CN117505943A - 切削加工膜的制造方法及切削加工膜 - Google Patents

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Abstract

本发明的课题在于，提供能够制造具备具有优异的真直度(直线性)的端面的切削加工膜的切削加工膜的制造方法。本发明的实施方式的切削加工膜的制造方法包括：通过正面铣刀对膜的端面进行切削加工的工序，进行切削加工的工序中的正面铣刀的进给速度为800mm/分钟以下。

Description

切削加工膜的制造方法及切削加工膜
技术领域
本发明涉及切削加工膜的制造方法及切削加工膜。
背景技术
在膜的端面，存在制造膜时产生毛刺等凹凸的可能性。因此，已知通过端面切削加工装置的切削加工来谋求膜的端面的平滑性提高(例如，参照专利文献1)。近年，对各种产业产品期望构件的位置精度提高，随之要求在产品中采用的膜的外缘形状的精度提高。尤其是，有时会要求膜的端面优异的直线性(笔直性)，但膜的端面的直线性提高仍残留有改善的余地。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2018-103276号公报
发明内容
发明所要解决的问题
本发明为了解决上述以往的问题而完成，其主要目的在于提供能够制造具备具有优异的真直度(直线性)的端面的切削加工膜的切削加工膜的制造方法。
用于解决问题的手段
本发明的实施方式的切削加工膜的制造方法包括通过正面铣刀对膜的端面进行切削加工的工序，进行该切削加工的工序中的正面铣刀的进给速度为800mm/分钟以下。
根据上述[1]所述的切削加工膜的制造方法，其中，上述膜是包含第一膜、粘合剂层以及第二膜的层叠膜，上述粘合剂层层叠于该第一膜上，上述第二膜经由该粘合剂层粘贴于该第一膜上，上述进行切削加工的工序中的正面铣刀的进给速度可以为400mm/分钟以上。
根据上述[2]所述的切削加工膜的制造方法，其中，上述第一膜可以为起偏器，上述第二膜可以为相位差层。
根据上述[1]～[3]中任一项所述的切削加工膜的制造方法，其中，在上述进行切削加工的工序中，可以以使通过下述真直度测定得到的端面的真直度成为0.007mm以下的方式对上述端面进行切削加工。
真直度测定：
通过计算机数值控制图像测定系统测定10点上述端面的坐标，根据该10点的坐标计算出近似线，将在与该近似线正交的方向上的近似线与端面之间的间隔的最大值与最小值之差作为真直度。
本发明的其它方面的切削加工膜具有通过正面铣刀进行切削加工得到的端面，通过上述真直度测定得到的端面的真直度为0.007mm以下。
发明效果
根据本发明的实施方式，能够实现切削加工膜的端面的真直度(直线性)的提高。
附图说明
图1是用于本发明的一个实施方式的切削加工膜的制造方法的层叠膜的俯视图。
图2是图1的层叠膜的概略剖视图。
符号说明
1偏振片
11起偏器
2第一相位差层
41第一粘合剂层
100层叠膜
具体实施方式
以下，对本发明的实施方式进行说明，但本发明并不限定于这些实施方式。
(用语及符号的定义)
本说明书中的用语及符号的定义如下所述。
(1)折射率(nx、ny、nz)
“nx”是面内的折射率成为最大的方向(即，慢轴方向)的折射率，“ny”是在面内与慢轴正交的方向(即，快轴方向)的折射率，“nz”是厚度方向的折射率。
(2)面内相位差(Re)
“Re(λ)”是在23℃下的利用波长λnm的光测定的面内相位差。例如，“Re(550)”是在23℃下的利用波长550nm的光测定的面内相位差。Re(λ)是在将层(膜)的厚度设为d(nm)时，利用式：Re(λ)＝(nx-ny)×d求得的。
(3)厚度方向的相位差(Rth)
“Rth(λ)”是在23℃下的利用波长λnm的光测定的厚度方向的相位差。例如，“Rth(550)”是在23℃下的利用波长550nm的光测定的厚度方向的相位差。Rth(λ)是在将层(膜)的厚度设为d(nm)时，利用式：Rth(λ)＝(nx-nz)×d求得的。
(4)Nz系数
Nz系数是利用Nz＝Rth/Re求得的。
(5)角度
在本说明书中提及角度时，该角度包含相对于基准方向顺时针及逆时针这两者。因此，例如“45°”是指±45°。
A.切削加工膜的制造方法的概要
图1是用于本发明的一个实施方式的切削加工膜的制造方法的层叠膜的俯视图；图2是图1的层叠膜的概略剖视图。
本发明的实施方式的切削加工膜的制造方法包括：通过正面铣刀对膜100的端面进行切削加工的工序(切削加工工序)。在切削加工工序中，使正面铣刀相对于膜100的端面进行相对移动，对膜100的端面进行切削。由此，制造具有通过正面铣刀进行了切削加工的端面(切削加工面)的切削加工膜。切削加工工序中的正面铣刀的进给速度(相对于膜的端面的相对移动速度)为800mm/分钟以下，优选为750mm/分钟以下，代表性地为200mm/分钟以上，优选为300mm/分钟以上，更优选为400mm/分钟以上。正面铣刀的进给速度为上述上限以下时，能够谋求切削加工膜的切削加工面的真直度的提高。
真直度是直线性的指标，代表性地通过下述真直度测定来测定。
真直度测定；
通过计算机数值控制图像测定系统对膜的端面的坐标进行10点测定，根据上述10点的坐标计算出近似线，将在与该近似线正交的方向上的近似线与膜的端面之间的间隔的最大值与最小值之差作为真直度。更详细而言，计算出将在与近似线正交的方向上的先测定的10处中的各处与算出的近似线之间的间隔，将这些间隔中的最大值与最小值之差作为真直度(＝最大值-最小值)。计算机数值控制图像测定系统代表性地为Nikon公司制造的NEXIV(商品名)。
切削加工膜的切削加工面的真直度代表性地为0.0070mm以下、优选为0.0065mm以下，更优选为0.0060mm以下。切削加工面的真直度为上述上限以下时，在各种产业产品(代表性地为图像显示装置)中采用切削加工膜时，能够以切削加工面作为基准对切削加工膜进行定位。因此，能够谋求切削加工膜与其它构件的相对位置精度的提高。切削加工面的真直度的下限代表性地为0mm以上，或者例如为0.0010mm以上。即，切削加工工序中，以使膜的端面的真直度成为上述上限以下的方式对端面进行切削加工。
B.膜的详细
在一个实施方式中，在切削加工工序中进行切削的膜是包含第一膜11；层叠于第一膜11的粘合剂层41；以及经由粘合剂层41粘贴于第一膜11上的第二膜2的层叠膜100。即使在包含粘合剂层的层叠膜的端面通过正面铣刀进行切削加工的情况下，正面铣刀的进给速度为上述下限以上时，也能够稳定地抑制切削加工工序中的粘合剂层的欠缺(糊欠缺)。
如图2所示，一个实施方式的层叠膜100具备：作为第一膜的一例的包含起偏器11的偏振片1；层叠于起偏器11上的第一粘合剂层41；作为第二膜的一例、且经由第一粘合剂层41粘贴于起偏器11上的第一相位差层2；经由粘接剂层7粘贴于第一相位差层2的第二相位差层3；以及层叠于第二相位差层3上的第二粘合剂层42。可以在第二粘合剂层42的表面以可剥离的方式暂时粘贴有剥离衬5。可以在偏振片1的与第一相位差层2相反侧的表面粘贴有表面保护膜6。即，图示例的层叠膜100是光学层叠体，其依次具备：表面保护膜6；偏振片1；第一粘合剂层41；第一相位差层2；粘接剂层7；第二相位差层3；第二粘合剂层42；以及剥离衬5。
层叠膜100的总厚度例如为10μm以上，优选为50μm以上，例如为200μm以下，优选为150μm以下。
层叠膜100只要从膜的厚度方向(层叠方向)观察具有以直线延伸的端面，就可以采用任意适当的形状。作为层叠膜的形状，代表性地可举出多边形状，优选可举出四边形状。图1所示的层叠膜100从膜的厚度方向(层叠方向)观察具有长方形状。在图示例的层叠膜中，长边的尺寸代表性地为50mm～500mm，短边的尺寸代表性地为10mm～200mm。
以下，对层叠膜100的构成要素更详细地进行说明。
B-1.偏振片
B-1-1.起偏器
作为起偏器11，可以采用任意适当的起偏器。例如，形成起偏器的树脂膜可以为单层的树脂膜，也可以为两层以上的层叠体。
作为由单层的树脂膜构成的起偏器的具体例，可举出利用碘、二色性染料等二色性物质对聚乙烯醇(PVA)系膜、部分缩甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等亲水性高分子膜实施了染色处理及拉伸处理而得到的起偏器、PVA的脱水处理物、聚氯乙烯的脱盐酸处理物等多烯系取向膜。由于光学特性优异，优选使用用碘对PVA系膜进行染色并进行单轴拉伸而得到的起偏器。
上述利用碘的染色例如通过将PVA系膜浸渍于碘水溶液而进行。上述一轴拉伸的拉伸倍率优选为3～7倍。拉伸可以在染色处理后进行，也可以边染色边进行。另外，还可以在拉伸后进行染色。根据需要，对PVA系膜实施溶胀处理、交联处理、清洗处理、干燥处理等。例如，通过在染色之前将PVA系膜浸渍于水中而进行水洗，不仅可以将PVA系膜表面的污垢、抗粘连剂洗掉，还可以使PVA系膜溶胀而防止染色不均等。
作为使用层叠体得到的起偏器的具体例，可举出使用树脂基材与层叠在该树脂基材上的PVA系树脂层(PVA系树脂膜)的层叠体或树脂基材与涂布形成在该树脂基材上的PVA系树脂层的层叠体而得到的起偏器。使用树脂基材与涂布形成于该树脂基材上的PVA系树脂层的层叠体而得到的起偏器例如可通过如下方式制作：将PVA系树脂溶液涂布在树脂基材上，使其干燥而在树脂基材上形成PVA系树脂层，从而得到树脂基材与PVA系树脂层的层叠体；以及对上述层叠体进行拉伸及染色而将PVA系树脂层制成为起偏器。在本发明的一个实施方式中，优选在树脂基材的单侧形成包含卤化物和聚乙烯醇系树脂的聚乙烯醇系树脂层。拉伸代表性地包含使层叠体浸渍在硼酸水溶液中进行拉伸。进而，拉伸可根据需要进一步包含在硼酸水溶液中进行拉伸前在高温(例如95℃以上)下对层叠体进行空中拉伸。进而，在本发明的一个本实施方式中，优选将层叠体供至一边在长度方向上输送、一边进行加热而使其在宽度方向上收缩2％以上的干燥收缩处理。代表性地，本实施方式的制造方法包含依次对层叠体实施空中辅助拉伸处理、染色处理、水中拉伸处理及干燥收缩处理。通过导入辅助拉伸，即便是在热塑性树脂上涂布PVA时，也可提高PVA的结晶性，可以实现高的光学特性。另外，通过事先同时提高PVA的取向性，可以防止在之后的染色工序或拉伸工序中浸渍于水中时PVA的取向性下降或溶解等问题，可以实现高的光学特性。进而，在将PVA系树脂层浸渍于液体中时，与PVA系树脂层不含卤化物时相比，可以抑制聚乙烯醇分子的取向混乱及取向性的下降。由此，可以提高经过染色处理及水中拉伸处理等将层叠体浸渍于液体进行的处理工序而得到的起偏器的光学特性。进而，通过利用干燥收缩处理使层叠体在宽度方向上收缩，可以提高光学特性。所得到的树脂基材/起偏器的层叠体可直接使用(即，可将树脂基材作为起偏器的保护层)，也可从树脂基材/起偏器的层叠体上剥离树脂基材，在该剥离面上层叠对应于目的的任意适当的保护层后进行使用。这种起偏器的制造方法的详细情况例如记载在日本特开2012-73580号公报、日本专利第6470455号中。这些公报作为参考将其整体记载引用在本说明书中。
起偏器的厚度例如为1μm～80μm，优选为1μm～15μm，更优选为1μm～12μm，进一步优选为3μm～12μm，特别优选为3μm～8μm。起偏器的厚度为这样的范围时，能够良好地抑制加热时的卷曲，并且可得到良好的加热时的外观耐久性。
起偏器优选在波长380nm～780nm中的任意波长下显示吸收二色性。起偏器的单体透射率例如为41.5％～46.0％，优选为43.0％～46.0％，更优选为44.5％～46.0％。起偏器的偏振度优选为97.0％以上，更优选为99.0％以上，进一步优选为99.9％以上。
B-1-2.保护层
如图2所示，除了起偏器11以外，偏振片1还可以具备保护层12。保护层12设置于起偏器11的至少一面。图示例的保护层12配置于起偏器11的与第一相位差层2相反侧。保护层12代表性地经由任意适当的粘接剂层(未图示)贴合于起偏器11。
保护层由可以作为起偏器的保护层使用的任意适当的膜形成。作为成为该膜的主成分的材料的具体例，可举出聚降冰片烯系等环烯烃(COP)系、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)系等聚酯系、三乙酸纤维素(TAC)等纤维素系树脂、聚碳酸酯(PC)系、(甲基)丙烯酸系、聚乙烯醇系、聚酰胺系、聚酰亚胺系、聚醚砜系、聚砜系、聚苯乙烯系、聚烯烃系、乙酸酯系等透明树脂。另外，还可以举出(甲基)丙烯酸系、氨基甲酸酯系、(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯系、环氧系、有机硅系等热固型树脂或紫外线固化型树脂等。此外，“(甲基)丙烯酸系树脂”是指丙烯酸系树脂和/或甲基丙烯酸系树脂。除此以外，例如还可以举出硅氧烷系聚合物等玻璃质系聚合物。另外，也可以使用日本特开2001-343529号公报(WO01/37007)中记载的聚合物膜。作为该膜的材料，例如可以使用含有在侧链具有取代或非取代的酰亚胺基的热塑性树脂、和在侧链具有取代或非取代的苯基及腈基的热塑性树脂的树脂组合物，例如可举出：具有由异丁烯和N-甲基马来酰亚胺形成的交替共聚物、和丙烯腈-苯乙烯共聚物的树脂组合物。该聚合物膜例如可以为上述树脂组合物的挤出成形物。树脂膜的材料可以单独使用或组合使用。
另外，根据需要，可以对保护层12实施硬涂处理、防反射处理、抗粘连处理、防眩处理等表面处理。和/或可以根据需要而对保护层12实施改善隔着偏振光太阳镜进行视觉辨认时的视觉辨认性的处理(代表性地，赋予(椭)圆偏振光功能、赋予超高相位差)。
保护层的厚度代表性地为5mm以下，优选为1mm以下，更优选为1μm～500μm，进一步优选为5μm～150μm。
B-2.第一相位差层及第二相位差层
第一相位差层2经由第一粘合剂层41贴合于偏振片1(起偏器11)。第二相位差层3位于第一相位差层2的与偏振片1相反侧，并且经由粘接剂层7贴合于第一相位差层2。
第一相位差层2及第二相位差层3分别代表性地为液晶化合物的取向固化层。通过使用液晶化合物，由于与非液晶材料相比可以格外地增大所得到的相位差层的nx与ny之差，因此可以格外地减小用于得到期望的面内相位差的相位差层的厚度。其结果是，可以实现带相位差层的偏振片的显著薄型化。本说明书中，“取向固化层”是指液晶化合物在层内在规定方向上进行取向、且其取向状态被固定的层。此外，“取向固化层”是包含如后所述使液晶单体固化而得到的取向固化层的概念。在第一相位差层2及第二相位差层3中，代表性地，棒状的液晶化合物以在第一相位差层或第二相位差层的慢轴方向上排列的状态进行取向(均匀取向)。
作为液晶化合物，例如可举出液晶相为向列相的液晶化合物(向列型液晶)。作为这种液晶化合物，例如可以使用液晶聚合物或液晶单体。液晶化合物的液晶性的显现机制可以是溶致性和热致性中的任一种。液晶聚合物及液晶单体可以分别单独使用，还可以组合。
液晶化合物为液晶单体时，上述液晶单体优选为聚合性单体及交联性单体。其原因在于，通过使液晶单体聚合或交联(即固化)，可以将液晶单体的取向状态固定。使液晶单体取向之后，例如如果使液晶单体彼此聚合或交联，则由此可以将上述取向状态固定。这里，通过聚合来形成聚合物，通过交联来形成三维网眼结构，但它们是非液晶性的。因此，所形成的相位差层不会发生例如液晶性化合物所特有的因温度变化所产生的向液晶相、玻璃相、结晶相的转移。其结果是，相位差层变为不会受温度变化所影响、稳定性极为优异的相位差层。
液晶单体显示液晶性的温度范围随其种类而不同。具体而言，该温度范围优选为40℃～120℃，进一步优选为50℃～100℃，最优选为60℃～90℃。
作为上述液晶单体，可以采用任意适当的液晶单体。例如，可以使用日本特表2002-533742(WO00/37585)、EP358208(US5211877)、EP66137(US4388453)、WO93/22397、EP0261712、DE19504224、DE4408171、及GB2280445等中记载的聚合性介晶化合物。作为这种聚合性介晶化合物的具体例子，例如可举出BASF公司的商品名LC242、Merck公司的商品名E7、Wacker-Chem公司的商品名LC-Sillicon-CC3767。作为液晶单体，例如优选向列性液晶单体。
液晶取向固化层可以通过对规定的基材的表面实施取向处理、在该表面涂敷包含液晶化合物的涂敷液、使该液晶化合物在对应于上述取向处理的方向上取向、将该取向状态固定而形成。一个实施方式中，基材是任意适当的树脂膜，形成于该基材上的液晶取向固化层(第一相位差层2)可以通过第一粘合剂层41转印至偏振片1的表面。同样，形成于基材上的液晶取向固化层(第二相位差层3)可以通过粘接剂层7转印至第一相位差层2的表面。
作为上述取向处理，可以采用任意适当的取向处理。具体地说，可举出机械取向处理、物理取向处理、化学取向处理。作为机械取向处理的具体例子，可举出摩擦处理、拉伸处理。作为物理取向处理的具体例子，可举出磁场取向处理、电场取向处理。作为化学取向处理的具体例子，可举出斜方蒸镀法、光取向处理。各种取向处理的处理条件可以根据目的采用任意适当的条件。
液晶化合物的取向通过根据液晶化合物的种类、在显示液晶相的温度下进行处理来实施。通过进行这种温度处理，液晶化合物采取液晶状态，根据基材表面的取向处理方向，该液晶化合物进行取向。
取向状态的固定在一个实施方式中通过对如上取向的液晶化合物进行冷却来实施。当液晶化合物为聚合性单体或交联性单体时，取向状态的固定通过对如上取向的液晶化合物实施聚合处理或交联处理来进行。
液晶化合物的具体例及取向固化层的形成方法的详细情况记载于日本特开2006-163343号公报中。该公报的记载作为参考引用在说明书中。
第一相位差层及第二相位差层分别代表性地折射率特性显示nx＞ny＝nz的关系。此外，“ny＝nz”不仅是ny与nz完全相等的情况，还包含实质上相等的情况。因此，在不损害本发明效果的范围内，可以有ny＞nz或ny＜nz的情况。
代表性地，第一相位差层2或第二相位差层3中的任一者可作为λ/2板发挥功能，另一者可作为λ/4板发挥功能。这里，对第一相位差层2可作为λ/2板发挥功能、第二相位差层3可作为λ/4板发挥功能的情况进行说明，但它们也可以相反。在第一相位差层2可作为λ/2板发挥功能、第二相位差层3可作为λ/4板发挥功能的情况下，第一相位差层2的面内相位差Re(550)优选为200nm～300nm，更优选为230nm～290nm，进一步优选为250nm～280nm。第一相位差层2的慢轴与起偏器11的吸收轴所成的角度优选为10°～20°，更优选为12°～18°，进一步优选为约15°。第二相位差层3的面内相位差Re(550)优选为100nm～190nm，更优选为110nm～170nm，进一步优选为130nm～160nm。第二相位差层3的慢轴与起偏器11的吸收轴所成的角度优选为70°～80°，更优选为72°～78°，进一步优选为约75°。如果为这样的构成，则能够得到接近理想的逆波长分散特性的特性，其结果是，能够实现非常优异的防反射特性。
第一相位差层2的厚度可以以可得到λ/2板的期望的面内相位差的方式进行调整，例如可以为1.5μm～2.5μm。第二相位差层3的厚度可以以可得到λ/4板的期望的面内相位差的方式进行调整，例如可以为0.5μm～1.5μm。
第一相位差层及第二相位差层各自的Nz系数优选为0.9～1.5，更优选为0.9～1.3。通过满足这样的关系，在将得到的切削加工膜用于图像显示装置的情况下，能够实现非常优异的反射色相。
第一相位差层及第二相位差层分别可以显示相位差值对应于测定光的波长而增大的逆分散波长特性，也可以显示相位差值对应于测定光的波长而减小的正波长分散特性，还可以显示相位差值几乎不会因测定光的波长而变化的平坦的波长分散特性。
B-3.粘接剂层
粘接剂层7将第一相位差层2与第二相位差层3贴合。作为构成粘接剂层的粘接剂，可采用任意适当的粘接剂。作为粘接剂，代表性地可举出活性能量射线固化型粘接剂。作为活性能量射线固化型粘接剂，例如可举出：紫外线固化型粘接剂、电子束固化型粘接剂。另外，从固化机理的观点考虑，作为活性能量射线固化型粘接剂，例如可举出自由基固化型、阳离子固化型、阴离子固化型、自由基固化型与阳离子固化型的混合。代表性地，可使用自由基固化型的紫外线固化型粘接剂。这是因为通用性优异、及特性(构成)的调整容易。粘接剂层(粘接剂固化后)的厚度代表性地为0.1μm～3.0μm。粘接剂的详细情况例如记载于日本特开2018-017996号公报。该公报的记载作为参考引用在说明书中。
B-4.粘合剂层
第一粘合剂层41位于起偏器11与第一相位差层2之间，并将它们贴合。第二粘合剂层42设置于第二相位差层3的与第一相位差层2相反侧的表面。
第一粘合剂层41及第二粘合剂层42各自在25℃下的储能模量优选为1.0×104Pa～1.0×106Pa，更优选为1.0×104Pa～2.0×105Pa。粘合剂层的储能模量为这样的范围时，在切削加工工序中，能够稳定地抑制在粘合剂层发生欠缺。
第一粘合剂层41及第二粘合剂层42分别由粘合剂构成。作为粘合剂，可以采用任意适当的构成。作为构成粘合剂层的粘合剂的具体例，可举出丙烯酸系粘合剂、橡胶系粘合剂、有机硅系粘合剂、聚酯系粘合剂、氨基甲酸酯系粘合剂、环氧系粘合剂、及聚醚系粘合剂。通过调整形成粘合剂的基础树脂的单体的种类、数量、组合及配比、以及交联剂的配合量、反应温度、反应时间等，可以制备具有对应于目的的期望特性的粘合剂。粘合剂的基础树脂可以单独使用，也可以组合两种以上使用。从透明性、加工性及耐久性等观点考虑，优选丙烯酸系粘合剂(丙烯酸系粘合剂组合物)。丙烯酸系粘合剂组合物代表性地包含(甲基)丙烯酸系聚合物作为主成分。(甲基)丙烯酸系聚合物在粘合剂组合物的固体成分中例如可以以50质量％以上、优选以70质量％以上、更优选以90质量％以上的比例包含于粘合剂组合物中。(甲基)丙烯酸系聚合物含有作为主成分的(甲基)丙烯酸烷基酯作为单体单元。此外，(甲基)丙烯酸酯是指丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯。(甲基)丙烯酸烷基酯在形成(甲基)丙烯酸系聚合物的单体成分中优选可以以80质量％以上、更优选以90质量％以上的比例含有。作为(甲基)丙烯酸烷基酯的烷基，例如可举出具有1个～18个碳原子的直链状或支链状的烷基。该烷基的平均碳原子数优选为3个～9个，更优选为3个～6个。优选的(甲基)丙烯酸烷基酯是丙烯酸丁酯。作为构成(甲基)丙烯酸系聚合物的单体(共聚单体)，除了(甲基)丙烯酸烷基酯以外，可举出含羧基单体、含羟基单体、含酰胺基单体、含芳香环(甲基)丙烯酸酯、含杂环乙烯基系单体等。作为共聚单体的代表例，可举出丙烯酸、丙烯酸4-羟基丁酯、丙烯酸苯氧基乙酯、N-乙烯基-2-吡咯烷酮。丙烯酸系粘合剂组合物优选可含有硅烷偶联剂和/或交联剂。作为硅烷偶联剂，例如可举出含环氧基硅烷偶联剂。作为交联剂，例如可举出：异氰酸酯系交联剂、过氧化物系交联剂。此外，丙烯酸系粘合剂组合物可以含有抗氧化剂和/或导电剂。粘合剂层或丙烯酸系粘合剂组合物的详细情况例如记载于日本特开2006-183022号公报、日本特开2015-199942号公报、日本特开2018-053114号公报、日本特开2016-190996号公报、国际公开第2018/008712号，这些公报的记载作为参考引用在本说明书中。
第一粘合剂层41的厚度例如为3μm～30μm，优选为5μm～20μm。第二粘合剂层42的厚度例如为5μm～40μm，优选为10μm～20μm。
B-5.表面保护膜
在图示例中，表面保护膜6粘贴于偏振片1的保护层12。表面保护膜6代表性地具备基材61和粘合剂层62。作为基材61的材料，例如可举出与构成保护层12的树脂同样的树脂。粘合剂层62将表面保护膜6的基材61粘贴于保护层12。粘合剂层62与上述的粘合剂层41、42同样地进行说明。
B-6.剥离衬
剥离衬5暂时粘贴于第二粘合剂层42的表面。剥离衬5由可作为剥离衬使用的任意适当的树脂膜。作为成为该树脂膜的主成分的材料的具体例，可举出聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚乙烯、聚丙烯。树脂膜的材料可以单独使用或组合使用。可以在剥离衬5的与第二粘合剂层42的接触面设置脱模处理层。作为形成脱模处理层的脱模处理剂，例如可举出：有机硅系脱模处理剂、氟系脱模处理剂、长链烷基丙烯酸酯系剥离剂。脱模处理剂可以单独使用或组合使用。
剥离衬5的厚度例如为5μm～60μm，优选为20μm～45μm。此外，在实施脱模处理层的情况下，剥离衬的厚度是包含脱模处理层的厚度的厚度。
C.切削加工工序的详细
在一个实施方式中，在切削加工工序中，通过正面铣刀对上述的层叠膜100的端面进行切削加工。这样的切削加工工序可以通过任意适当的端面切削加工装置来实施。作为端面切削加工装置，例如可举出日本特开2018-103276号公报中记载的端面切削加工装置。该公报作为参考将其整体记载引用在本说明书中。
在切削加工工序，使正面铣刀以上述的进给速度相对于层叠膜100的端面进行相对移动。可以在层叠膜100固定于端面切削加工装置的状态下使正面铣刀移动，也可以在正面铣刀固定的状态下使层叠膜100移动。对于正面铣刀而言，代表性地使固定于端面切削加工装置的状态的膜100的周围以上述的进给速度沿着一个方向(优选为俯视时顺时针方向或逆时针方向)移动，对层叠膜100的整个端面进行切削。
在切削加工工序中，正面铣刀以在与层叠膜100的层叠方向正交的方向延伸的轴线作为中心进行旋转。正面铣刀的旋转速度代表性地为3000rpm～6000rpm，优选为4000rpm～5000rpm。
正面铣刀的刀数没有特别限定，例如为1片～5片，优选为2片～4片。
正面铣刀的前角(径向前角)代表性地为5°～35°，优选为10°～30°。
正面铣刀的安装角(轴向前角)代表性地为0°～20°，优选为5°～15°。
正面铣刀的后角代表性地为1°～20°，优选为1°～10°。
如果在上述条件下实施切削加工工序，则能够稳定地提高进行了切削加工的端面(切削加工面)的真直度。由此，可制造切削加工膜(切削加工层叠膜)。切削加工膜(切削加工层叠膜)所具备的切削加工面中的至少一个具有上述的范围的真直度。在图示例的长方形状的切削加工膜(切削加工层叠膜)中，优选短边侧的切削加工面具有上述的范围的真直度。长边侧的切削加工面的真直度可以在上述的范围内，也可以在上述的范围外。另外，切削加工面可以具有由正面铣刀形成的切削痕迹。切削痕迹可以在与膜的厚度方向交叉的方向(代表性地为圆弧状)上延伸。
D.图像显示装置
上述A项～C项中记载的切削加工膜(代表性地为切削加工层叠膜)可以应用于图像显示装置。因此，包含切削加工膜的图像显示装置也包括在本发明的实施方式中。图像显示装置代表性地包含：图像显示单元、和经由粘合剂层贴合于图像显示单元的切削加工膜。切削加工膜的端面(特别是短边侧的切削加工面)的真直度优异，因此，能够以切削加工膜的端面(特别是短边侧的切削加工面)作为基准而粘贴于图像显示单元。因此，能够谋求图像显示单元与切削加工膜的相对位置精度的提高。在切削加工膜为切削加工层叠膜的情况下，切削加工层叠膜代表性地在从第二粘合剂层剥离了剥离衬后、经由第二粘合剂层粘贴于图像显示单元。另外，表面保护膜可以在使用切削加工层叠膜之前剥离，也可以在贴合于偏振片的表面的状态下直接使用。作为图像显示装置的代表例，可举出液晶显示装置、电致发光(EL)显示装置(例如，有机EL显示装置、无机EL显示装置)。
实施例
以下，通过实施例具体地说明本发明，但本发明并不限定于这些实施例。各特性的测定方法如下所述。此外，只要无特别标明，则实施例及比较例中的“份”及“％”为质量基准。
(1)厚度
10μm以下的厚度使用干涉膜厚计(大塚电子公司制、产品名“MCPD-3000”)测定。超过10μm的厚度使用数字测微计(Anritsu公司制、产品名“KC-351C”)测定。
(2)真直度
对实施例及比较例的切削加工膜(光学层叠体)中的20个样品分别如下所述地计算出真直度。通过计算机数值控制图像测定系统(Nikon公司制、产品名“NEXIV”)对切削加工膜的短边侧的端面的坐标进行10点测定，根据10点的坐标计算出近似线。接下来，将与该近似线正交的方向(长边方向)上的近似线与端面(具体为先测定的10点中的各处)之间的间隔的最大值与最小值之差作为真直度。
另外，将各实施例(或比较例1)中的20个样品的真直度供于利用Smirnov-grubbs检验的异常检验，将真直度成为异常值(p＜0.05)的数据排除，计算出真直度的平均值。在实施例1及实施例2中，计算出除成为异常值的2个样品以外的18个样品的平均值。在实施例3及实施例4中，计算出除成为异常值的1个样品以外的19个样品的平均值。在比较例1中，没有异常值，因此，计算出20个样品的平均值。将其结果示于表1。
(3)表面保护膜的浮起(SPV浮起)
通过光学显微镜从表面保护膜侧对实施例及比较例的切削加工膜(光学层叠体)进行观测，测定表面保护膜的浮起的长度。
〇(优)：SPV的浮起为50μm以下。
△(合格)：SPV的浮起超过50μm。
(4)粘合剂层的欠缺(糊欠缺)
通过光学显微镜，在将表面保护膜剥离的状态下对实施例及比较例的切削加工膜(光学层叠体)进行观察，测定粘合剂层的欠缺的长度。
〇(优)：糊欠缺为70μm以下。
△(合格)：糊欠缺超过70μm。
[制备例1]
1.偏振片的制作
作为热塑性树脂基材，使用长条状、Tg约为75℃的非晶质的间苯二甲酸共聚聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(厚度：100μm)，对树脂基材的单面实施电晕处理。
在以9：1混合有聚乙烯醇(聚合度为4200、皂化度为99.2摩尔％)和乙酰乙酰基改性PVA(日本合成化学工业公司制、商品名“GOHSEFIMER”)的PVA系树脂100质量份中添加碘化钾13质量份，将其溶在水中，制备PVA水溶液(涂布液)。
在树脂基材的电晕处理面上涂布上述PVA水溶液，在60℃下进行干燥，从而形成厚度为13μm的PVA系树脂层，制作层叠体。
将所得到的层叠体在130℃的烘箱内在纵向(长度方向)上单轴拉伸至2.4倍(空中辅助拉伸处理)。
接着，将层叠体浸渍在液温为40℃的不溶化浴(相对于水100质量份配合4质量份的硼酸而得到的硼酸水溶液)中30秒钟(不溶化处理)。
接着，在液温为30℃的染色浴(相对于水100质量份，以1:7的重量比配合碘和碘化钾而得到的碘水溶液)中，一边按照最终得到的起偏器的单体透过率(Ts)成为期望的值的方式调整浓度，一边浸渍60秒钟(染色处理)。
接着，在液温为40℃的交联浴(相对于水100质量份配合3质量份的碘化钾、配合5质量份的硼酸而得到的硼酸水溶液)中浸渍30秒钟(交联处理)。
之后，一边将层叠体浸渍于液温为70℃的硼酸水溶液(硼酸浓度为4重量％、碘化钾浓度为5重量％)，一边在圆周速度不同的轧辊之间按照在纵方向(长度方向)上总拉伸倍率达到5.5倍的方式进行单轴拉伸(水中拉伸处理)。
之后，将层叠体浸渍于液温为20℃的清洗浴(相对于水100质量份配合4质量份的碘化钾而得到的水溶液)中(清洗处理)。
之后，在保持于约90℃的烘箱中进行干燥，同时使其接触表面温度保持在约75℃的SUS制加热辊(干燥收缩处理)。
如此地，在树脂基材上形成厚度约为5μm的起偏器，得到了具有树脂基材/起偏器的构成的层叠体。
在所得到的层叠体的起偏器表面(与树脂基材相反侧的面)上贴合HC-TAC膜(厚度为20μm)作为保护层。接着，将树脂基材剥离，得到具有保护层/起偏器/的构成的偏振片。
2.第一相位差层及第二相位差层的制作
将显示向列型液晶相的聚合性液晶(BASF公司制：商品名“Paliocolor LC242”、用下述式表示)10g和针对该聚合性液晶化合物的光聚合引发剂(BASF公司制：商品名“Irgacure907”)3g溶解在甲苯40g中，制备液晶组合物(涂敷液)。
[化学式1]
使用摩擦布摩擦聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜(厚度为38μm)表面，实施取向处理。取向处理的方向是在粘贴于偏振片时、相对于起偏器的吸收轴方向、从可视侧观察成为15°的方向。利用棒涂机将上述液晶涂敷液涂敷在该取向处理表面上，在90℃下加热干燥2分钟，从而使液晶化合物取向。对如此形成的液晶层使用金属卤化物灯照射1mJ/cm2的光，使该液晶层固化，从而在PET膜上形成液晶取向固化层A。液晶取向固化层A的厚度为2μm，面内相位差Re(550)为270nm。此外，液晶取向固化层A具有nx＞ny＝nz的折射率分布。将液晶取向固化层A用作第一相位差层。
除了改变涂敷厚度、及使取向处理方向相对于起偏器的吸收轴方向从可视侧观察成为75°方向之外，与上述同样地在PET膜上形成液晶取向固化层B。液晶取向固化层B的厚度为1μm、面内相位差Re(550)为140nm。进而，液晶取向固化层B具有nx＞ny＝nz的折射率分布。将液晶取向固化层B用作第二相位差层。
3.层叠体膜的制作
在上述1.中得到的偏振片的起偏器表面依次转印上述2.中得到的液晶取向固化层A(第一相位差层)及液晶取向固化层B(第二相位差层)。此时，按照起偏器的吸收轴与取向固化层A的慢轴所成的角度为15°、起偏器的吸收轴与取向固化层B的慢轴所成的角度为75°的方式进行转印(贴合)。此外，液晶取向固化层A(第一相位差层)经由丙烯酸系粘合剂层(厚度5μm、25℃下的储能模量1.4×105Pa、第一粘合剂层)转印(贴合)至起偏器。液晶取向固化层B(第二相位差层)经由紫外线固化型粘接剂层(厚度1.0μm、粘接剂层)转印(贴合)至液晶取向固化层A。另外，在液晶取向固化层B(第二相位差层)的表面配置丙烯酸系粘合剂层(厚度20μm、25℃下的储能模量1.4×105Pa、第二粘合剂层)。之后，在该丙烯酸系粘合剂层(第二粘合剂层)的表面粘贴剥离衬(设置有剥离处理层的聚对苯二甲酸乙二醇酯系树脂膜)。最后，将具备基材(聚对苯二甲酸乙二醇酯系树脂膜)；和层叠于基材的丙烯酸系粘合剂层的表面保护膜粘贴于偏振片的保护层。
通过以上操作，得到具有表面保护膜/偏振片/第一粘合剂层/第一相位差层/粘接剂层/第二相位差层/第二粘合剂层/剥离衬的构成的层叠膜。层叠膜从层叠方向观察具有长方形状。层叠膜的长边的尺寸为200mm，层叠膜的短边的尺寸为100mm。
[实施例1～4及比较例1]
将制备例1中得到的层叠膜设置于端面切削加工装置。详细而言，两个保持部以0.17MPa的夹固压力将层叠膜在厚度方向上夹持并保持。接着，在下述切削条件下通过正面铣刀对层叠膜的端面进行切削加工。切削加工中，正面铣刀以表1所示的进给速度相对于层叠膜的端面进行相对移动。由此，得到切削加工膜(光学层叠体)。此外，在各进给速度下，准备20个样品(切削加工膜)。
＜切削条件＞
刀数：3片
前角/安装角/后角：20°/10°/6°
旋转速度：4500rpm
最大切削量：0.8+0.2mm(2次加工)
[评价]
根据表1可以明确，根据本发明的实施例，通过将正面铣刀的进给速度设为800mm/分钟以下，能够提高端面的真直度。另外可知，如果将正面铣刀的进给速度设为400mm/分钟以上，则能够抑制表面保护膜的浮起及粘合剂层的欠缺。
产业上的可利用性
本发明的切削加工膜的制造方法可以制造用于各种产业产品的切削加工膜、特别是切削加工层叠膜。切削加工层叠膜可以适当地用于液晶显示装置、有机EL显示装置及无机EL显示装置等显示装置。

Claims (5)

1.一种切削加工膜的制造方法，其包括通过正面铣刀对膜的端面进行切削加工的工序，
所述进行切削加工的工序中的所述正面铣刀的进给速度为800mm/分钟以下。
2.根据权利要求1所述的切削加工膜的制造方法，其中，
所述膜是包含第一膜、粘合剂层以及第二膜的层叠膜，所述粘合剂层层叠于所述第一膜上，所述第二膜经由所述粘合剂层粘贴于所述第一膜上，
所述进行切削加工的工序中的所述正面铣刀的进给速度为400mm/分钟以上。
3.根据权利要求2所述的切削加工膜的制造方法，其中，
所述第一膜为起偏器，
所述第二膜为相位差层。
4.根据权利要求1所述的切削加工膜的制造方法，其中，
在所述进行切削加工的工序中，以使通过下述真直度测定得到的所述端面的真直度成为0.007mm以下的方式对所述端面进行切削加工，
真直度测定：
通过计算机数值控制图像测定系统测定10点所述端面的坐标，根据所述10点的坐标计算出近似线，将在与所述近似线正交的方向上的所述近似线与所述端面之间的间隔的最大值与最小值之差作为真直度。
5.一种切削加工膜，其具有通过正面铣刀进行切削加工得到的端面，通过下述真直度测定得到的所述端面的真直度为0.007mm以下，
真直度测定：
通过计算机数值控制图像测定系统测定10点所述端面的坐标，根据所述10点的坐标计算出近似线，将在与所述近似线正交的方向上的所述近似线与所述端面之间的间隔的最大值与最小值之差作为真直度。
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