，并将透射的第二圆偏振光线形成第二线偏振光线，第一线偏光膜层602被配置为阻挡入射的第二线偏振光线透射。

在示例性实施方式中，第一圆偏振光线与第二圆偏振光线的光矢量旋转方向相反。例如，第一圆偏振光线可以为左旋圆偏振光线，第二圆偏振光线可以为右旋圆偏振光线；或者，第一圆偏振光线可以为右旋圆偏振光线，第二圆偏振光线可以为左旋圆偏振光线。然而，本实施例对此并限定。

在示例性实施方式中，第二线偏振光线的偏振方向与第一线偏光膜层602的偏振方向垂直，使第二线偏振光线无法透过第一线偏光膜层602，进而使第一偏光结构6阻止第二圆偏振光线出射至第二显示区A2中的第一像素电路、第二像素电路11以及第三显示区A3中的第三像素电路12，从而避免显示基板中的像素电路发生特性偏移。

在示例性实施方式中，第二偏光结构4中第二位相差膜层401的透过轴与显示基板所在平面之间的夹角可以为-5度至5度。例如，第二位相差膜层401的透过轴与显示基板所在平面之间的夹角可以为0度。

在示例性实施方式中，第一偏光结构6中第一位相差膜层601的透过轴与显示基板所在平面之间的夹角可以为-5度至5度。例如，第一位相差膜层601的透过轴与显示基板所在平面之间的夹角可以为0度。

在示例性实施方式中，第二位相差膜层401的透过轴与显示基板所在平 面之间的夹角可以与第一位相差膜层601的透过轴与显示基板所在平面之间的夹角相同。例如，第二位相差膜层401的透过轴与显示基板所在平面之间的夹角和第一位相差膜层601的透过轴与显示基板所在平面之间的夹角均可以为0度。然而，本实施例对此并限定。在一些实施例中，第二位相差膜层的透过轴与显示基板所在平面之间的夹角与第一位相差膜层的透过轴与显示基板所在平面之间的夹角也可以不同。

在示例性实施方式中，第二偏光结构4中第二位相差膜层401的相位差可以为60纳米至450纳米。例如，第二偏光结构4中第二位相差膜层401的相位差可以为68.75纳米、137.5纳米、206.25纳米或412.5纳米。然而，本实施例对此并限定。

在示例性实施方式中，第一偏光结构6中第一位相差膜层601的相位差可以为60纳米至450纳米。例如，第一偏光结构6中第一位相差膜层601的相位差可以为68.75纳米、137.5纳米、206.25纳米或412.5纳米。然而，本实施例对此并限定。

在示例性实施方式中，第二位相差膜层401可以采用四分之一波片。第二偏光结构4中第二线偏光膜层402的透射轴方向与第二位相差膜层401的快轴之间的夹角可以为40度至50度；或者130度至140度。例如，第二线偏光膜层402的透射轴方向与第二位相差膜层401的快轴之间的夹角可以为45度或135度。在一些实施例中，第二位相差膜层可以采用二分之一波片。然而，本实施例对此并限定。其中，快轴是指传播速度快的光矢量方向。

在示例性实施方式中，第一位相差膜层601可以采用四分之一波片。第一偏光结构6中第一线偏光膜层602的透射轴方向与第一位相差膜层601的快轴之间的夹角可以为40度至50度；或者130度至140度。例如，第一线偏光膜层602的透射轴方向与第一位相差膜层601的快轴之间的夹角可以为45度或135度。在一些实施例中，第一位相差膜层可以采用二分之一波片。然而，本实施例对此并限定。

图6为本公开实施例显示基板中光路的示意图。在示例性实施方式中，以第二位相差膜层401的透过轴和第一位相差膜层601的透过轴均为0度，第二位相差膜层401的相位差为137.5纳米，第二线偏光膜层402的透射轴 方向与第二位相差膜层401的快轴之间的夹角为45°，第一位相差膜层601的相位差为137.5纳米，第一线偏光膜层602的透射轴方向与第一位相差膜层601的快轴之间的夹角为45°为例，来说明本公开实施例显示基板中光线的光路。如图6所示，当第一显示区A1中第一发光元件21发出光线，一部分光线射出显示基板用于显示图像，一部分光线在盖板5远离发光元件一侧与显示基板外侧的交界形成的第二反射界面31处发生全反射，形成朝向第二偏光结构4出射的反射光线b；该反射光线b穿过第二线偏光膜层402后，形成与第二位相差膜层401的快轴之间的夹角为45°的第一线偏振光线c，第一线偏振光线c穿过第二位相差膜层401，形成左旋的第一圆偏振光线d，且至少部分第一圆偏振光线d朝向第一反射界面32出射；至少部分第一圆偏振光线d出射至第一反射界面32，在第一反射界面32处发生全反射，形成右旋的第二圆偏振光线e，第二圆偏振光线e穿过第一位相差膜层601后，形成与第一位相差膜层601的快轴之间的夹角为135°的第二线偏振光线f，第二线偏振光线f的偏振方向与第一线偏光膜层602的透射轴方向垂直，使第二线偏振光线f无法穿过第一线偏光膜层602，进而使第二圆偏振光线e在第一偏光结构6处被阻挡。

在示例性实施方式中，以第二位相差膜层401的透过轴和第一位相差膜层601的透过轴均为0度，第二位相差膜层401的相位差为137.5纳米，第二线偏光膜层402的透射轴方向与第二位相差膜层401的快轴之间的夹角为45°，第一位相差膜层601的相位差为412.5纳米，第一线偏光膜层602的透射轴方向与第一位相差膜层601的快轴之间的夹角为135°为例，来说明本公开实施例显示基板中光线的光路。当第一显示区A1中第一发光元件21发出光线，一部分光线射出显示基板用于显示图像，一部分光线在盖板5远离发光元件一侧与显示基板外侧的交界形成的第二反射界面31处发生全反射，形成朝向第二偏光结构4出射的反射光线；该反射光线穿过第二线偏光膜层402后，形成与第二位相差膜层401的快轴之间的夹角为45°的第一线偏振光线，第一线偏振光线穿过第二位相差膜层401，形成左旋的第一圆偏振光线，且至少部分第一圆偏振光线朝向第一反射界面32出射；至少部分第一圆偏振光线出射至第一反射界面32，在第一反射界面32处发生全反射， 形成右旋的第二圆偏振光线，第二圆偏振光线穿过第一位相差膜层601后，形成与第一位相差膜层601的快轴之间的夹角为45°的第二线偏振光线，第二线偏振光线的偏振方向与第一线偏光膜层602的透射轴方向垂直，使第二线偏振光线无法穿过第一线偏光膜层602，进而使第二圆偏振光线在第一偏光结构6处被阻挡。

在示例性实施方式中，本公开实施例显示基板还包括复合膜10，复合膜10位于第二显示区A2以及第三显示区A3中，即复合膜10在基底2的正投影与第一显示区A1不交叠，与第二显示区A2以及第三显示区A3交叠。复合膜10层叠设置在背板1远离基底2一侧。复合膜10在基底2的正投影与第一显示区A1不交叠，能够避免复合膜10降低第一显示区A1的透光性。

在示例性实施方式中，复合膜10可以采用超净泡沫(super clean foam，SCF)复合膜。复合膜10一般包括沿远离背板1的方向依次层叠的粘结层、缓冲层和散热层。复合膜10能够对作用于显示基板的应力起到缓冲作用，且能够散发显示基板工作时产生的热量，对显示基板起到一定的保护效果。

图2B为本公开实施例的显示基板的另一种剖视图。在示例性实施方式中，如图2B所示，在垂直于显示基板的平面内，第一显示区A1可以包括：背板1、设置在背板1上的第一偏光结构6、设置在第一偏光结构6远离背板1一侧的基底2、设置在基底2远离背板1一侧的多个第一发光元件21、设置在多个第一发光元件21远离背板1一侧的封装层3、设置在封装层3远离背板1一侧的第二偏光结构4以及设置在第二偏光结构4远离背板1一侧的盖板5。其中，第一显示区A1不设置像素电路层，第一偏光结构6中的第一位相差膜层601在基底的正投影与第一显示区A1交叠，第一偏光结构6中的第一线偏光膜层602在基底的正投影与第一显示区A1不交叠，避免第一线偏光膜层602降低第一显示区A1的透光性。

如图2B所示，在垂直于显示基板的平面内，第二显示区A2可以包括：背板1、设置在背板1上的第一偏光结构6、设置在第一偏光结构6远离背板1一侧的基底2、设置在基底2远离背板1一侧的像素电路层、设置在像素电路层远离背板1一侧的多个第二发光元件22、设置在多个第二发光元件22远离背板1一侧的封装层3、设置在封装层3远离背板1一侧的第二偏光结 构4以及设置在第二偏光结构4远离背板1一侧的盖板5。其中，像素电路层包括多个第一像素电路以及多个第二像素电路11。第二显示区A2设置有像素电路层以及第一偏光结构。

如图2B所示，在垂直于显示基板的平面内，第三显示区A3可以包括：背板1、设置在背板1上的第一偏光结构6、设置在第一偏光结构6远离背板1一侧的基底2、设置在基底2远离背板1一侧的像素电路层、设置在像素电路层远离背板1一侧的走线层、设置在走线层远离背板1一侧的多个第三发光元件23、设置在多个第三发光元件23远离背板1一侧的封装层3、设置在封装层3远离背板1一侧的第二偏光结构4以及设置在第二偏光结构4远离背板1一侧的盖板5。其中，像素电路层包括多个第三像素电路12。走线层包括多个信号走线7。第三显示区A3设置有像素电路层、走线层以及第一偏光结构6。

在示例性实施方式中，如图2B所示，在垂直于显示基板的平面内，第一显示区A1不设置像素电路层以及走线层，第一偏光结构6中的第一位相差膜层601位于第一显示区A1中，第一偏光结构6中的第一线偏光膜层602不位于第一显示区A1中。第二显示区A2设置有像素电路层以及第一偏光结构，不设置有走线层。第三显示区A3设置有像素电路层、走线层以及第一偏光结构。

在示例性实施方式中，以第二位相差膜层401的透过轴和第一位相差膜层601的透过轴均为0度，第二位相差膜层401的相位差为137.5纳米，第二线偏光膜层402的透射轴方向与第二位相差膜层401的快轴之间的夹角为45°，第一位相差膜层601的相位差为68.75纳米，第一线偏光膜层602的透射轴方向与第一位相差膜层601的快轴之间的夹角为45°为例，来说明本公开实施例显示基板中光线的光路。当第一显示区A1中第一发光元件21发出光线，一部分光线射出显示基板用于显示图像，一部分光线在盖板5远离发光元件一侧与显示基板外侧的交界形成的第二反射界面31处发生全反射，形成朝向第二偏光结构4出射的反射光线；该反射光线穿过第二线偏光膜层402后，形成与第二位相差膜层401的快轴之间的夹角为45°的第一线偏振光线，第一线偏振光线穿过第二位相差膜层401，形成左旋的第一圆偏振光 线，且至少部分第一圆偏振光线朝向第一反射界面32出射；至少部分第一圆偏振光线出射至第一反射界面32，在第一反射界面32处发生全反射，形成右旋的第二圆偏振光线，第二圆偏振光线穿过第一位相差膜层601后，形成与第一位相差膜层601的快轴之间的夹角为135°的第二线偏振光线，第二线偏振光线的偏振方向与第一线偏光膜层602的透射轴方向垂直，使第二线偏振光线无法穿过第一线偏光膜层602，进而使第二圆偏振光线在第一偏光结构6处被阻挡。

在示例性实施方式中，以第二位相差膜层401的透过轴和第一位相差膜层601的透过轴均为0度，第二位相差膜层401的相位差为137.5纳米，第二线偏光膜层402的透射轴方向与第二位相差膜层401的快轴之间的夹角为45°，第一位相差膜层601的相位差为206.25纳米，第一线偏光膜层602的透射轴方向与第一位相差膜层601的快轴之间的夹角为135°为例，来说明本公开实施例显示基板中光线的光路。当第一显示区A1中第一发光元件21发出光线，一部分光线射出显示基板用于显示图像，一部分光线在盖板5远离发光元件一侧与显示基板外侧的交界形成的第二反射界面31处发生全反射，形成朝向第二偏光结构4出射的反射光线；该反射光线穿过第二线偏光膜层402后，形成与第二位相差膜层401的快轴之间的夹角为45°的第一线偏振光线，第一线偏振光线穿过第二位相差膜层401，形成左旋的第一圆偏振光线，且至少部分第一圆偏振光线朝向第一反射界面32出射；至少部分第一圆偏振光线出射至第一反射界面32，在第一反射界面32处发生全反射，形成右旋的第二圆偏振光线，第二圆偏振光线穿过第一位相差膜层601后，形成与第一位相差膜层601的快轴之间的夹角为45°的第二线偏振光线，第二线偏振光线的偏振方向与第一线偏光膜层602的透射轴方向垂直，使第二线偏振光线无法穿过第一线偏光膜层602，进而使第二圆偏振光线在第一偏光结构6处被阻挡。

图3为本公开实施例的显示装置的示意图。如图3所示，本公开提供了一种显示装置，包括：显示基板100以及位于远离显示基板100的出光侧的感光传感器200。感光传感器200在显示基板100上的正投影与显示基板中第一显示区A1存在交叠区域。

在一些示例中，显示基板100可以为柔性OLED显示基板、QLED显示基板、Micro-LED显示基板、或者Mini-LED显示基板。显示装置可以为：OLED显示器、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件，本公开实施例并不以此为限。

本公开提供了一种显示基板的制备方法，该显示基板可以为前面任一所述的显示基板，该显示基板包括第一显示区和第二显示区，所述第二显示区位于所述第一显示区的至少一侧，所述第一显示区为屏下传感区域；所述显示基板的制备方法包括：

至少在所述第一显示区和所述第二显示区中形成基底；

至少在所述第二显示区的基底上形成像素电路层；

至少在所述基底远离所述像素电路层的一侧形成第一反射界面，且所述第一反射界面至少位于所述第一显示区和所述第二显示区；所述第一反射界面将至少部分光线朝向所述像素电路层反射；

至少在所述基底与所述第一反射界面之间形成第一偏光结构，且至少部分所述第一偏光结构位于所述第二显示区，所述第一偏光结构被配置为阻挡所述第一反射界面反射的光线入射所述像素电路层。

虽然本公开所揭露的实施方式如上，但所述的内容仅为便于理解本公开而采用的实施方式，并非用以限定本发明。任何所属领域内的技术人员，在不脱离本公开所揭露的精神和范围的前提下，可以在实施的形式及细节上进行任何的修改与变化，但本发明的专利保护范围，仍须以所附的权利要求书所界定的范围为准。

Claims (20)

1. 一种显示基板，包括第一显示区和第二显示区，所述第二显示区位于所述第一显示区的至少一侧，所述第一显示区为屏下传感区域；所述显示基板至少包括：

   基底，至少位于所述第一显示区和所述第二显示区；

   像素电路层，至少部分所述像素电路层位于所述第二显示区，且位于所述基底一侧；

   第一反射界面，至少位于所述第一显示区和所述第二显示区，且位于所述基底远离所述像素电路层的一侧；所述第一反射界面将至少部分光线朝向所述像素电路层反射；

   第一偏光结构，至少部分所述第一偏光结构位于所述第二显示区，且至少部分所述第一偏光结构位于所述基底与所述第一反射界面之间，所述第一偏光结构被配置为阻挡所述第一反射界面反射的光线入射所述像素电路层。
2. 根据权利要求1所述的显示基板，还包括第三显示区，所述第三显示区位于所述第一显示区和所述第二显示区的至少一侧，至少部分所述像素电路层位于所述第三显示区，至少部分所述第一偏光结构位于所述第三显示区。
3. 根据权利要求1所述的显示基板，还包括：

   多个第一发光元件，位于所述第一显示区，且位于所述基底远离所述第一反射界面一侧；

   第二反射界面，至少位于所述第一显示区和所述第二显示区，且至少位于所述多个第一发光元件远离所述基底一侧，所述第二反射界面将至少一个第一发光元件发出的光线形成反射光线；

   第二偏光结构，至少位于所述第一显示区和所述第二显示区，且至少位于所述多个第一发光元件与所述第二反射界面之间，所述第二偏光结构被配置为透射所述反射光线，使透射的所述反射光线形成第一圆偏振光线，并将所述第一圆偏振光线朝向所述第一反射界面出射；

   所述第一反射界面被配置为将入射的所述第一圆偏振光线形成第二圆偏 振光线，并将至少部分所述第二圆偏振光线反射至所述第一偏光结构；所述所述第一偏光结构被配置为阻挡所述第二圆偏振光线入射所述像素电路层。
4. 根据权利要求3所述的显示基板，其中，所述第二偏光结构包括层叠设置的第二线偏光膜层和第二位相差膜层，所述第二位相差膜层位于所述第二线偏光膜层靠近所述基底一侧，所述第二线偏光膜层被配置为透射所述反射光线，并将透射的所述反射光线形成第一线偏振光线，所述第二位相差膜层被配置为透射所述第一线偏振光线，并将透射的所述第一线偏振光线形成所述第一圆偏振光线。
5. 根据权利要求3所述的显示基板，其中，所述第一偏光结构包括层叠设置的第一线偏光膜层和第一位相差膜层，所述第一位相差膜层位于所述第一线偏光膜层靠近所述基底一侧，所述第一位相差膜层被配置为透射所述第二圆偏振光线，并将透射的所述第二圆偏振光线形成第二线偏振光线，所述第一线偏光膜层被配置为阻挡入射的所述第二线偏振光线透射。
6. 根据权利要求5所述的显示基板，其中，所述第二线偏振光线的偏振方向与所述第一线偏光膜层的偏振方向垂直。
7. 根据权利要求5所述的显示基板，其中，所述第一线偏光膜层在所述基底的正投影与所述第一显示区不交叠，至少部分所述第一位相差膜层在所述基底的正投影与所述第一显示区交叠。
8. 根据权利要求1至6任一所述的显示基板，其中，所述第一偏光结构在所述基底的正投影与所述第一显示区不交叠。
9. 根据权利要求1至8任一所述的显示基板，还包括：背板，所述背板至少位于所述第一显示区和所述第二显示区，且所述背板至少位于所述第一偏光结构远离所述基底一侧，所述背板远离所述基底一侧表面与所述显示基板外侧的交界形成所述第一反射界面。
10. 根据权利要求9所述的显示基板，还包括：复合膜，所述复合膜至少位于所述第二显示区，所述复合膜至少位于所述背板远离所述基底一侧，所述复合膜在所述基底的正投影与所述第一显示区不交叠。
11. 根据权利要求3所述的显示基板，还包括：盖板，所述盖板至少位 于所述第一显示区和所述第二显示区，所述盖板位于所述第二偏光结构远离所述基底一侧，所述盖板远离所述基底一侧表面与所述显示基板外侧的交界形成所述第二反射界面。
12. 根据权利要求1至11任一所述的显示基板，还包括：封装层，所述封装层至少位于所述第一显示区和所述第二显示区，所述封装层位于所述像素电路层远离所述基底一侧。
13. 根据权利要求3所述的显示基板，还包括：多个第二发光元件，所述像素电路层包括多个第一像素电路和多个第二像素电路，所述多个第二发光元件、所述多个第一像素电路和所述多个第二像素电路均位于所述第二显示区，所述多个第二发光元件位于所述像素电路层远离所述基底一侧，所述第一像素电路与所述第一发光元件电连接，所述第二像素电路与所述第二发光元件电连接。
14. 根据权利要求13所述的显示基板，其中，所述第一发光元件之间的间距，大于所述第二发光元件之间的间距；和/或，所述第一发光元件的面积小于所述第二发光元的面积。
15. 根据权利要求13任所述的显示基板，其中，所述第二显示区在远离所述第一显示区的方向上排布有3或4个第二发光元件。
16. 根据权利要求15所述的显示基板，其中，所述第一偏光结构在所述基底的正投影与所述3或4个第二发光元件在所述基底的正投影交叠。
17. 根据权利要求1至16任一所述的显示基板，还包括吸光层，所述吸光层至少位于所述第一显示区和所述第二显示区，且所述吸光层层叠设置在所述第一偏光结构与所述第一反射界面之间。
18. 根据权利要求1至16任一所述的显示基板，还包括遮光层，所述遮光层位于所述第二显示区，所述遮光层在基底的正投影与所述第一显示区不交叠，所述遮光层层叠设置在所述像素电路层靠近所述基底一侧。
19. 一种显示装置，包括权利要求1至18任一所述的显示基板以及感光传感器，所述感光传感器位于远离所述显示基板的出光侧的一侧，所述感光传感器在所述显示基板上的正投影与所述显示基板中第一显示区存在交叠区 域。
20. 一种显示基板的制备方法，所述显示基板包括第一显示区和第二显示区，所述第二显示区位于所述第一显示区的至少一侧，所述第一显示区为屏下传感区域；所述显示基板的制备方法包括：

    至少在所述第一显示区和所述第二显示区中形成基底；

    至少在所述第二显示区的基底上形成像素电路层；

    至少在所述基底远离所述像素电路层的一侧形成第一反射界面，且所述第一反射界面至少位于所述第一显示区和所述第二显示区；所述第一反射界面将至少部分光线朝向所述像素电路层反射；

    至少在所述基底与所述第一反射界面之间形成第一偏光结构，且至少部分所述第一偏光结构位于所述第二显示区，所述第一偏光结构被配置为阻挡所述第一反射界面反射的光线入射所述像素电路层。