CN117512552B - 旋转工件盘及其控制方法、真空设备 - Google Patents
旋转工件盘及其控制方法、真空设备Info
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Abstract
本申请涉及一种旋转工件盘及其控制方法、真空设备;所述旋转工件盘包括旋转机构、工件盘和旋转轴,旋转机构通过所述旋转轴连接工件盘;在旋转轴上设有转动机构,转动机构位于工件盘上部位置;转动机构连接一导向部件,导向部件在工件盘上方沿工件盘直径方向延伸,在导向部件上设有配重块;转动机构驱动导向部件绕旋转轴轴线进行旋转,使得导向部件旋转至相对于工件盘平面上的设定角度位置;导向部件推动配重块沿工件盘直径方向进行移动,使得配重块移动至距离旋转轴轴线设定距离位置处。该技术方案,实现了上料操作过程的自动化配平,提升了上料操作工作效率,确保旋转工件盘的平衡,增强了真空设备的工作稳定性,提升了工件镀膜或刻蚀的质量。
Description
技术领域
本申请涉及真空技术领域,尤其是一种旋转工件盘及其控制方法、真空设备。
背景技术
在真空设备中,如真空镀膜设备和真空刻蚀设备,通常都设有旋转工件盘,用于装载与固定需要被镀膜或刻蚀的工件,旋转工件盘一般是采用水平旋转方式或者竖直转动方式,其结构上主要包括旋转机构、工件盘和旋转轴等组成部分,旋转机构输出动力旋转工件盘,旋转机构可设于真空腔室的部内或者室外。
在真空设备中,使用前需要人工将待处理的工件安装到工件盘上,为了保持整体平衡,用户往往需要对各个工件不断进行位置调整,严重降低了工作效率,而且也难以确保旋转工件盘的平衡;另外,在真空设备进行一些较为精密的处理过程时,整个腔体需要稳定的工作环境,由于旋转工件盘无法整体确保整体平衡,在旋转过程中容易产生振动,从而影响了真空设备的工作稳定性,降低了工件镀膜或刻蚀的质量。
由此可见,常规的工件安装方案工作效率较低,而且难以做到整体平衡,影响了真空设备的处理效果。
发明内容
本申请的目的旨在解决上述的技术缺陷之一,提供一种旋转工件盘及其控制方法、真空设备,提升工件安装工作效率和真空设备的处理效果。
一种旋转工件盘,设于真空设备中,包括旋转机构、工件盘和旋转轴,所述旋转机构通过所述旋转轴连接所述工件盘;在所述旋转轴上设有转动机构,所述转动机构位于工件盘上部位置;
所述转动机构连接一导向部件,所述导向部件在所述工件盘上方沿工件盘直径方向延伸,在所述导向部件上设有配重块;
所述转动机构驱动所述导向部件绕旋转轴轴线进行旋转,使得所述导向部件旋转至相对于工件盘平面上的设定角度位置;
所述导向部件推动所述配重块沿工件盘直径方向进行移动,使得所述配重块移动至距离旋转轴轴线设定距离位置处。
在一个实施例中,所述转动机构包括旋转座、第一齿轮、第二电机以及第二齿轮;
所述第一齿轮固定在旋转轴周围,所述旋转座连接所述导向部件,所述第二电机固定于旋转座上;
所述第二电机连接第二齿轮,所述第二齿轮与所述第一齿轮啮合;
所述第二电机驱动第二齿轮相对于第一齿轮转动,以驱动所述旋转座绕旋转轴轴线进行转动。
在一个实施例中,所述导向部件包括导轨组件和滑动组件;其中,所述滑动组件在导轨组件上进行移动,所述配重块设于滑动组件上;
所述滑动组件内置有第三电机及其连接的第三齿轮,所述导轨组件上设有齿条,所述第三齿轮与所述齿条啮合;
所述第三电机驱动第三齿轮在所述齿条上进行移动,以驱动所述滑动组件将配重块移动至设定位置处。
在一个实施例中,所述旋转座在所述导向部件对向位置还连接有平衡组件;其中,所述平衡组件外形以及重量与导轨组件一致。
在一个实施例中,所述的旋转工件盘还包括:分别连接所述旋转机构、转动机构和导向部件的控制器;其中,所述控制器被配置为检测所述旋转机构的输出功率并获取输出功率曲线,根据所述输出功率曲线的最小功率值控制所述转动机构将所述导向部件转到目标角度以及通过所述导向部件将所述配重块移动至目标位置。
在一个实施例中,所述旋转机构内置有第一电机;其中,所述第一电机、第二电机和第三电机分别连接至所述控制器。
一种旋转工件盘的控制方法,应用于所述的旋转工件盘,包括如下步骤:
在工件盘上安装工件之后,通过导向部件将配重块移动至初始位置,通过旋转机构旋转所述工件盘;
在工件盘处于旋转状态下,转动所述导向部件并根据所述旋转机构的第一输出功率将导向部件转到所述目标角度;
在所述目标角度下,移动所述配重块并根据所述旋转机构的第二输出功率将配重块移动至所述目标位置;
启动真空设备对所述旋转工件盘上的工件进行镀膜或刻蚀。
在一个实施例中,所述在工件盘处于旋转状态下,转动所述导向部件并根据所述旋转机构的第一输出功率将导向部件转到所述目标角度,包括:
通过转动机构驱动导向部件进行转动,检测所述旋转机构的第一输出功率,并生成所述导向部件转动一周的第一输出功率曲线;
根据所述第一输出功率曲线的最小值确定导向部件的目标角度,通过转动机构将导向部件转到所述目标角度;
所述在所述目标角度下,移动所述配重块并根据所述旋转机构的第二输出功率将配重块移动至所述目标位置,包括:
在所述目标角度下,通过导向部件将配重块进行一次全行程移动,检测所述旋转机构的第二输出功率,并生成所述配重块进行全行程移动的第二输出功率曲线;
根据所述第二输出功率曲线的最小值确定配重块的目标位置,通过导向部件将配重块移动至所述目标位置。
在一个实施例中,所述的旋转工件盘的控制方法,还包括:
在真空设备进行镀膜或刻蚀过程中,检测所述旋转机构的实时输出功率的变化值;
当所述变化值超过设定阈值时,通过所述导向部件移动所述配重块,直至所述变化值小于所述设定阈值。
一种真空设备,用于对工件进行镀膜或刻蚀,其特征在于,包括:真空腔室,以及所述的旋转工件盘;其中,所述旋转工件盘用于安装待处理的工件。
如上述实施例的技术方案,在旋转轴上设置转动机构及配重块,通过转动机构驱动导向部件绕旋转轴轴线进行旋转调整配重块的角度位置,通过导向部件调整配重块沿工件盘直径方向的位置;该技术方案,实现了上料操作过程的自动化配平,提升了上料操作工作效率,确保旋转工件盘的平衡,增强了真空设备的工作稳定性,提升了工件镀膜或刻蚀的质量。
进一步的,通过将控制器配置为检测旋转机构的输出功率并获取输出功率曲线,根据输出功率曲线的最小功率值控制转动机构将导向部件转到目标角度以及通过导向部件将配重块移动至目标位置,在无需增加设备下,实现了成本低、准确性高的配平过程。
进一步的,通过在镀膜或刻蚀之前旋转安装工件后的工件盘,通过检测旋转机构的第一电机实时的输出功率,拟合了输出功率曲线,利用输出功率曲线的最小值来测定配重块的最优目标角度和目标位置,然后自动地进行配平处理,采用该技术方案,可以降低设备成本,而且能够获取到准确的测定结果,从而提升了工作效率,也提升了真空设备的镀膜或刻蚀质量和效果。
进一步的,在真空设备进行镀膜或刻蚀过程中对配重块进行微调,从而将整个工件盘保持在最优的平衡状态,从而可以保持整个真空设备的平衡性,提升了镀膜或刻蚀的质量和效果。
本申请附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出,这些将从下面的描述中变得明显,或通过本申请的实践了解到。
附图说明
本申请上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解,其中:
图1是一个示例的旋转工件盘的结构示意图;
图2是一个实施例的旋转工件盘结构示意图;
图3是图2的A-A方向示意图;
图4是一个实施例的转动机构示意图;
图5是一个实施例的导向部件示意图;
图6是一个示例的平衡组件结构示意图;
图7是一个示例的旋转工件盘的控制部分示意图;
图8是一个实施例的旋转工件盘的控制方法流程图;
图9是一个示例真空设备结构示意图;
图10是一个示例的真空设备的电气连接图。
具体实施方式
下面详细描述本申请的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,仅用于解释本申请,而不能解释为对本申请的限制。
本技术领域技术人员可以理解,除非特意声明,这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是,本申请的说明书中使用的措辞“包括”是指存在所述特征、整数、步骤、操作,但是并不排除存在或添加一个或多个其他特征、整数、步骤、操作。
针对于真空设备100中的水平转动的旋转工件盘01,参考图1所示,图1是一个示例的旋转工件盘的结构示意图,图中所示的旋转工件盘01采用吊挂方式,图示为截面图。示例性的,旋转工件盘01设于真空设备100中,包括旋转机构11、工件盘12和旋转轴13,旋转机构11通过旋转轴13连接工件盘12;其中,工件盘12可以安装各种待处理的工件,在真空腔室101内还设有镀膜设备02或刻蚀设备03,离子源04等等部件,如图所示,由于各个需要处理的工件安装到工件盘12上之后,由于自身重量影响,容易导致工件盘12产生不平衡,因此,在安装工件时,需要用户调整到尽可能平衡状态;而在一些要求较高的真空设备100中,当在镀膜或者刻蚀过程中出现不平衡时,工件盘12在旋转过程中就会产生振动,从而影响了镀膜或刻蚀的质量。
为此,本实施例设计了一种旋转工件盘01,如图2所示,图2是一个实施例的旋转工件盘结构示意图,图示为截面图,其在旋转轴13上,位于工件盘12上部位置还设有转动机构14,转动机构14连接一导向部件15,导向部件15在工件盘12上方沿工件盘12直径方向延伸,在导向部件15上设有配重块16。
如图3所示,图3是图2的A-A方向示意图,图中所示为xy坐标平面,转动机构14驱动导向部件15绕旋转轴13轴线进行旋转,使得导向部件15旋转至相对于工件盘12平面上的设定角度位置;导向部件15推动配重块16沿工件盘12直径方向进行移动,使得配重块16移动至距离旋转轴13的轴线设定距离位置处,以抵消工件盘12重量的偏移量,使得工件盘12旋转过程中达到平衡。
如上述实施例的方案中,在工件盘12上安装了工件之后,由于工件重量分布不均导致工件盘12存在不平衡时,其在工件盘12平面的360度范围内的某个角度θ的位置点p上产生一个向下的附加重力m;为了平衡这个附加重力m,在安装工件的上料操作之后,在正式开始镀膜或刻蚀之前,通过将导向部件15转动至与位置点p相对向的角度θ+180°的位置,然后将配重块16移动到一定位置而抵消了附加重力m,实现整个工件盘12在旋转过程中最终形成整体平衡,然后再进行镀膜或刻蚀,由此实现了上料操作过程的自动化配平,提升了上料操作工作效率,确保旋转工件盘的平衡,增强了真空设备的工作稳定性,提升了工件镀膜或刻蚀的质量。
示例性的,对于配重块16,其可以包括多个配重片;优选的,配重片可以设计成薄片形状且贴近于工件盘12上表面,从而可以将整体中心靠近工件盘12,更有利于平衡,配重块16可以根据实际需求增加或者减少配重片数量,从而可以适用于不同重量待处理的工件使用场景。
在一个实施例中,如图4所示,图4是一个实施例的转动机构示意图,转动机构14可以包括旋转座141、第一齿轮142、第二电机143以及第二齿轮144;其中,第一齿轮142固定在旋转轴13周围,旋转座141连接导向部件15,第二电机143固定于旋转座141上;第二电机143连接第二齿轮144,第二齿轮144与第一齿轮142啮合;第二电机143驱动第二齿轮144相对于第一齿轮142转动,以驱动旋转座141绕旋转轴13轴线进行360°转动,将配重块16转动至设定角度位置处,如图3中的α=θ+180°的角度位置。
如上述实施例的方案中,通过简单的结构来实现旋转座的转动,通过控制第二电机转动可以实现导向部件360°转动,从而将配重块至于最优的角度上。
在一个实施例中,如图5所示,图5是一个实施例的导向部件示意图,导向部件15可以包括导轨组件151和滑动组件152;其中,滑动组件152在导轨组件151上进行移动,配重块16设于滑动组件152上;滑动组件152内置有第三电机153及其连接的第三齿轮154,导轨组件151上设有齿条155,第三齿轮154与齿条155啮合;第三电机153驱动第三齿轮154在齿条155上进行移动,以驱动滑动组件152将配重块16移动至设定位置处,如图2中距离旋转轴13轴线为L的位置q处。
如上述实施例的方案中,通过简单的结构来实现导向部件移动配重块,通过控制第三电机转动可以实现将配重块至于最优的位置上。
在一个实施例中,如图6所示,图6是一个示例的平衡组件结构示意图,旋转座在导向部件15对向位置还连接有平衡组件17;其中,平衡组件17外形以及重量与导轨组件一致;平衡组件17的主要作用是对于导向部件15产生平衡和提升重心作用,从而使得配平之后的工件盘12能够在水平方向上保持平衡,提升了旋转时的稳定性。
在一个实施例中,如图7所示,图7是一个示例的旋转工件盘的控制部分示意图,旋转机构11、转动机构14和导向部件15可以通过控制器18来进行控制;示例性的,该控制器18可以是真空设备100的工控机,也可以是单独的控制器18;本实施例中,旋转机构11内置的第一电机111,转动机构14内置的第二电机143以及导向部件15的第三电机153通过控制器18来进行控制。
由于在调整配重块16进行配平过程中,对于其目标角度和目标位置的精确测定至关重要,常规配平技术一般采用多个传感器来测定旋转轴13各个方向受力,但是这样会增加设备成本,而且准确度也是难以保证。为此,本实施例还提供一种成本低、准确性高的配平技术方案,无需增加传感器等设备,通过将控制器18配置为检测旋转机构11的输出功率并获取输出功率曲线,根据输出功率曲线的最小功率值控制转动机构14将导向部件15转到目标角度以及通过导向部件15将配重块16移动至目标位置。
具体的,在工件盘12上安装工件之后,通过导向部件15将配重块16移动至初始位置,通过旋转机构11旋转工件盘12;在工件盘12处于旋转状态下,通过转动机构14驱动导向部件15进行转动,可以通过第二电机143驱动;同时检测旋转机构11的第一电机111的第一输出功率,生成导向部件15转动一周360°的第一输出功率曲线,即旋转角度α与输出功率P之间对应的关系曲线;根据第一输出功率曲线的最小值确定导向部件15的目标角度,通过转动机构14将导向部件15转到目标角度上;然后在该目标角度下,再通过导向部件15将配重块16进行一次全行程移动,可以通过第三电机153驱动;继续检测旋转机构11的第一电机111的第二输出功率,并生成配重块16进行全行程移动的第二输出功率曲线,即距离L-输出功率P之间对应的关系曲线;根据第二输出功率曲线的最小值确定配重块16的目标位置,通过导向部件15将配重块16移动至该目标位置;本实施例的详细过程可以参考以下旋转工件盘01的控制方法的实施例方案。
如上所述,基于本申请提供的旋转工件盘01,还提供了旋转工件盘01的控制方法,参考图8所示,图8是一个实施例的旋转工件盘的控制方法流程图,主要包括如下步骤:
步骤S1,在工件盘上安装工件之后,通过导向部件将配重块移动至初始位置,通过旋转机构旋转所述工件盘。
示例性的,用户将待镀膜或刻蚀的工件安装到工件盘12上,在完成工件的安装之后,通过控制器18驱动导向部件15上的第三电机153来将将配重块16移动至初始位置,该位置可以是靠近旋转轴13的位置,然后控制器18控制旋转机构11的第一电机111开始旋转整个工件盘12。
步骤S2,在工件盘处于旋转状态下,转动所述导向部件并根据所述旋转机构的第一输出功率将导向部件转到所述目标角度。
具体的,在工件盘12保持旋转的状态下,通过检测旋转机构11的第一电机111的输出功率,根据该第一输出功率将导向部件15转到目标角度。
在一个实施例中,步骤S2具体可以包括如下:
S201,通过转动机构驱动导向部件进行转动,检测所述旋转机构的第一输出功率,并生成所述导向部件转动一周的第一输出功率曲线。
具体的,控制器18可以控制转动机构14的第二电机143,驱动导向部件15进行转动,同时实时检测第一电机111的第一输出功率,在完成一周360°的旋转之后,可以通过拟合方式生成导向部件15在转动一周360°范围内的第一输出功率曲线,即旋转角度α与输出功率P之间对应的关系曲线。
S202,根据所述第一输出功率曲线的最小值确定导向部件的目标角度,通过转动机构将导向部件转到所述目标角度。
由于导向部件15在转动一周360°中,不同扭矩状态下第一电机111的第一输出功率会不同,当产生的附加重力最小时对应的扭矩最小,第一输出功率也是最小,此时根据第一输出功率曲线的最小值可以确定导向部件15的目标角度,然后再通过转动机构14将导向部件15转到该目标角度上。
步骤S3,在所述目标角度下,移动所述配重块并根据所述旋转机构的第二输出功率将配重块移动至所述目标位置。
具体的,在将导向部件15转到目标角度之后,在导向部件15的行程上移动所述配重块16,通过检测旋转机构11的第一电机111在移动过程中的第二输出功率确定配重块16的目标位置。
在一个实施例中,步骤S3具体可以包括如下:
S301,在所述目标角度下,通过导向部件将配重块进行一次全行程移动,检测所述旋转机构的第二输出功率,并生成所述配重块进行全行程移动的第二输出功率曲线。
具体的,在配重块16位于目标角度下,通过控制器18控制导向部件15的第三电机,将配重块16进行一次全行程移动,同时,实时检测旋转机构11的第一电机111在整个过程中的第二输出功率,可以通过拟合方式生成配重块16在进行全行程移动过程中的第二输出功率曲线,即距离L-输出功率P之间对应的关系曲线。
S302,根据所述第二输出功率曲线的最小值确定配重块的目标位置,通过导向部件将配重块移动至所述目标位置。
在配重块16进行一次全行程移动过程中,配重块16的位置变化会使得重心位置偏移,当重心位置与附加重力m的位置相抵消最多时,第二输出功率也是最小,此时根据第二输出功率曲线的最小值可以确定配重块16的目标位置,然后再通过导向部件15的第三电机将配置块移动到该目标位置上。
步骤S4,启动真空设备对所述旋转工件盘上的工件进行镀膜或刻蚀。
具体的,在完成上述转到目标角度和移动到目标位置之后,此时整个工件盘12达到一个最优平衡状态,然后就可以启动真空设备100的相关部件并开启对旋转工件盘01上的工件进行镀膜或刻蚀的工艺流程。
如上述实施例的方案,通过在镀膜或刻蚀之前旋转安装工件后的工件盘12,通过检测旋转机构11的第一电机111实时的输出功率,拟合了输出功率曲线,利用输出功率曲线的最小值来测定配重块16的最优目标角度和目标位置,然后自动地进行配平处理,采用该技术方案,可以降低设备成本,而且能够获取到准确的测定结果,从而提升了工作效率,也提升了真空设备的镀膜或刻蚀质量和效果。
在一个实施例中,考虑到在镀膜或刻蚀过程中,随着工件重量的变化或其他因素而导致工件盘12整体平衡性的变化,本实施例还提供一种在镀膜或刻蚀中的平衡性微调方案。
基于此,本实施例的旋转工件盘的控制方法,还可以在真空设备进行镀膜或刻蚀过程中,检测所述旋转机构的实时输出功率的变化值;当所述变化值超过设定阈值时,通过所述导向部件移动所述配重块,直至所述变化值小于所述设定阈值。
具体的,预先设定阈值,在真空设备100进行镀膜或刻蚀过程中实时检测旋转机构11的第一电机111的实时输出功率的变化值,当该变化值超过一定设定阈值时,控制器18可以控制导向部件15的第三电机153移动配重块16,一般情况下,将配重块16往远离旋转轴13的方向进行移动,直至所述变化值小于设定阈值时止。
如上述实施例的方案,可以在真空设备进行镀膜或刻蚀过程中对配重块进行微调,从而将整个工件盘保持在最优的平衡状态,从而可以保持整个真空设备的平衡性,提升了镀膜或刻蚀的质量和效果。
下面阐述真空设备的实施例。
本申请提供的一种真空设备100,参考图9所示,图9是一个示例真空设备结构示意图,本申请的真空设备100可以是真空镀膜设备02或真空刻蚀设备03,包括:真空腔室101,内置于真空腔室101的镀膜设备02或者刻蚀设备03,以及前述实施例的旋转工件盘01;另外,还包括离子源04和工控机05,优选的,工控机05可以实现控制器18的功能;其中,旋转工件盘01用于安装待镀膜或待刻蚀的工件,镀膜设备02可以用于对待镀膜的工件进行镀膜,刻蚀设备03可以用于对待镀膜的工件进行刻蚀;旋转工件盘01吊挂在真空腔室101内,在使用时,旋转机构11通过旋转轴13来转动工件盘12。
如图10中,图10是一个示例的真空设备的电气连接图,包括了工控机05,离子源04、镀膜设备02/刻蚀设备03;其中,工控机可以作为控制器18使用,控制第一电机111、第二电机143和第三电机153等;真空设备100可以利用离子源04辅助镀膜/刻蚀,在镀膜/刻蚀开始之前,通过旋转工件盘01并对整个工件盘12自动地进行配平处理。
本实施例的真空设备,可以降低设备成本,而且能够获取到准确的测定结果,从而提升了工作效率,也提升了真空设备的镀膜或刻蚀质量和效果。
本技术领域技术人员可以理解,除非另外定义,这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语),具有与本申请所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是,诸如通用字典中定义的那些术语,应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义,并且除非像这里一样被特定定义,否则不会用理想化或过于正式的含义来解释。
以上所述仅是本申请的部分实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本申请原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本申请的保护范围。
Claims (9)
1.一种旋转工件盘,设于真空设备中,包括旋转机构、工件盘和旋转轴,所述旋转机构通过所述旋转轴连接所述工件盘;其特征在于,在所述旋转轴上设有转动机构,所述转动机构位于工件盘上部位置;
所述转动机构连接一导向部件,所述导向部件在所述工件盘上方沿工件盘直径方向延伸,在所述导向部件上设有配重块;
所述转动机构驱动所述导向部件绕旋转轴轴线进行旋转,使得所述导向部件旋转至相对于工件盘平面上的设定角度位置;
所述导向部件推动所述配重块沿工件盘直径方向进行移动,使得所述配重块移动至距离旋转轴轴线设定距离位置处。
2.根据权利要求1所述的旋转工件盘,其特征在于,所述转动机构包括旋转座、第一齿轮、第二电机以及第二齿轮;
所述第一齿轮固定在旋转轴周围,所述旋转座连接所述导向部件,所述第二电机固定于旋转座上;
所述第二电机连接第二齿轮,所述第二齿轮与所述第一齿轮啮合;
所述第二电机驱动第二齿轮相对于第一齿轮转动,以驱动所述旋转座绕旋转轴轴线进行转动。
3.根据权利要求2所述的旋转工件盘,其特征在于,所述导向部件包括导轨组件和滑动组件;其中,所述滑动组件在导轨组件上进行移动,所述配重块设于滑动组件上;
所述滑动组件内置有第三电机及其连接的第三齿轮,所述导轨组件上设有齿条,所述第三齿轮与所述齿条啮合;
所述第三电机驱动第三齿轮在所述齿条上进行移动,以驱动所述滑动组件将配重块移动至设定位置处。
4.根据权利要求3所述的旋转工件盘,其特征在于,所述旋转座在所述导向部件对向位置还连接有平衡组件;其中,所述平衡组件外形以及重量与导轨组件一致。
5.根据权利要求4所述的旋转工件盘,其特征在于,还包括:分别连接所述旋转机构、转动机构和导向部件的控制器;其中,所述控制器被配置为检测所述旋转机构的输出功率并获取输出功率曲线,根据所述输出功率曲线的最小功率值控制所述转动机构将所述导向部件转到目标角度以及通过所述导向部件将所述配重块移动至目标位置。
6.根据权利要求5所述的旋转工件盘,其特征在于,所述旋转机构内置有第一电机;其中,所述第一电机、第二电机和第三电机分别连接至所述控制器。
7.一种旋转工件盘的控制方法,其特征在于,应用于权利要求1至6任一项所述的旋转工件盘,包括如下步骤:
在工件盘上安装工件之后,通过导向部件将配重块移动至初始位置,通过旋转机构旋转所述工件盘;
在工件盘处于旋转状态下,转动所述导向部件并根据所述旋转机构的第一输出功率将导向部件转到目标角度,包括:通过转动机构驱动导向部件进行转动,检测所述旋转机构的第一输出功率,并生成所述导向部件转动一周的第一输出功率曲线;根据所述第一输出功率曲线的最小值确定导向部件的目标角度,通过转动机构将导向部件转到所述目标角度;
在所述目标角度下,移动所述配重块并根据所述旋转机构的第二输出功率将配重块移动至目标位置,包括:在所述目标角度下,通过导向部件将配重块进行一次全行程移动,检测所述旋转机构的第二输出功率,并生成所述配重块进行全行程移动的第二输出功率曲线;根据所述第二输出功率曲线的最小值确定配重块的目标位置,通过导向部件将配重块移动至所述目标位置;
启动真空设备对所述旋转工件盘上的工件进行镀膜或刻蚀。
8.根据权利要求7所述的旋转工件盘的控制方法,其特征在于,还包括:
在真空设备进行镀膜或刻蚀过程中,检测所述旋转机构的实时输出功率的变化值;
当所述变化值超过设定阈值时,通过所述导向部件移动所述配重块,直至所述变化值小于所述设定阈值。
9.一种真空设备,用于对工件进行镀膜或刻蚀,其特征在于,包括:真空腔室,以及权利要求1-6任一项所述的旋转工件盘;其中,所述旋转工件盘用于安装待处理的工件。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202311652945.7A CN117512552B (zh) | 2023-12-04 | 2023-12-04 | 旋转工件盘及其控制方法、真空设备 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202311652945.7A CN117512552B (zh) | 2023-12-04 | 2023-12-04 | 旋转工件盘及其控制方法、真空设备 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN117512552A CN117512552A (zh) | 2024-02-06 |
| CN117512552B true CN117512552B (zh) | 2025-11-25 |
Family
ID=89743796
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202311652945.7A Active CN117512552B (zh) | 2023-12-04 | 2023-12-04 | 旋转工件盘及其控制方法、真空设备 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN117512552B (zh) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN107964651A (zh) * | 2013-12-16 | 2018-04-27 | 湘潭宏大真空技术股份有限公司 | 一种真空镀膜生产线用旋转平台机构 |
| CN111139442A (zh) * | 2019-12-31 | 2020-05-12 | 中山市博顿光电科技有限公司 | 旋转夹具及真空镀膜设备 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2023
- 2023-12-04 CN CN202311652945.7A patent/CN117512552B/zh active Active
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN117512552A (zh) | 2024-02-06 |
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